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91. 发明公开

KR1020060025234A 2챔버를 갖는 가스 방전 레이저 시스템을 위한 타이밍 제어방법 有权
标题翻译：两台气体放电激光系统的时序控制
公开(公告)号：KR1020060025234A
公开(公告)日：2006-03-20
申请号：KR1020067003552
申请日：2002-10-23
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 어쇼프알렉산더아이. , 네스리차드엠.
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/0385 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2308 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： Feedback timing control equipment and process for an injection seeded modular gas discharge laser (11). A preferred embodiment is a system capable of producing high quality pulsed laser beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 to 10 mJ or greater for integrated outputs of about 20 to 40 Watts or greater. The feedback timing control is programmed to permit in some circumstances discharges timed so that no significant laser energy is output from the system. Use of this technique permits burst mode operation in which the first discharge of a burst is a no- output discharge so that timing parameters for each of the two chambers can be monitored before the first laser output pulse of the burst. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam which is amplified in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber.
摘要翻译：反馈定时控制设备和注射种子模块化气体放电激光器的工艺（11）。优选的实施方案是能够以大约4,000Hz或更大的脉冲速率产生高质量脉冲激光束并且在约20至40瓦或更大的集成输出的脉冲能量为约5至10mJ或更大的系统。反馈定时控制被编程为允许在某些情况下放电定时，使得不会从系统输出显着的激光能量。使用这种技术允许突发模式操作，其中突发的第一次放电是无输出放电，使得可以在突发的第一激光输出脉冲之前监视两个室中的每一个的定时参数。提供两个单独的放电室，其中之一是主振荡器的一部分，其产生在第二放电室中放大的非常窄的带状晶体束。可以单独控制室，允许在主振荡器中优化波长参数并优化放大室中的脉冲能量参数。

92. 发明授权

KR100545294B1 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 성능측정방법,캘리브레이션 방법 및 컴퓨터 프로그램 失效
标题翻译：光刻设备，器件制造方法，性能测量方法，校准方法和计算机程序
公开(公告)号：KR100545294B1
公开(公告)日：2006-01-24
申请号：KR1020030029163
申请日：2003-05-07
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 하인트체요하네스
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70041 , G03F7/70558 , H01S3/09702 , H01S3/134 , H01S3/225
摘要： 본 발명에 따르면, 펄스방사원에 대한 제어시스템은 데드비트제어를 달성하기 위하여 최소차수, 바람직하게는 1차수의 폐-루프 컨트롤러이다. 리소그래피 장치내의 펄스방사원에 대한 성능지표는 타겟과 실제 펄스에너지간의 에러의 이동평균(MA) 및 이동표준편차(MSD)를 기초로 한다. 표준화된 지표는 다음과 같이 주어진다:

여기서 Ep
ref (i)
및 Ep
err (i)는 포인트(i)에 대한 펄스당 기준에너지 및 펄스당 에너지에러를 나타내며, 다음과 같이 주어진다:

