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21. 发明公开

KR1020110059771A 반사 광학 소자 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：反射光学元件及其生产方法
公开(公告)号：KR1020110059771A
公开(公告)日：2011-06-03
申请号：KR1020117008752
申请日：2009-08-22
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 폰블랑켄하겐기젤라
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G03F1/24 , G03F7/70316 , G03F7/70783 , G03F7/70941 , G21K1/062 , G21K2201/067 , G03F7/20 , G21K1/06 , H01L21/027
摘要： 연질 X-선 및 극자외선 파장 범위에서의 동작 파장을 위한, 특히 EUV 리소그래피에서의 사용을 위한 응력-감소 반사 광학 소자(1)를 제조하기 위해, 기판(2)과 다층 시스템(4) 사이에 40eV 이상, 더 바람직하게는 90eV 이상의 에너지를 갖는 층-형성 입자의 도움으로 동작 파장에서의 고반사율을 위해 최적화된 응력-감소 다층 시스템(6)을 적층하는 것이 제안된다. 결과적인 반사 광학 소자(1)는 응력-감소 다층 시스템에서 낮은 표면 거칠기, 낮은 주기의 개수와 또한 응력-감소 다층 시스템의 높은 Γ 값으로 특정된다.
摘要翻译：为了在软X射线和极紫外波长范围内产生用于工作波长的应力减小的反射光学元件（1），特别是用于EUV光刻中，提出了在基板（2）和借助于能量为40eV以上，优选为90eV以上的粒子形成粒子，应力降低多层体系（6），优化了在工作波长下的高反射率的多层体系（4）。所得到的反射光学元件的特征在于低表面粗糙度，应力降低多层系统中的低周期数以及高＆Ggr; 应力降低多层体系的值。

22. 发明公开

KR1020090094322A 광학 소자, 이것을 사용한 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 无效
标题翻译：光学元件，使用它们的曝光单元和设备生产的过程
公开(公告)号：KR1020090094322A
公开(公告)日：2009-09-04
申请号：KR1020097013286
申请日：2007-10-12
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시라이시마사유키 , 무라카미가츠히코
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B5/0891 , G03B27/54 , G03F1/24 , G03F7/70316 , G03F7/70783 , G03F7/70941 , G03F7/091
摘要： An optical element according to an embodiment comprises a substratum for support; multilayer film (30) capable of reflecting extreme ultraviolet rays, supported by the substratum; and alloy layer (20) interposed between the multilayer film and the substratum, wherein the alloy layer (20) is a thin film of alloy. The alloy layer (20) has a tensile internal stress, reducing the compressive internal stress of the multilayer film (30). Consequently, any deformation of optical element (100) can be inhibited, thereby realizing desirable optical characteristics. Further, on the alloy layer (20), the surface roughness can be minimized. Accordingly, in the forming of the multilayer film (30) on the alloy layer (20), any disordering of the structure of the multilayer film (30) can be suppressed and any deterioration of optical characteristics can be prevented. Thus, the resolving power of exposure unit (400) can be maintained. Further, the life duration of optical element (100) eventually exposure unit (400) can be prolonged.
摘要翻译：根据实施例的光学元件包括用于支撑的基底; 能够反射极紫外线的多层膜（30），由底层支撑; 和介于所述多层膜和所述基底之间的合金层（20），其中所述合金层（20）为合金薄膜。合金层（20）具有拉伸内应力，降低多层膜（30）的压缩内应力。因此，可以抑制光学元件（100）的任何变形，从而实现期望的光学特性。此外，在合金层（20）上，表面粗糙度可以最小化。因此，在合金层（20）上形成多层膜（30）时，可以抑制多层膜（30）的结构的任何混乱，并且可以防止光学特性的任何劣化。因此，可以保持曝光单元（400）的分辨率。此外，光学元件（100）最终曝光单元（400）的使用寿命可以延长。

