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热词
    • 4. 发明公开
    • 제로 트랜지스터 횡전류 양방향 비트 셀
    • ZERO晶体管横向电流双向BITCELL
    • KR20180022540A
    • 2018-03-06
    • KR20170037376
    • 2017-03-24
    • SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
    • HATCHER RYAN MICHAEL
    • H01L43/02G11C11/16H01L43/08H01L43/10
    • G11C11/1673G11C11/161G11C11/1653G11C11/1655G11C11/1657G11C11/1659G11C11/1675G11C11/1677G11C11/18
    • 전하상태를저장하는횡전류양방향비트셀이제공된다. 횡전류양방향비트셀은, 충전전류(charge current)를통과시키는스핀홀 금속, 스핀홀 금속상에배치되고, 스핀홀 금속을통과하는충전전류에응답하여이진(binary) 비트에대응하는비휘발성스핀상태를생성및 저장하고, 판독전압의인가에응답하여비휘발성스핀상태에대응하는충전전류를유도하는자기터널접합부스택, 서로반대극성을갖는한 쌍의기록다이오드를통해스핀홀 금속에각각전기적으로연결되고, 각각에인가되는기록전압에응답하여기록동작동안스핀홀 금속을통해충전전류를공급하고, 서로전기적으로절연되는제1 및제2 기록비트라인, 판독다이오드를통해자기터널접합부스택에전기적으로연결되고, 인가되는판독전압에응답하여판독동작동안스핀홀 금속을통해충전전류를유도하는판독비트라인, 및서로반대극성을갖는한 쌍의액세스다이오드를통해스핀홀 금속각각에전기적으로연결되고, 각각에인가되는동일한전압에응답하여스핀홀 금속을통한충전전류의흐름을허용하는제1 및제2 워드라인을포함한다.
    • 用于存储电荷状态的位单元,所述位单元包括用于通过充电电流的自旋霍尔金属,磁隧道结(MTJ)堆栈,用于响应于通过所述二进制位而生成和存储对应于二进制位的非易失性自旋状态 通过自旋霍尔金属的充电电流,以及响应于施加读取电压而引起对应于非易失性自旋状态的充电电流,第一和第二写入位线用于响应于 写入电压被施加到第一写入位线和第二写入位线两者,以及读取位线,用于响应于读取电压被施加到读取位线而感应通过自旋霍尔金属的充电电流,以及第一字线和第二字线 用于允许充电电流流过自旋门厅金属。
    • 5. 发明公开
    • 비트 셀 상태 유지
    • 保持位单元状态
    • KR1020170140176A
    • 2017-12-20
    • KR1020177026805
    • 2016-02-19
    • 인텔 코포레이션
    • 오거스틴,찰스도미시마,시게끼샨츠,제임스더블유.루,쉬-리엔엘.
    • G11C11/16
    • G11C11/1659G11C11/1657G11C11/1673G11C11/1675G11C11/1693
    • 본개시내용의다양한실시예에따라서, STT(spin transfer torque) RAM(random access memeory)과같은 MRAM인 STTRAM 메모리에서의표류자계저감이설명된다. 일실시예에서, STTRAM에서의비트셀 비트값 저장상태들의유지가, 메모리의비트셀들이상태를변경하도록야기할수 있는표류자계를보상하기위해자계들을생성함으로써용이하게될 수있다. 또다른실시예에서, STTRAM에서의비트셀 비트값 저장상태들의유지는, 메모리의비트셀들이상태를변경하도록야기할수 있는표류자계를일시적으로종료시키기위해메모리의행에대한액세스를선택적으로중지시킴으로써용이하게될 수있다. 다른양태들이본 명세서에설명된다.