93. 发明公开

KR1020050039856A 기판상의 필름영역과 그 에지영역에서의 실질적인 균일성을제공하기 위한 필름영역의 레이저 결정 가공을 위한 방법과 시스템 및 그 필름영역을 가진 구조물 有权
标题翻译：用于激光结晶处理的基板上的膜区域的处理和系统，以在这些区域和边缘区域内提供重大的均匀性，以及这样的膜片区域的结构
公开(公告)号：KR1020050039856A
公开(公告)日：2005-04-29
申请号：KR1020057002868
申请日：2003-08-19
申请人： 더 트러스티스 오브 콜롬비아 유니버시티 인 더 시티 오브 뉴욕
发明人： 임제임스에스.
IPC分类号： H01L29/786 , C30B13/06 , C30B13/16
CPC分类号： H01L21/02686 , B23K26/066 , B23K26/067 , G03F7/70041 , G03F7/70725 , H01L21/02678 , H01L21/2026 , H01L21/268 , H01L27/1285 , H01L27/1296 , H01L29/78675
摘要： A process and system for processing a thin film sample, as well as the thin film structure are provided. In particular, a beam generator (110) can be controlled (100) to emit successive irradiation beam pulses (164) at a predetermined repetition rate. Each irradiation beam pulse may be masked to define a first plurality of beamlets and a second plurality of beamlets. The first and second plurality of beamlets of each of the irradiation pulses being provided for impinging the film sample (170) and having an intensity which is sufficient to at least partially melt irradiated portions of the section of the film sample. A particular portion of the section of the film sample is irradiated with the first beamlets of a first pulse of the irradiated beam pulses to melt first areas of the particular portion, the first areas being at least partially melted, leaving first unirradiated regions between respective adjacent ones of the first areas, and being allowed to resolidify and crystallize. After the irradiation of the particular portion with the first beamlets, the particular portion is again irradiated with the second beamlets of a second pulse of the irradiated beam pulses to melt second areas of the particular portion, the second areas being at least partially melted, leaving second unirradiated regions between respective adjacent ones of the second areas, and being allowed to resolidify and crystallize. The first irradiated and re-solidified areas and the second irradiated and re-solidified areas are intermingled with one another within the section of the film sample. In addition, the first areas correspond to first pixels, and the second areas correspond to second pixels.
摘要翻译：提供了一种用于处理薄膜样品的方法和系统，以及薄膜结构。特别地，光束发生器（110）可被控制（100）以预定的重复频率发射连续的照射光束脉冲（164）。每个照射束脉冲可以被掩蔽以限定第一多个子束和第二多个子束。每个照射脉冲的第一和第二多个子束被提供用于撞击膜样品（170），并具有足以至少部分地熔化膜样品部分的照射部分的强度。用所述照射束脉冲的第一脉冲的第一子束照射所述膜样品的所述部分的特定部分，以熔化所述特定部分的第一区域，所述第一区域至少部分地熔化，从而在相邻的相邻区域之间留下第一未照射区域第一个地区，被允许重新确定和结晶。在用第一子束照射特定部分之后，特定部分再次用照射束脉冲的第二脉冲的第二子束照射以熔化特定部分的第二区域，第二区域至少部分地熔化，留下在相邻的相邻的第二区域之间的第二未照射区域，并被允许再凝固和结晶。第一次照射和再固化的区域以及第二次照射和再固化的区域在膜样品的部分内彼此混合。此外，第一区域对应于第一像素，第二区域对应于第二像素。

94. 发明公开

KR1020040058350A 2챔버를 갖는 가스 방전 레이저 시스템을 위한 타이밍 제어 有权
标题翻译：具有两个腔室的气体放电激光系统的定时控制
公开(公告)号：KR1020040058350A
公开(公告)日：2004-07-03
申请号：KR1020047008173
申请日：2002-10-23
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 어쇼프알렉산더아이. , 네스리차드엠.
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/0385 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2308 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저(11)를 위한 피드백 타이밍 제어 장비 및 그 방법이 개시되었다. 바람직한 실시예는 20 내지 40 와트이상의 집적 출력을 위해 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5 내지 10 mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 시스템이다. 피드백 타이밍 제어는 어떠한 큰레이저 에너지도 시스템으로부터 출력되지 않도록 방전시간이 정해질 수 있도록 시간이 정해진다. 이러한 기술로 두 개의 챔버의 각각에 대한 타이밍 파라미터가 버스트의 제1 레이저 출력 펄스 이전에 모니터링될 수 있도록, 버스트의 제1 방전이 어떠한 출력 방전이 아닌 버스트 모드 동작이 될 수 있게 한다. 두 개의 방전챔버 가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다.

