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    • 25. 发明公开
    • 자기 저장 트랙 및 자기 메모리
    • 磁存储轨道和磁存储器
    • KR1020170031162A
    • 2017-03-20
    • KR1020177003258
    • 2015-07-08
    • 후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드
    • 린,인인양,카이장,수제자오,쥔펀양,웨이푸,야룽
    • G11C11/15G11C5/02
    • G11C11/161G11B5/02G11C11/15G11C11/1659G11C11/1673G11C11/1675G11C11/1697H01L27/228H01L43/02
    • 복수의적층형저장트랙유닛들(22)을포함하는자기저장트랙(20) 및자기메모리로서; 2개의이웃하는저장트랙유닛들(22) 사이에는전이층(23)이배치되고; 전이층(23)은절연재료상에퇴적되는반도체재료에의해형성되고, 게이팅회로(231) 및판독/기입디바이스(232)를포함한다. 자기저장트랙(20)은복수의적층형저장트랙유닛들(22)을포함하기때문에, 자기저장트랙(20)의길이는복수의저장트랙유닛들(22)의길이들에의해결정된다. 그러므로, 저장트랙유닛들(22)의수를증가시키는것에의해자기저장트랙(20)의길이가증가될수 있고, 따라서저장트랙유닛들(22)의길이들을증가시키는것을회피하고, 자기저장트랙(20)의길이를증가시키는것에의해야기되는제조공정어려움이증가된다는기술적문제점을해결하는한편, 자기저장트랙(20)의저장용량을향상시킨다.
    • 一种磁存储轨道(20),包括多个堆叠的存储轨道单元(22)和磁存储器; 过渡层(23)插在两个相邻的存储轨道单元(22)之间; 过渡层23由沉积在绝缘材料上的半导体材料形成并且包括选通电路231和读/写装置232。 因为磁存储轨道20包括堆垛数量的堆叠的存储轨道单元22,所以磁存储轨道20的路径由多个存储轨道单元22的长度确定。 因此,通过增加存储轨道单元22的数量,可以增加磁性存储轨道20的长度,从而避免增加存储轨道单元22的数量, 从而增加了磁存储轨道20的存储容量,同时解决了由于增加轨道数量而导致的制造工艺难度增加的技术问题。
    • 27. 发明公开
    • 기입 디바이스 및 자기 메모리
    • 写设备和磁记忆
    • KR1020160145760A
    • 2016-12-20
    • KR1020167032278
    • 2015-04-22
    • 후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드
    • 푸,야룽자오,쥔펑왕,위안강양,웨이린,인인양,카이
    • G11B5/012G11B5/65
    • G11C11/1675G11B5/012G11B5/653G11B5/656G11C11/16G11C19/0841
    • 기입디바이스및 자기메모리가제공된다. 기입디바이스는제1 구동포트, 제2 구동포트, 제1 정보저장영역, 제2 정보저장영역및 정보캐싱영역을포함하고, 제1 정보저장영역과정보캐싱영역사이에제1 영역이존재하고, 제2 정보저장영역과정보캐싱영역사이에제2 영역이존재하고, 제1 정보저장영역, 제2 정보저장영역및 정보캐싱영역은제1 자기재료로구성되고, 제1 영역및 제2 영역은제2 자기재료로구성되고, 제1 자기재료의자기에너지는제2 자기재료의자기에너지보다높고, 제1 정보저장영역은제1 데이터를정보캐싱영역에기입하는데 사용되고, 제2 정보저장영역은제2 데이터를정보캐싱영역에기입하는데 사용되고, 정보캐싱영역은제1 정보저장영역또는제2 정보저장영역으로부터기입된데이터를캐싱하고, 캐싱된데이터를자기메모리의자기도메인에기입하는데 사용된다. 자기메모리의기입안정성이보증될수 있다.
    • 本发明的实施例提供一种写装置和磁存储器,其中写装置包括:第一驱动端口,第二驱动端口,第一信息存储区域,第二信息存储区域和信息缓冲器,其中存在 在第一信息存储区域和信息缓冲器之间的第一区域中,在第二信息存储区域和信息缓冲器之间存在第二区域,第一信息存储区域,第二信息存储区域和信息缓冲器由 第一磁性材料,第一区域和第二区域由第二磁性材料制成,并且第一磁性材料的磁能高于第二磁性材料的磁能; 第一信息存储区域被配置为将第一数据写入信息缓冲器; 第二信息存储区域被配置为将第二数据写入信息缓冲器; 并且信息缓冲器被配置为缓冲从第一信息存储区域或第二信息存储区域写入的数据,并将缓冲的数据写入磁存储器的磁畴,这可以确保磁存储器的写入稳定性。
    • 30. 发明公开
    • 전자 장치
    • 电子设备
    • KR1020160122912A
    • 2016-10-25
    • KR1020150052568
    • 2015-04-14
    • 에스케이하이닉스 주식회사
    • 이재연김동준
    • G11C11/15G11C11/16G06F9/30G06F12/06
    • H01L27/228G06F3/061G06F3/0647G06F3/0679G06F12/0802G06F2212/1016G06F2212/2024G11C11/161G11C11/1655G11C11/1659G11C11/1673G11C11/1675
    • 반도체메모리를포함하는전자장치가제공된다. 본발명의일 실시예에따른반도체메모리를포함하는전자장치는, 제2 방향에서인접한제1 및제2 활성영역; 상기제1 및제2 활성영역을가로지르도록상기제2 방향으로연장하는게이트구조물; 상기게이트구조물의일측및 타측의상기제1 활성영역내에각각형성된제1 소스영역및 제1 드레인영역; 상기게이트구조물의일측및 타측의상기제2 활성영역내에각각형성된제2 소스영역및 제2 드레인영역; 상기제1 및제2 소스영역상에서상기제1 및제2 소스영역과공통적으로접속하는소스라인콘택; 상기소스라인콘택상에서상기소스라인콘택과접속하면서상기제2 방향과교차하는제1 방향으로연장하는소스라인; 상기제1 및제2 드레인영역상에서상기제1 및제2 드레인영역각각과접속하고, 하부전극콘택, 가변저항소자및 상부전극콘택이적층된제1 및제2 적층구조물; 및상기제1 및제2 적층구조물상에서상기제1 및제2 적층구조물각각과접속하면서상기제1 방향으로연장하는제1 및제2 비트라인을포함한다.
    • 可以提供电子设备以包括:在第二方向上彼此相邻布置的第一和第二有源区域; 栅极结构在第二方向延伸; 形成在所述第一有源区中的第一源极区域和第一漏极区域; 第二源区和第二漏区,形成在第二有源区中; 源极线接触,形成在所述第一和第二源极区域上并连接到所述第一和第二源极区域; 源极线,连接到源极线上的源极线接触并在第一方向上延伸; 形成在第一和第二漏极区上的第一和第二堆叠结构; 以及形成在所述第一和第二堆叠结构上的第一和第二位线,其中所述第一和第二位线沿所述第一方向延伸。