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1. 发明专利

JP2018195713A ガスリサイクル機能を有するエキシマレーザ発振装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018195713A
公开(公告)日：2018-12-06
申请号：JP2017098468
申请日：2017-05-17
申请人：日本エア・リキード株式会社
发明人：小浦輝政 , 松本幸二 , 野澤史和 , 篠原悠介
IPC分类号： C01B7/01 , C01B23/00 , H01S3/225
CPC分类号： H01S3/225 , G01N31/223 , H01S3/036 , H01S3/09705 , H01S3/134 , H01S3/2207
摘要：【課題】エキシマレーザ発振装置で使用される希ガス(例えば、アルゴン、キセノン、クリプトンなど)を含む排ガスから、不純物を除去する除去機能をエキシマレーザ発振装置の系内に設けることを目的とする。【解決手段】ガスリサイクル機能を備えるエキシマレーザ発振装置は、ハロゲンガス、希ガス、およびバッファガスを有するレーザガスを内部に充填している発振チャンバーと、前記発振チャンバーから排出された排ガス中の不純物を除去する第一不純物除去装置と、をエキシマレーザ発振装置の系内に備える。【選択図】図1A

3. 发明专利

JP2008034871A Lithography laser light source with beam delivery 有权
标题翻译：光束激光光源与光束交付
公开(公告)号：JP2008034871A
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：JP2007260176
申请日：2007-10-03
申请人： Cymer Inc , サイマーインコーポレイテッド
发明人： KLENE BRIAN C , DAS PALASH P , GROVE STEVEN L , ERSHOV ALEXANDER I , SMITH SCOTT T , PAN XIAOJIANG J , SANDSTROM RICHARD L
IPC分类号： H01L21/027 , H01S3/10 , G03F7/20 , H01S3/00 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/04 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/102 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a modular high repetition rate ultraviolet gas discharge laser (4) for a production line machine. SOLUTION: A system includes an enclosed and purged beam path for providing the laser beam to a desired location such as an entrance port of the production line machine. In preferred embodiments, the production line machine is a lithography machine (2) and two separated discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam amplified in a second discharge chamber. A MOPA system allows outputting pulse energies approximately double the comparable single chamber laser system with greatly improved beam quality. A pulse stretcher more than doubles the output pulse length resulting in a reduction in pulse power (mJ/ns) as compared to prior art laser systems. The preferred embodiment allows providing illumination approximately constant throughout the operating life of the lithography system. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于生产线机器的模块化高重复率紫外线气体放电激光器（4）。解决方案：系统包括用于将激光束提供到期望位置（例如生产线机器的入口）的封闭和清除的光束路径。在优选实施例中，生产线机器是光刻机（2），并且提供两个分离的放电室，其中之一是主振荡器的一部分，其产生在第二放电室中放大的非常窄的带状晶体光束。 MOPA系统允许输出脉冲能量大约是可比较的单室激光系统的两倍，具有极大改善的光束质量。与现有技术的激光系统相比，脉冲放大器使输出脉冲长度加倍，导致脉冲功率（mJ / ns）的降低。优选实施例允许在光刻系统的整个使用寿命期间提供近似恒定的照明。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2005502211A Laser lithography light sources with a beam delivery 有权
公开(公告)号：JP2005502211A
公开(公告)日：2005-01-20
申请号：JP2003525958
申请日：2002-08-19
申请人：サイマーインコーポレイテッド
发明人：アレクサンダーアイエアーショヴ , ブライアンシークレン , スティーヴンエルグローヴ , リチャードエルサンドストローム , スコットティスミス , パラッシュピーダス , シャオジャンジェイパン
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01S3/00 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/04 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/10 , H01S3/102 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要：本発明は、製造ラインの機械のためのモジュール式高反復速度紫外ガス放電レーザ（4）を提供する。このシステムは、製造ライン機械の入口ポートのような望ましい位置にレーザビームを供給するための、取囲まれ且つパージされたビーム経路を含んでいる。好ましい実施形態において、製造ライン機械はリソグラフィー機械（2）であり、二つの別々の放電チャンバが設けられ、その一つは第二の放電チャンバ内で増幅される超狭バンドの送給ビームを生じるマスター発振器の一部である。 MOPAシステムは、著しく改善されたビーム品質で、匹敵する単一チャンバレーザシステムの略2倍のパルスエネルギーを出力することができる。パルス伸長器は出力パルス長を二倍以上にし、先行技術のレーザシステムに比較してパルス電力（mJ/ns）の低下をもたらす。この好ましい実施形態は、光学部品の実質的な劣化にもかかわらず、リソグラフィーシステムの動作寿命期間を通して略一定の照射を与えることができる。
【選択図】図１