95. 发明公开

KR1020040047802A 레이저 리소그래피 빔송출 광원 有权
标题翻译： 레이저리소그래피빔송출광원
公开(公告)号：KR1020040047802A
公开(公告)日：2004-06-05
申请号：KR1020047003063
申请日：2002-08-19
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 클레네브라이언씨. , 다스팔라시피. , 그로베스티븐엘. , 에르쇼브알렉산더아이. , 스미스스코트티. , 팬시아오지앙제이. , 샌드스트롬리차드엘.
IPC分类号： H01S3/03
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 본원발명은 생산 라인 머신용 모듈러 고반복률 자외선 가스 방전 레이저(4) 광원을 제공한다. 본원 시스템은 생산 라인 머신의 입구 포트 등의 소망 위치에 레이저 빔을 송출하기 위해 인클로징 및 퍼징된 빔 경로를 포함한다. 바람직한 실시예에 있어서, 생산 라인 머신은 리소그래피 머신(2)이고, 2개의 별개의 방전 챔버가 제공되는데, 그 중 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는 초협대역 센드 빔을 발생시키는 마스터 발진기의 일부이다. MOPA 시스템은 비교가능한 단일 챔버 레이저 시스템의 거의 2배의 펄스 에너지를 상당히 향상된 빔 품질로 출력할 수 있다. 펄스 스트레처는 출력 펄스 길이를 2배 이상으로 하여 종래기술 레이저 시스템에 비해 펄스 전력(mJ/ns)이 감소된다. 이러한 바람직한 실시예는 실질적으로 광학 컴포넌트의 저하에도 불구하고 리소그래피 시스템의 동작수명 내내 가능하다.
摘要翻译：本发明提供一种用于生产线机器的模块化高重复频率紫外线气体放电激光光源。该系统包括一个封闭和净化光束路径，用于将激光束传送到生产线机器入口等所需位置。在优选实施例中，生产线机器是平版印刷机，并且提供两个单独的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。该MOPA系统的输出脉冲能量大约是可比较的单腔激光系统的两倍，大大改善了光束质量。与现有技术的激光系统相比，脉冲展宽器使输出脉冲长度增加了一倍，导致脉冲功率（mJ / ns）的降低。该优选实施例能够在光刻系统晶片平面上提供照明，该平面在光刻系统的整个工作寿命期间近似恒定，尽管光学元件大量劣化。

96. 发明公开

KR1020040032988A 라인 선택되고 두 챔버를 갖춘 에프 투 레이저 시스템 无效
标题翻译：选择线路的两线激光系统和两个腔室
公开(公告)号：KR1020040032988A
公开(公告)日：2004-04-17
申请号：KR1020047003032
申请日：2002-08-19
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 노울레스데이비드에스. , 브라운다니엘제이.,더블유. , 샌드스트롬리차드엘. , 릴로프저먼,이. , 온켈스에커하드디. , 베사첼레허브에이. , 마이어스데이비드더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 네스리차드엠. , 스미스스코트티. , 헐버드윌리암지.
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
摘要： 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템(2)이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는(12), 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터(10)의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영여으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬(10A)을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.

97. 发明公开

KR1020040032984A 초협대역이고 2챔버를 갖는 고반복율 가스 방전 레이저시스템 有权
标题翻译： 초협대역이고2챔버를갖는고반복율가스방전레이저시스템
公开(公告)号：KR1020040032984A
公开(公告)日：2004-04-17
申请号：KR1020047002982
申请日：2002-08-28
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 노울레스데이비드에스. , 브라운다니엘제이.,더블유. , 베사첼레허브에이. , 마이어스데이비드더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 파르틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스플래쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고르브이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 온켈스에커하드디. , 네스리차드엠. , 스미스스코트티. , 헐버드윌리암지. , 오이클레스제프리
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： G01J1/4257 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
摘要翻译：一种注入式模块化气体放电激光系统，能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。提供了两个独立的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。这些室可以分开控制，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。主振荡器配备有线变窄的封装，该封装具有非常快速的调谐反射镜，其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长，精度低于0.2μm。

98. 发明公开

KR1020040029982A 장치 제조용 리소그래피 시스템 및 제조 방법 无效
标题翻译：光刻系统和器件制造的制造方法
公开(公告)号：KR1020040029982A
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：KR1020037014633
申请日：2002-03-27
申请人： 울트라테크 인크.
发明人： 메이스버거댄 , 마클데이비드에이
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70041 , G03F7/70225 , G03F7/70425 , G03F7/7055 , G03F7/70558
摘要： 새로운 "플래쉬-온-더-플라이" 작동 모드를 채용할 수 있는 비용-효과적인 장치 제조용 리소그래피 시스템 및 방법에 대한 것으로, 단일 조광 펄스로 노광 필드를 형성한다. 이 시스템은 펄스 조광 소스 (14), 조명 시스템 (24), 마스크 (M), 프로젝션 렌즈 (40), 및 이미지-수용 표면 (WS) 을 가진 작업편 (W) 을 지지하는 작업편 스테이지 (50) 를 포함한다. 조광 소스 제어기 (16) 와 메트롤로지 장치 (62) 를 포함하는 작업편 스테이지 위치 제어 시스템 (60) 은 인접 조광 펄스가 인접 노광 필드 (EF) 를 형성하도록 조광 펄스에 의한 마스크의 노광을 조절하고 제어하기 위해 사용된다. 조광 소스로부터의 펄스간 균일도가 결여된 경우에는, 노광 도즈의 소정의 펄스간 균일도를 얻기 위해 펄스 안정화 시스템 (18) 이 선택적으로 사용될 수 있다. 단일 노광 펄스를 이용하여 노광되는 고속성은 매우 높은 처리량을 얻을 수 있도록 하며, 한편으로, 소형-이미지-필드 프로젝션 렌즈가 반도체 집적 회로 등과 같은 장치의 제조시에 비용-효과적인 방법으로 사용될 수 있도록 한다. 이 시스템은 또한 종래의 "스텝-앤-리피트" 작동 모드에서도 사용될 수 있어서, 이 시스템의 소유자는 임의의 응용분야에 대하여 가장 비용-효과적인 작동 모드를 결정할 수 있다.

