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2. 发明专利

JP2008515231A Multi-chamber excimer or molecular fluorine gas fluorine implantation control of discharge laser 审中-公开
公开(公告)号：JP2008515231A
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：JP2007534655
申请日：2005-09-19
申请人：サイマーインコーポレイテッド
发明人：ロバートエヌジャック , ウェインジェイダンスタン , フェドービートリントチョーク , アルヴアブゾーセル , 俊彦石原
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/0943 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/225 , H01S3/2316 , H01S3/2366
摘要：【課題】少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバから成り、発振チャンバの出力が増幅チャンバ、例えば、主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）構成フッ素注入コントローラ及び方法において増幅されるマルチチャンバエキシマ又は分子フッ素ガス放電レーザシステムを提供する。
【解決手段】フッ素注入制御システムを有し、少なくとも１つの発振チャンバと少なくとも１つの増幅チャンバとを含み、増幅チャンバが、この少なくとも１つのパワーチャンバ内で増幅される発振器出力レーザ光パルスを生成するマルチチャンバエキシマ又は分子ハロゲンガス放電レーザシステム及びその作動方法。本発明は、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの一方の少なくとも第１の作動パラメータと少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの第２の作動パラメータの間の差とに基づいて、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの一方において消費されたハロゲンガスの量を推定し、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの他方の少なくとも第３の作動パラメータに基づいて、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの他方において消費されたハロゲンガスの量を推定し、かつ少なくとも１つの発振チャンバにおける推定ハロゲンガス消費量と少なくとも１つの増幅チャンバにおけるハロゲンガス消費量とを表す出力を生成するハロゲンガス消費推定器と、フッ素消費推定器からの推定フッ素消費量出力と複数の重み付け注入決定判断を含むコスト関数とに基づいて、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバに対するハロゲンガス注入の量を判断するハロゲンガス注入コントローラとを含むことができる。
【選択図】図３

3. 发明专利

JP2008034871A Lithography laser light source with beam delivery 有权
标题翻译：光束激光光源与光束交付
公开(公告)号：JP2008034871A
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：JP2007260176
申请日：2007-10-03
申请人： Cymer Inc , サイマーインコーポレイテッド
发明人： KLENE BRIAN C , DAS PALASH P , GROVE STEVEN L , ERSHOV ALEXANDER I , SMITH SCOTT T , PAN XIAOJIANG J , SANDSTROM RICHARD L
IPC分类号： H01L21/027 , H01S3/10 , G03F7/20 , H01S3/00 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/04 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/102 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a modular high repetition rate ultraviolet gas discharge laser (4) for a production line machine. SOLUTION: A system includes an enclosed and purged beam path for providing the laser beam to a desired location such as an entrance port of the production line machine. In preferred embodiments, the production line machine is a lithography machine (2) and two separated discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam amplified in a second discharge chamber. A MOPA system allows outputting pulse energies approximately double the comparable single chamber laser system with greatly improved beam quality. A pulse stretcher more than doubles the output pulse length resulting in a reduction in pulse power (mJ/ns) as compared to prior art laser systems. The preferred embodiment allows providing illumination approximately constant throughout the operating life of the lithography system. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于生产线机器的模块化高重复率紫外线气体放电激光器（4）。解决方案：系统包括用于将激光束提供到期望位置（例如生产线机器的入口）的封闭和清除的光束路径。在优选实施例中，生产线机器是光刻机（2），并且提供两个分离的放电室，其中之一是主振荡器的一部分，其产生在第二放电室中放大的非常窄的带状晶体光束。 MOPA系统允许输出脉冲能量大约是可比较的单室激光系统的两倍，具有极大改善的光束质量。与现有技术的激光系统相比，脉冲放大器使输出脉冲长度加倍，导致脉冲功率（mJ / ns）的降低。优选实施例允许在光刻系统的整个使用寿命期间提供近似恒定的照明。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2005502211A Laser lithography light sources with a beam delivery 有权
公开(公告)号：JP2005502211A
公开(公告)日：2005-01-20
申请号：JP2003525958
申请日：2002-08-19
申请人：サイマーインコーポレイテッド
发明人：アレクサンダーアイエアーショヴ , ブライアンシークレン , スティーヴンエルグローヴ , リチャードエルサンドストローム , スコットティスミス , パラッシュピーダス , シャオジャンジェイパン
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01S3/00 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/04 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/10 , H01S3/102 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要：本発明は、製造ラインの機械のためのモジュール式高反復速度紫外ガス放電レーザ（4）を提供する。このシステムは、製造ライン機械の入口ポートのような望ましい位置にレーザビームを供給するための、取囲まれ且つパージされたビーム経路を含んでいる。好ましい実施形態において、製造ライン機械はリソグラフィー機械（2）であり、二つの別々の放電チャンバが設けられ、その一つは第二の放電チャンバ内で増幅される超狭バンドの送給ビームを生じるマスター発振器の一部である。 MOPAシステムは、著しく改善されたビーム品質で、匹敵する単一チャンバレーザシステムの略2倍のパルスエネルギーを出力することができる。パルス伸長器は出力パルス長を二倍以上にし、先行技術のレーザシステムに比較してパルス電力（mJ/ns）の低下をもたらす。この好ましい実施形態は、光学部品の実質的な劣化にもかかわらず、リソグラフィーシステムの動作寿命期間を通して略一定の照射を与えることができる。
【選択図】図１