23. 发明公开

KR1020090093960A 투영 대물렌즈를 제조하는 방법 및 상기 방법으로 제조된 투영 대물렌즈 有权
标题翻译：通过该方法制造投影目标和投影目标的方法
公开(公告)号：KR1020090093960A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：KR1020097010491
申请日：2007-11-26
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 펠트만하이코 , 그루너토랄프 , 에플레알렉산더
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70275 , G02B1/041 , G03F7/70316 , G03F7/70325 , H01L21/0274
摘要： A method of manufacturing a projection objective including the steps of defining an initial design for a projection objective and optimizing the design using a merit function having a plurality of merit function components AB, IRRAD EFP, each of which reflects a particular quality parameter. One of that merit function components defines a maximum irradiance requirement requiring that a normalized effective irradiance value representing an effective irradiance AB, IRRAD EFF normalized to an effective irradiance in an image surface of the projection objective does not exceed a predefined irradiance threshold value IRR TV on each optical surface of the projection objective except for a last optical surface directly adjacent to an image surface of the projective objective. Optical surfaces positioned within caustic regions and/or critically small effective sub-apertures on optical surfaces are thereby systematically avoided.
摘要翻译：一种制造投影物镜的方法，包括以下步骤：定义投影物镜的初始设计，并使用具有多个优点函数分量AB，IRRAD EFP的优值函数优化设计，每个优点函数分量反映了特定的质量参数。其中一个优点功能组件定义了最大辐照度要求，要求表示在投影物镜的图像表面中归一化为有效辐照度的有效辐照度AB，IRRAD EFF的归一化有效辐照度值不超过预定的辐照度阈值IRR TV 投影物镜的每个光学表面除了与投影物镜的图像表面直接相邻的最后光学表面之外。因此系统地避免了位于苛性区域内的光学表面和/或光学表面上的临界小的有效子孔。

24. 发明公开

KR1020090076457A ＤＭＤ를 이용한 마스크리스 방식의 노광 시스템 有权
标题翻译：使用数字麦克风设备的迷宫式曝光系统
公开(公告)号：KR1020090076457A
公开(公告)日：2009-07-13
申请号：KR1020080002420
申请日：2008-01-09
申请人： 주식회사 프로텍
发明人： 이수진 , 김종수 , 최한섭 , 김동우
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70291 , G02B26/0833 , G03F7/70316
摘要： An exposure system of the maskless mode DMD is provided, which can reduce the volume of the whole system by using only one light source regardless of the number of exposure engine. The exposure engine is equipped with the UV light source and DMD(digital micromirror device). The UV light source irradiates the light ray. The DMD reflects the light ray which is incident from the UV light source. The stage is arranged in the lower part of the exposure engine and moves in the cross direction for exposure. The 45 degrees reflection mirror(M1) reflects the light ray coming from the light source with the incident angle of 22.5 degrees and angle of reflection of 22.5 degrees. The cube type beam splitter(BS) separates the light ray in two directions. The 90 degrees reflection mirror makes the separated light ray incident in DMD of the exposure engine.
摘要翻译：提供了无掩模模式DMD的曝光系统，其可以通过仅使用一个光源来减少整个系统的体积，而不管曝光引擎的数量如何。曝光引擎配备有UV光源和DMD（数字微镜设备）。紫外光源照射光线。 DMD反射从紫外线光源入射的光线。舞台布置在曝光引擎的下部，并沿横向移动以进行曝光。 45度反射镜（M1）以22.5度的入射角和22.5度的反射角度反射来自光源的光线。立方体型分束器（BS）在两个方向上分离光线。 90度反射镜使分离的光线入射到曝光引擎的DMD中。

25. 发明公开

KR1020070089633A 노광 장치 및 그 제어 방법, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光装置及其控制方法及装置制造方法
公开(公告)号：KR1020070089633A
公开(公告)日：2007-08-31
申请号：KR1020070019990
申请日：2007-02-28
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 타나베마사유키 , 와타나베유타카 , 테라시마시게루 , 카네히라미카
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G03F7/70308 , G03F7/70316 , G03F7/70925 , G21K1/062 , G03F7/70958
摘要： An exposure apparatus, a control method thereof, and a method for manufacturing the same are provided to grow a layer on the capping layer by causing a photochemical reaction of a material using electromagnetic waves, thereby repairing the capping layer. An exposure apparatus includes a chamber in which an optical element(22e) with a capping layer is disposed, and exposes a substrate by using the optical element. A supply unit(31) supplies a material into the chamber to repair the capping layer. The optical element is irradiated by electromagnetic waves from an electromagnetic wave providing unit. The electromagnetic waves cause a photochemical reaction of the material to grow a layer on the capping layer to repair the capping layer. The unit has an irradiation condition adjusting unit for adjusting an irradiation condition when the optical element is irradiated by the electromagnetic waves.
摘要翻译：提供曝光装置，其控制方法及其制造方法，以通过使用电磁波的材料的光化学反应来在封盖层上生长层，从而修复封盖层。曝光装置包括其中设置有具有覆盖层的光学元件（22e）并且通过使用光学元件使基板曝光的室。供应单元（31）将材料供应到室中以修复封盖层。光电元件由来自电磁波提供单元的电磁波照射。电磁波使材料的光化学反应在覆盖层上生长一层以修复覆盖层。该单元具有用于当光学元件被电磁波照射时调节照射条件的照射条件调节单元。