5. 发明专利

JP2005502210A 10kHz or more of the discharge gas laser system from 6kHz 审中-公开
公开(公告)号：JP2005502210A
公开(公告)日：2005-01-20
申请号：JP2003525957
申请日：2002-08-16
申请人：サイマーインコーポレイテッド
发明人：アレクサンダーアイアーショフ , アレックスピーイヴァシェンコ , ロバートカイルウェブ , リチャードシーウジャズドウスキ , リチャードエルサンドストローム , ロバートエイシャンノン , リチャードエルネス , フレデリックエイパレンスシャット , トマスホフマン , ポールシーメルシャー , カーティスエルレッティグ , トムエイワトソン
IPC分类号： H01S3/134 , G03F7/20 , H01S3/00 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/04 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/102 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/11 , H01S3/13 , H01S3/131 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/0385 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/1024 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要：本発明は、６，０００パルスから１０，０００パルス／秒の範囲の繰返し率で、製造ライン能力における信頼性の高い長期にわたる作動が可能な放電ガスレーザシステムを提供する。好適な実施形態は、フォトリソグラフィで使用されるＫｒＦレーザ、ＡｒＦレーザ、及びＦ２レーザとして構成される。改良点には、陽極（５４２）の中間付近の吸引ファン（５５５）が含まれ、大きなガス流量を得るようになっている。ファンの取入れ口（５５５）は、陽極（５４２）と絶縁スペーサ（５４４Ｂ）との間にある。

6. 发明专利

JP2005501399A Laser spectrum engineering for lithographic processing 有权
公开(公告)号：JP2005501399A
公开(公告)日：2005-01-13
申请号：JP2002590463
申请日：2002-04-19
申请人：サイマー, インコーポレイテッドCymer, Inc.
发明人：クールシッドアーメド , ジョンエムアルゴッツ , アーメンクロヤン , リチャードエルサンドストロム , パラッシュピーダス , イゴーフォメンコフ , イヴァンラロヴィック
IPC分类号： G03F7/207 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/04 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/102 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/11 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/1024 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/13 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2308
摘要：【課題】レーザ、特に出力ビームの帯域幅を制御する技術を提供する。
【解決手段】放電レーザの帯域幅制御のための集積回路リソグラフィ技術（スペクトルエンジニアリング）。コンピュータは、リソグラフィパラメータをモデリングし、所望のリソグラフィの結果を得るために必要とされる所望のレーザスペクトルを判断する。高速応答同調機構（１０４）は、パルスバースト内のレーザパルスの中心波長を調節して、所望のレーザスペクトルを近似する積分スペクトルを得る。レーザビーム帯域幅は、フォトレジストフィルムでのパターン解像度を改善させるために、少なくとも２つのスペクトルピークを有する効果的なビームスペクトルを生成するように制御される。ラインナローイング機器（１０６）が設けられ、それは、少なくとも１つの圧電駆動装置と、約２．０ミリ秒よりも短い時間応答を有する高速帯域幅検出制御システムとを有する。レーザの繰返し率と同位相の毎秒５００ディザーを上回るディザー率で波長同調ミラーがディザリングされる。
【選択図】図５

7. 发明专利

JP5877881B2 ガス圧及びガス消費量を制御可能なガスレーザ発振器有权
标题翻译：可控的气体激光振荡器的气体压力和气体消耗
公开(公告)号：JP5877881B2
公开(公告)日：2016-03-08
申请号：JP2014144501
申请日：2014-07-14
申请人：ファナック株式会社
发明人：松田宗和 , 吉田宏之
IPC分类号： H01S3/13 , H01S3/00 , H01S3/036
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/104 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/2215 , H01S3/2222 , H01S3/2232 , H01S3/2237 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/10069

8. 发明专利

JP5829311B1 ガス容器の密閉性を推定可能なガスレーザ発振器有权
标题翻译：气体容器的可估计气体激光振荡器的密封性
公开(公告)号：JP5829311B1
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：JP2014125409
申请日：2014-06-18
申请人：ファナック株式会社
发明人：本田昌洋
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/097 , H01S3/00
CPC分类号： H01S3/032 , H01S3/036 , H01S3/0384 , H01S3/0407 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/104 , H01S3/13 , H01S3/1306 , H01S3/134 , H01S3/2207 , H01S3/2232
摘要：【課題】ガス容器の密閉性を推定可能なガスレーザ発振器を提供する。【解決手段】ガスレーザ発振器は、電源出力指令を出力する出力指令部と、放電管において放電を開始させるように、電源出力指令に応じた放電管電圧を放電管に印加する電源部と、放電管電圧を検出する電圧検出部と、電源出力指令を徐々に増大させたときの電圧検出部の検出値に基づいて、放電管において放電が開始したか否かを判定する放電開始判定部と、放電管電圧を印加してから、放電開始判定部によって放電が開始したと判定されるまでの放電開始時間が、予め定められる第1の閾値を超えたときに、ガス容器の密閉性が低下したことを判定する密閉性判定部と、を備える。【選択図】図2
摘要翻译：以提供气体容器的估气体激光振荡器密封性。的气体激光振荡器，用于输出功率输出命令的输出指令单元，以启动放电的放电管中，一个电源单元，用于将对应于所述电源的输出命令到排出管，所述排出管的排出管电压用于检测电压的电压检测器，和基于由所述检测单元，放电开始确定单元，确定当逐渐增加的功率输出命令放电是否在放电管发起，放电检测到的值的电压从管电压，直到它被判断为放电已经开始时，当其超过预先定义的第一阈值，密封气体容器液滴的放电开始由放电开始判断单元时间的应用和密封性能确定单元确定。 .The

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