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1. 发明专利

JP2017509888A 流体の流れの物理パラメータを感知可能な素子の製造方法及び対応する感知素子审中-公开
公开(公告)号：JP2017509888A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2016558079
申请日：2015-03-17
申请人：オキシトロルエス.アー. , オキシトロルエス.アー.
发明人：グラ，クリスチャン , ドナ，カトリーヌ
IPC分类号： G01K7/18
CPC分类号： G01F1/69 , B05D1/18 , C03B25/02 , G01K1/08 , G01K7/16 , G01K13/02 , H01C1/028 , H01C17/00 , H01F27/2823 , H01F41/06
摘要：本発明は、流体の流れの少なくとも一つの物理パラメータを感知可能な素子を製造する方法に関し、その方法は、溶融ガラス内への、プレアセンブルされた感知素子の芯を浸漬する単一のサイクルを含むステップを含み、芯は少なくとも二つの長手方向の通路を有し、少なくとも2本ワイヤの巻線に接続される少なくとも二本の伝導性接続ワイヤが通路を長手方向に通過し、巻線は、物理パラメータを検出するための抵抗回路又は誘導性回路を形成するために適しており、浸漬は、単一の浸漬において、接続ワイヤが通路の中に封止されることを可能にし、通路が満たされることを可能にし、且つ芯の外側が被覆されることを可能にし、芯は、単一の浸漬サイクルの終わりに、組み立てられた感知素子を得られるように封止され且つ覆われる。有利には、巻線は、長手方向の通路の内側で巻かれた“らせん”であってもよく、浸漬は、接続ワイヤが巻線上に適切に保持されること、及び巻線のターンの間の空間を制御することを可能にする。

2. 发明专利

JP2015511006A 圧力センサ及び対応するセンサの製造方法有权
标题翻译：的压力传感器的制造方法和相应的传感器
公开(公告)号：JP2015511006A
公开(公告)日：2015-04-13
申请号：JP2014560360
申请日：2013-03-06
申请人：オキシトロルエス.アー. , オキシトロルエス.アー. , セントレナショナルデラリシェルシェサイエンティフィックラボラトワールダナリセエダルキテクチャールデシステムズ , セントレナショナルデラリシェルシェサイエンティフィックラボラトワールダナリセエダルキテクチャールデシステムズ
发明人：ブリダ，セバスチャーノ , ネール，ジャン−フランソワル , ネール，ジャン−フランソワル
IPC分类号： G01L9/00 , H01L29/84
CPC分类号： B81B3/0021 , B32B38/08 , B81B7/0006 , B81B7/02 , B81B2201/0264 , B81B2203/0127 , B81B2207/07 , B81B2207/095 , B81B2207/096 , B81C1/00182 , B81C1/00341 , G01L7/08 , G01L9/0045 , G01L9/0052 , G01L9/0054 , G01L9/0055 , G01L9/006 , G01L9/008 , G01L9/04 , G01L9/06 , G01L19/0061 , G01L19/0069 , G01L19/0076 , G01L19/147 , G01L19/148 , H01L2224/45169 , Y10T29/49888 , Y10T156/10
摘要：本発明は圧力センサを製造する方法に関し、歪みゲージが堆積された可変薄膜と支持体を組み立てて微小機械構造体を得る、組み立て工程を含み、可変薄膜はその中心に薄化領域を有し、支持体は可変薄膜の上に配置され、支持体は上面と、可変薄膜と接触した下面とを有し、支持体は歪みゲージの上に配置された外側凹部と可変薄膜の薄化領域の上に配置された中央凹部とを更に含む。いったん組み立て工程が得られると、上記方法は、少なくとも1つの導電性物質を支持体の上面上及び支持体の外側凹部内に堆積する単一の工程を含み、導電性物質は歪みゲージと接触するために外側凹部に延在し、歪みゲージに接続する電気接点を形成する。
摘要翻译：涉及一种方法，本发明用于制造压力传感器，获得的微机械结构组装可变薄膜应变仪已经沉积支撑件包括一个装配步骤中，可变薄膜具有在中心具有薄区域，支撑被放置在可变薄膜，在支撑体和顶表面，并且与所述可变薄膜，在所述外凹部的薄区域和可变薄膜的基板设置在所述应变仪接触的下表面还包括一个设置中央凹部。一旦获得了组装过程中，该方法包括在上表面的外侧凹陷和在所述支撑载体的沉积至少一个导电材料的单个步骤，所述导电材料与所述应变仪接触向外延伸的凹部，以形成电接触以连接到应变仪。