26. 发明公开

KR1020060074426A 렌즈의 축소율 조절이 가능한 노광 장비 失效
标题翻译：可调整镜头放大的曝光装置
公开(公告)号：KR1020060074426A
公开(公告)日：2006-07-03
申请号：KR1020040113161
申请日：2004-12-27
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 이일호
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7055 , G03F7/70308 , G03F7/70316
摘要： 본 발명의 노광 장비는, 광원과, 광원으로부터 조사되는 광을 일부 영역에서만 투과시키는 마스크막과, 마스크막을 투과한 광이 웨이퍼상의 레지스트막에 정확하게 조사되도록 하는 투영 렌즈와, 그리고 투영 렌즈와 상기 웨이퍼 사이에 배치되어 마스크막의 축소율에 일치되도록 노광 장비의 축소율을 조절하는 축소율 조절용 렌즈 시스템을 구비한다.
노광 장비, 축소율, 마스크막

27. 发明公开

KR1020050037962A 리소그래피 장치에 사용하기 위한 거울상에서의 금속 퇴적물의 형성 저감 방법, 리소그래피 장치에 사용하기 위한 거울, 상기 거울을 포함하는 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 失效
标题翻译：用于在平面设备中使用的镜子上的顶层的使用，用于在平面设备中使用的镜像，包含这种镜像的镜像设备和设备制造方法
公开(公告)号：KR1020050037962A
公开(公告)日：2005-04-25
申请号：KR1020040083486
申请日：2004-10-19
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 바커레비누스피에터 , 슈우르만스프랭크예뢴피에터
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F7/70166 , G03F7/70316 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G21K1/06
摘要： 본 발명은, 리소그래피 장치에 사용하기 위한 미리정해진 금속의 최상부층(8)의 사용, 리소그래피 장치에 사용하기 위한 거울 및 상기 거울을 구비한 리소그래피 장치 또는 상기 사용을 위하여 최상부층이 제공되는 거울에 관한 것이다. 상기 장치는 바람직한 파장의 방사선, 예를 들어 EUV를 제공하기 위한 소스(SO)를 갖는다. 상기 소스(SO)는 상기 거울상에 보다 작거나 보다 큰 핵들을 형성시키기 위하여 퇴적되는 바람직하지 않은 금속 입자들의 스트림을 발생시킨다. 상기 최상부층(8)은 미리정해진 온도 범위내에서 상기 금속 퇴적물의 핵들과 상호확산될 수 있다. 따라서, 상기 금속 입자들을 포함하는 단일 층보다 높은 반사율을 갖는 상기 금속 입자들의 합금의 추가층(14) 및 상기 최상부층(8)의 금속이 형성된다.

28. 发明公开

KR1020040011380A 광학계의 조정방법 및 장치, 노광장치 失效
标题翻译：调整光学系统的方法和装置，以及曝光装置
公开(公告)号：KR1020040011380A
公开(公告)日：2004-02-05
申请号：KR1020030052218
申请日：2003-07-29
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 마사키후미타로 , 미야케아키라
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G02B17/0663 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70258 , G03F7/70316 , G03F7/706 , G21K1/06 , G21K1/062
摘要： PURPOSE: An adjustment method and apparatus for adjusting an optical system, and an exposure apparatus are provided to stably transfer a fine pattern with EUV light as well as other types of light. CONSTITUTION: In a method for adjusting an optical system including a multilayer mirror, wave front aberration of the optical system determines(1010). A condition is determined to remove the part of a multilayer film in the multilayer mirror so that the wave front aberration measured in the measuring step may reduce(1018). The part of the multilayer film in the multilayer mirror is removed, based on the condition determined by the determining step(1020).
摘要翻译：目的：提供一种用于调整光学系统的调整方法和装置以及曝光装置，以便以EUV光以及其它类型的光稳定地传送精细图案。构成：在用于调整包括多层反射镜的光学系统的方法中，光学系统的波前像差确定（1010）。确定去除多层反射镜中的多层膜的一部分的条件，使得在测量步骤中测量的波前像差可以减小（1018）。基于由确定步骤（1020）确定的条件，去除多层反射镜中的多层膜的部分。