    • 根据本公开的各种实施例,描述了作为诸如自旋转移力矩(RST)随机存取存储器(RAM)的MRAM的STTRAM存储器中的漂移场减少。 在一个实施例中,通过产生磁场来补偿漂移磁场可以促进位单元位值存储状态在STTRAM中的保持,这可能导致存储器中的位单元改变状态。 在又一个实施例中,通过选择性地中止对存储器行的访问以暂时终止漂移磁场来促进位单元位值存储状态在STTRAM中的保持,这可能导致存储器的位单元改变状态 它可以。 这里描述了其他方面。
    • 7. 发明公开
    • 마그네틱 장치에서 이용가능하고 기판 상에 위치하는 마그네틱 접합 및 그의 제조 방법
    • 磁性装置上可用的磁性连接点及其制造方法
    • KR1020170104354A
    • 2017-09-15
    • KR1020160104235
    • 2016-08-17
    • 삼성전자주식회사
    • 펭겐크로운비모하마드토우픽니키틴블라디미르탕슈에티
    • H01L43/12H01L43/08H01L43/02H01L43/10
    • H01L43/02G11C11/1673G11C11/1675H01L43/08H01L43/10H01L43/12
    • 본발명은기술적과제는스핀전환토크의성능을향상시키고, 높은 PMA 및향상된 TMR을구현하기위한, 마그네틱장치에서이용가능하고기판상에위치하는마그네틱접합및 그의제조방법에관한것이다. 상기마그네틱장치에서이용가능하고기판상에위치하는마그네틱접합의제조방법은, 마그네틱(magnetic)을포함하는핀형레이어(pinned layer)를제공하고, 비마그네틱스페이서레이어(nonmagnetic spacer layer)를제공하고, 프리레이어(free layer)를제공하되, 상기비마그네틱스페이서레이어는, 상기핀형레이어와상기프리레이어사이에위치하고, 상기프리레이어는, 마그네틱을포함하고, 쓰기전류(write current)가마그네틱접합을통해흐를때, 복수의안정적인마그네틱상태(stable magnetic states)를변경할수 있되, 상기핀형레이어를제공하는것과, 상기프리레이어를제공하는것 중적어도하나는, 글래스-촉진성분(glass-promoting component)을포함하는마그네틱레이어(magnetic layer)를제공하되, 상기마그네틱레이어는증착된아몰포스(amorphous)이고, 상기마그네틱레이어상에희생산화레이어(sacrificial oxide layer)를제공하고, 상기희생산화레이어상에희생레이어(sacrificial layer)를제공하되, 상기희생레이어는상기글래스-촉진성분을위한싱크(sink)를포함하고, 섭씨 300도보다크고섭씨 475도보다작은어닐링온도에서, 상기마그네틱레이어, 상기희생산화레이어, 및상기희생레이어중 적어도하나에어닐링을수행하되, 상기어닐링이후에상기마그네틱레이어의적어도일부는결정화(crystallized)되고, 상기어닐링이후에, 상기희생산화레이어와희생레이어는제거되는것을포함한다.
    • 本发明的技术问题是提高自旋扭矩切换的性能,磁性接头,和制造,可以在用于实现高PMA磁性装置一起使用的方法和改进的TMR位于基板上。 在位于衬底上的磁性装置中使用的制造磁接头的方法,提供了一个钉扎层(固定层)包括磁性(磁的),提供了一个非磁间隔层(非磁性间隔层),与所述自由 但是,因为它流过磁性接头设置的层(自由层),​​非磁性间隔层,位于所述被钉扎层和自由层,自由层,包括磁和写入电流(写入电流)之间是 ,可以改变多个稳定的磁态,提供钉扎层并提供自由层,其中一个是包含玻璃促进组分的磁性层 其中所述磁性层是沉积的非晶体,并且其中在所述磁性层上形成牺牲氧化物层, 在所述牺牲氧化物层上提供牺牲层,其中所述牺牲层包括用于所述玻璃促进组分的水槽,并且其中所述牺牲层包括用于所述玻璃 - 其中,在磁性层,牺牲氧化物层和牺牲层中的至少一个在比退火温度更低的退火温度下退火之后,至少一部分磁性层被结晶, 其中牺牲氧化层和牺牲层被去除。