3. 发明专利

JP2016535846A 温度変化に対して耐性を示す接着剤層を制御するための構造を含む圧力センサ有权
标题翻译：一种压力传感器，包括用于控制所述粘合剂层的结构，其是对温度变化耐
公开(公告)号：JP2016535846A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2016525900
申请日：2014-10-24
申请人：オキシトロルエス.アー. , オキシトロルエス.アー.
发明人：ブリダ，セバスティアーノ , セヤール，ダヴィド
IPC分类号： G01L9/00 , H01L29/84
CPC分类号： G01L19/04 , G01L19/146 , G01L19/147
摘要：本発明は、圧力センサに関し、この圧力センサは、実装基板を含む感知素子であって、実装基板は、上面及び底面を含み、感知素子は、実装基板の上面に接続される変形可能なダイヤフラムも含む感知素子と;感知素子が配置されるハウジングであって、ハウジングは、基部を含む、ハウジングと;ハウジングの基部と実装基板との間に配置される中間構造体であって、中間構造体は、基部を含み、この基部は、上面と、ハウジングの基部に接続される底面とを含み、中間構造体は、中間構造体の上面から所定の距離に実装基板を保持するように構成される、中間構造体と;中間構造体の上面に延びる接着剤層と;を有する。接着剤層の厚さは、中間構造体の上面から所定の距離に実装基板を保持するように制御された厚さを有する。本発明は、このような圧力センサの製造方法にも関する。
摘要翻译：本发明涉及一种压力传感器，所述压力传感器是包括安装基板的感测装置，所述安装基板包括顶面和底面，所述感测元件可以是被连接到所述安装基板的上表面上的可变形隔膜的感测元件，其包括：壳体，感测元件被设置，所述壳体包括底座和壳体;设置在所述基座和所述外壳的所述安装基板，中间结构之间的中间结构包括基座部分，所述基座部分包括顶面，连接到所述外壳的底部的底表面上，中间结构被配置为从所述中间结构的上表面保持一安装衬底的预定距离，具有;中间结构;以及延伸到所述中间结构的上表面上的粘合剂层。粘合剂层的厚度具有一个被控制的厚度从上表面上的安装基板保持到中间结构的一个预定的距离。本发明还涉及一种用于制造这样的压力传感器的方法。

4. 发明专利

JP2016524716A 過大な圧力又は過小な圧力による故障を識別できる圧力を測定するためのシステム审中-公开
标题翻译：系统，用于测量压力，它可以识别故障由于过度的压力或加压下
公开(公告)号：JP2016524716A
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：JP2016520418
申请日：2014-06-16
申请人：オキシトロルエス.アー. , オキシトロルエス.アー.
发明人：ロンギュ，ギヨーム
IPC分类号： G01L27/00 , G01L9/04
CPC分类号： G01L19/0618 , G01D3/08 , G01L9/0047 , G01L27/007
摘要：本発明は、圧力を測定するためのシステムに関し、圧力センサであって:変形可能な膜に加えられた圧力によってもたらされる変形可能な膜の変形を示すブリッジ電圧を送出することができる抵抗ブリッジがその上に配置される、変形可能な膜;変形可能な膜における過大な圧力又は過小の圧力の場合にブリッジ電圧を制限できる、変形可能な膜の変形を制限するためのシステム;を有する、圧力センサ;及びブリッジ電圧に応じた出力電圧を送出できる、抵抗ブリッジに接続される増幅電子回路;を有し、制限システム及び電子回路は、出力電圧が、圧力センサにおける及び/又は電子回路における故障の場合と、変形可能な膜における過大な圧力若しくは過小な圧力の場合を区別することを可能にするように、共同して構成される。
摘要翻译：本发明涉及一种系统，用于测量压力，压力传感器：能够递送引起压力的可变形膜的变形例的电桥电压的电阻电桥施加到可变形膜据设置在其上，可变形的膜;可以限制在压力过大的压力的情况下或可变形薄膜下桥电压，用于限制所述可变形膜的变形的系统;具有，压力传感器;一个输出电压可以根据和电桥电压被连接到电阻桥放大器电子被发送;具有限制系统和一个电子电路，所述输出电压，故障在和/或电子电路压力传感器如果一个，使得它能够在所述可变形膜的过大的压力或压力不足的情况下区分共同构成。

6. 发明专利

JP6462682B2 温度変化に対して耐性を示す接着剤層を制御するための構造を含む圧力センサ有权
公开(公告)号：JP6462682B2
公开(公告)日：2019-01-30
申请号：JP2016525900
申请日：2014-10-24
申请人：オキシトロルエス.アー.
发明人：ブリダ,セバスティアーノ , セヤール,ダヴィド
IPC分类号： H01L29/84 , G01L9/00