29. 发明公开

KR1020010036817A 반사율을 높이는 오버레이 키 패턴 및 그 형성방법 无效
标题翻译：覆盖关键图案改进了可塑性及其形成方法
公开(公告)号：KR1020010036817A
公开(公告)日：2001-05-07
申请号：KR1019990043990
申请日：1999-10-12
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 홍진석
IPC分类号： G03F1/52 , G03F1/50
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F1/52 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , H01L21/76
摘要： PURPOSE: An overlay key pattern having a means for improving reflexibility is provided of which the degree of alignment is maintained same as that of the cell area and which prevents reflection signal from weakening in measuring the overlay. And a method for forming the overlay key pattern is also provided. CONSTITUTION: The overlay key pattern comprises: (i) an insulating film pattern(42a) where a second overlay key pattern(46) is formed; (ii) a first overlay key pattern(42) having plural fine patterns(42b, 42c, 42d, 42e) having pitches corresponding to patterns formed in a cell area of base plate; and (iii) plug(44) having higher reflexibility than the base plate which fills up space of each fine pattern and the surroundings of the first overlay key pattern(42). The method for forming the overlay key pattern comprises steps of: (i) forming an insulating film covering scribe line on a base plate; (ii) patterning the insulating film to form plural fine patterns having pitches corresponding to patterns formed in an area of cell on the scribe line; (iii) forming a material film having higher reflexibility than the base plate on the insulating film to fill up spaces of the fine patterns; and (iv) etching the whole surface of the material film until the insulating film to be exposed.
摘要翻译：目的：提供具有提高反射性的装置的覆盖键图案，其中对准度保持与单元格区域的相同程度，并且在测量叠加层时防止反射信号变弱。还提供了形成覆盖键图案的方法。构成：覆盖键图案包括：（i）形成第二覆盖键图案（46）的绝缘膜图案（42a）; （ii）具有多个精细图案（42b，42c，42d，42e）的第一覆盖键图案（42），其具有对应于形成在基板的单元区域中的图案的间距; 和（iii）具有比填充每个精细图案的空间和第一覆盖键图案（42）的周围的基板更高的反射率的插头（44）。形成覆盖键图案的方法包括以下步骤：（i）在基板上形成覆盖划线的绝缘膜; （ii）图案化绝缘膜以形成具有与在划线上的单元区域中形成的图案相对应的间距的多个精细图案; （iii）在绝缘膜上形成具有比基板更高的反射性的材料膜以填充精细图案的空间; 和（iv）蚀刻材料膜的整个表面，直到要暴露的绝缘膜。

30. 发明授权

KR101854055B1 다층막 반사경, 다층막 반사경의 제조 방법, 투영 광학계, 노광 장치, 디바이스의 제조 방법 有权
标题翻译：多层膜反射器，多层膜反射器的制造方法，投影光学系统，曝光装置，装置的制造方法
公开(公告)号：KR101854055B1
公开(公告)日：2018-05-02
申请号：KR1020167003246
申请日：2014-07-03
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 간다카노리아키 , 무라카미가츠히코
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： 고기능이면서심플한구성의다층막반사경을제공하기위해, 본발명의다층막반사경의일례는, 기판측으로부터차례로, 제 1 등주기다층막과, 조정층과, 제 2 등주기다층막을가진다층막반사경이고, 하기 (a)~(c)의조합이반사면내의위치마다또는영역마다설정되어있다. (a) 상기제 1 등주기다층막이단체로갖는반사특성, (b) 상기제 2 등주기다층막이단체로갖는반사특성, (c) 상기조정층의막 두께.

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