5. 发明专利

JP2001308431A PIGMENT LASER DEVICE 失效
公开(公告)号：JP2001308431A
公开(公告)日：2001-11-02
申请号：JP2000122925
申请日：2000-04-24
申请人： LASER ATOM SEPARATION ENG RES , TOSHIBA CORP , TOSHIBA ELECTRONIC ENG
发明人： ISHIBASHI MAKOTO , HARA TAKANOBU
IPC分类号： H01S3/213 , H01S3/0943
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pigment laser device where the damage of a circulation flow cell in a pigment solution is suppressed, the pigment solution with large flow rate, flow velocity and discharge pressure can be circulated, output can be made to be high without disturbing the wave face of a laser beam at the time of amplification, maintenance is good and operation cost and maintenance cost can be reduced. SOLUTION: In the pigment laser device, the corner of the flow cell 14 constituting the channel 15 of the pigment solution 12 being a laser medium is constituted in a shape which has the channel whose crossing face is almost rectangular, and the concentration of stress by pigment solution pressure to the corner part of the channel 15 can be suppressed.

6. 发明专利

JP2968008B2 失效
公开(公告)号：JP2968008B2
公开(公告)日：1999-10-25
申请号：JP50562289
申请日：1989-05-18
申请人： BURITEITSUSHU TEREKOMYUNIKEESHONZU PLC
发明人： BURAIARII MAIKERU CHAARUSU
IPC分类号： H01S3/07 , H01S3/06 , H01S3/067 , H01S3/094 , H01S3/0943 , H01S3/16 , H01S3/17

7. 发明专利

JPH0716085B2 失效
公开(公告)号：JPH0716085B2
公开(公告)日：1995-02-22
申请号：JP10223590
申请日：1990-04-17
IPC分类号： H01S3/227 , H01S3/0943

8. 发明专利

JPH05198871A LASER EQUIPMENT CAPABLE OF CHANGING WAVELENGTH 失效
公开(公告)号：JPH05198871A
公开(公告)日：1993-08-06
申请号：JP986792
申请日：1992-01-23
申请人： MITSUBISHI ELECTRIC CORP
发明人： OKAMOTO TATSUKI , YAMAZAKI ICHIRO , KOBAYASHI ICHIRO , MINOWA YOSHIFUMI , EGURI SHIGEO
IPC分类号： H01S3/0943 , H01S3/10
摘要： PURPOSE:To obtain a laser equipment capable of changing wavelength which equipment has high efficiency and superior beam quality. CONSTITUTION:Pumping laser light 2 is made to enter a dye cell 1 which seals dye solution being laser medium or circulates it, thereby forming an excited region 5. The laser medium 4 is coaxially irradiated with the pumping laser light 2, from the same direction as the laser light 3 capable of changing wavelength or from the direction opposite to the light 3, thereby obtaining the output 6 of laser light capable of changing wavelength.

9. 发明专利

JPH0537048A SOLID PULSE LASER SYSTEM 失效
公开(公告)号：JPH0537048A
公开(公告)日：1993-02-12
申请号：JP18780991
申请日：1991-07-26
申请人： NIPPON TELEGRAPH & TELEPHONE
发明人： MAHESHIYU JIYUNAKAA , YAMAGUCHI EIICHI , OTSUKA KENJU
IPC分类号： H01S3/08 , H01S3/0943 , H01S3/098 , H01S3/105
摘要： PURPOSE:To obtain a stable ultrashort pulse by a method wherein a polarizing compensator and a pair of prisms are added between one of mirrors and a laser medium within a pulse resonator. CONSTITUTION:This embodiment comprises an argon laser 1 as an exciting light source and a pulse resonator The pulse resonator comprises a titanium sapphire laser consisting of a titanium sapphire crystal 2, a polarizing compensator 3 (for example, a 1/4 wavelength plate and a 1/2 wavelength plate), convex mirrors 4, 4', a plane mirror 5, a laser radiating mirror 6, a wavelength selection element 7, and a pair of phase compensating prisms 8. When the pulse resonator is excited by the argon laser, either a solution beam or a continuous beam can be produced by the titanium sapphire crystal 2. Thus, a stable ultrashort pulse can be obtained.

10. 发明专利

JPH04134889A CARBON DIOXIDE LASER 失效
公开(公告)号：JPH04134889A
公开(公告)日：1992-05-08
申请号：JP25163390
申请日：1990-09-19
申请人： TORUNPUFU REEZERUTEHINIIKU GMB
发明人： MIKAERU FUON BORUSUTERU , HAINTSU YURUGEN PUROKOTSUPU , RAINAA BUORAAMAN
IPC分类号： H01S3/081 , H01S3/0943
摘要： PURPOSE: To provide a carbon dioxide gas laser, with reduced required installation space by letting a supporter have structure common to two laser circuits and making a 1st central plane/zone parallel with a 2nd central plane/zone. CONSTITUTION: A blower system constituting a unit, together with the laser is provided almost symmetric to a 3rd central plane 29 through the geometrical centroid of a laser circuit structure. Except for a terminal flange, the laser device uses a mirror of which an almost geometrical central axis 147 is visible. Gas is sucked not only from a lower laser circuit but also from an upper laser circuit. Therefore, a through flange passes the gas from below upwards. Four return circuits and four feed circuits are installed, while mutually offsetting their central planes just for one vertical angle pitch. Thus, the laser has square inner distance side dimension of 117mm, its full height is almost 650mm, and the output of 5kW can be provided.

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