7. 发明专利

JP6412930B2 過大な圧力又は過小な圧力による故障を識別できる圧力を測定するためのシステム审中-公开
公开(公告)号：JP6412930B2
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：JP2016520418
申请日：2014-06-16
申请人：オキシトロルエス.アー.
发明人：ロンギュ,ギヨーム
IPC分类号： G01L9/04 , G01L27/00
CPC分类号： G01L19/0618 , G01D3/08 , G01L9/0047 , G01L27/007

8. 发明专利

JP6670249B2 流体の流れの物理パラメータを感知可能な素子の製造方法及び対応する感知素子有权
公开(公告)号：JP6670249B2
公开(公告)日：2020-03-18
申请号：JP2016558079
申请日：2015-03-17
申请人：オキシトロルエス.アー.
发明人：グラ,クリスチャン , ドナ,カトリーヌ
IPC分类号： G01K7/18

9. 发明专利

JP6022587B2 変形可能な膜と強い変形に対する保護とを有する微小機械構造有权
标题翻译：具有保护和防止变形膜和强变形微机械结构
公开(公告)号：JP6022587B2
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：JP2014537585
申请日：2012-10-24
申请人：オキシトロルエス.アー.
发明人：ブリダ,セバスチャーノ
IPC分类号： G01L9/00 , G01L13/00 , G01L19/06
CPC分类号： G01L9/0047 , B81B3/0051 , B81B3/0097 , G01L19/0618 , G01L9/0042 , G01L9/0048 , B81B2201/0264

10. 发明专利

JP2014531034A 変形可能な膜と強い変形に対する保護とを有する微小機械構造有权
标题翻译：具有保护和防止变形膜和强变形微机械结构
公开(公告)号：JP2014531034A
公开(公告)日：2014-11-20
申请号：JP2014537585
申请日：2012-10-24
申请人：オキシトロルエス.アー. , オキシトロルエス.アー.
发明人：ブリダ，セバスチャーノ
IPC分类号： G01L19/06 , G01L9/00 , G01L13/00
CPC分类号： G01L9/0047 , B81B3/0051 , B81B3/0097 , B81B2201/0264 , G01L9/0042 , G01L9/0048 , G01L19/0618
摘要：本発明は、機械的な大きさ又は動的な大きさを測定し或いは検出することを意図する微小機械構造に関し、変形可能な膜(20)と、支持基板(10)とを含み、膜(20)は、第1の部分(20a)と、第1の部分(20a)によって取り囲まれる第2の部分(20b)とを含み、第2の部分(20b)は、第1の部分(20a)の厚さ未満の厚さを有し、膜(20)は、支持基板(10)より上に懸架され、それによって、自由空間(30)を定め、微小機械構造は、追加的に、膜(20)の変形を制限するよう構成される下方当接部(21)を含み、下方当接部(21)は、支持基板(10)より上に配置され、且つ支持基板(10)から膜(20)に向かって自由空間(30)内に延び、下方当接部(21)は、下方当接部(21)の平坦な表面から膜(20)に向かって自由空間(30)内に延びる小島(101−108)を含み、小島(101−108)は、小島と膜の精細な部分(20b)との間の接触の事態において、小島と膜(20)の精細な部分(20b)との間の接触表面が膜(20)の精細な部分(20b)の寸法に対して小さいような方法においてレリーフ構造を形成する。
摘要翻译：本发明包括涉及用于测量或检测机械大小或动态的大小，且可变形膜（20），以及支撑衬底（10），膜（微机械结构 20）包括第一部分（20A），和一第二部分20b通过所述第一部分（20A），第二部分（20B）包括第一部分（20A包围（））的厚度小于膜的厚度（20）悬浮在支撑基板（10）的上方，由此限定自由空间（30），所述微机械结构是附加膜（邻接向下配置为限制20的变形）一（21），下支座（21）被布置成从支撑基板（10支撑基板（10），以及膜的上方）（向20）延伸到自由空间（30），所述下部邻接（21）延伸进入的方向上的自由空间（30）从下部支座（21）的平坦面与膜（20）包括小岛（101-108），小岛（101-108），胰岛的细的部分和膜之间的接触（20B）在的情况下，以形成在一个小的方式的凹凸结构相对于所述接触表面层（20）的微细部分的尺寸（20B）胰岛的细的部分和所述膜（20）之间（20b）的。

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