99. 发明公开

KR1020030088128A 파장이 제어되는 주입 시딩된 Ｆ2 레이저 失效
标题翻译：波长控制注入种子F2激光器
公开(公告)号：KR1020030088128A
公开(公告)日：2003-11-17
申请号：KR1020037013203
申请日：2002-03-29
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 샌드스트롬리차드엘. , 네스리차드엠. , 파틀로윌리엄엔. , 얼쇼프알렉산더아이. , 온켈스에케하드디. , 오중훈
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/105 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/08063 , H01S3/08068 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/10092 , H01S3/104 , H01S3/1305 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2325 , H01S3/2366
摘要： 본 발명은 2개의 레이저 서브시스템을 가지고 있는 협대역 레이저 시스템을 제공한다. 제1 레이저 서브시스템(시드 레이저)은 협대역 펄싱된 출력 빔을 생성하도록 협대역 펄싱된 시드 빔이 증폭되는 제2 레이저 서브시스템(슬레이브 오실레이터 또는 전력 증폭기)을 주입 시딩하는데 사용되는 초협대역 펄싱된 출력 빔을 제공한다. 펄스 전원(펄스 전력)은 방전이 적합하게 동기화되도록 2개의 레이저 서브시스템내의 방전을 정밀하게 타이밍한다. 레이저 가스는 헬륨, 네온, 또는 이들의 조합으로 구성된 완충 가스를 갖는 약 1% 미만의 부분 압력에서 F
2 를 포함한다. 출력 빔의 센터 파장의 제어는 제1 레이저 서브시스템에서, 전체 레이저 가스 압력, 헬륨 또는 네온의 상대적 농도, F
2 부분 압력, 레이저 가스 온도, 방전 전압 및 펄스 에너지의 파라미터중 하나 이상을 조정함으로써 제공된다.

100. 发明公开

KR1020010031033A 가스 첨가제를 갖는 협대역 엑시머 레이저 有权
标题翻译：窄带准分子激光与气体添加剂
公开(公告)号：KR1020010031033A
公开(公告)日：2001-04-16
申请号：KR1020007003849
申请日：1998-09-25
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 호프만토마스 , 이시하라도시히코 , 다스팔라시피. , 에르소브알렉산더아이.
IPC分类号： H01S3/225
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 본발명은향상된에너지량제어및 재생력을가지며, 약 500 내지 2000Hz의범위에있는속도로펄스를만들수 있는초협대역펄스엑시머레이저를제공한다. 산소및 무거운불활성가스(KrF 레이저를위한크세논또는라돈, 또는 ArF 레이저를위한크립톤, 크세논, 또는라돈)로이루어진미소량의안정화된첨가제가가스혼합물에첨가된다. 수행된테스트는약 30ppm의크세논을 KrF 레이저에첨가함으로써에너지안정도에서본질적인향상을보여준다. 테스트는약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을첨가함으로써 ArF 레이저의향상된성능을보여준다. 바람직한실시예에서, 초협대역폭은플루오르부분압력을 0.10%로줄이고, 출력커플러의반사율을 25%보다크게증가시킴으로써 KrF 레이저상에서이루어진다. 바람직한실시예에서, 종래기술의라인협소화모듈에서사용된종래기술의용화된실리카빔 확산프리즘은플루오르화칼슘프리즘으로대체된다.

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