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61. 发明专利

JP2003315029A Shape measuring method and apparatus thereof 有权
标题翻译：形状测量方法及其设备
公开(公告)号：JP2003315029A
公开(公告)日：2003-11-06
申请号：JP2002120357
申请日：2002-04-23
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： KAZUI MASATO , IKEDA KOJI , TAKANE ATSUSHI
IPC分类号： G01B15/04 , G01B15/08 , G01N23/225 , G01Q30/02 , H01J37/28 , H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G01B15/08 , G01N23/2251 , H01J2237/2817
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately measure the sectional shape or three-dimensional shape of a sample without using any matching of feature points.
SOLUTION: The signal strength of electron beams is detected by an electron detector 3 when the sample 7 is illuminated with an electron gun 1 when a tilt angle is equal to ϕ=0. A slope angle θ of a sample surface is calculated by an image processing section 6 based on the detection output. The sectional shape candidate of the sample is estimated from the calculation value. The signal strength of electron beams that are generated from the sectional shape candidate of the sample is estimated when the tilt angle is changed to ϕ=ϕ
0 , and electron beams are applied to the sectional shape candidate of the estimated sample. The estimated result of the signal strength is compared with the signal strength of electron beams that is actually detected by the electron detector 3 when the tilt angle is changed to ϕ=ϕ
0 , and the sectional shape of the sample where the comparison result is minimized is estimated, thus obtaining the three- dimensional shape of the sample from the estimation result.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO
摘要翻译：要解决的问题：为了精确地测量样品的截面形状或三维形状，而不使用特征点的任何匹配。解决方案：当倾斜角度等于φ= 0时，当用电子枪1照射样品7时，电子检测器3检测电子束的信号强度。基于检测输出，由图像处理部6计算出样本面的倾斜角θ。从计算值估计样品的截面形状候选。当倾斜角度改变为φ=φ 0 时，估计从样本的截面形状候选产生的电子束的信号强度，并将电子束施加到估计样本。将信号强度的估计结果与当倾斜角度改变为φ=φ 0 时由电子检测器3实际检测到的电子束的信号强度进行比较，估计比较结果最小化的样本，从估计结果获得样本的三维形状。版权所有（C）2004，JPO

62. 发明专利

JP2003303566A Electron microscope, operating method of electron microscope, electron microscope operation program, and computer-readable recording medium 有权
标题翻译：电子显微镜，电子显微镜的操作方法，电子显微镜操作程序和计算机可读记录介质
公开(公告)号：JP2003303566A
公开(公告)日：2003-10-24
申请号：JP2002108931
申请日：2002-04-11
申请人： Keyence Corp , 株式会社キーエンス
发明人： TAKAGI SHIGENOBU
IPC分类号： G01N23/225 , G01Q10/00 , G01Q30/02 , G01Q30/04 , G21K7/00 , H01J37/22 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/222 , G01N23/2251
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a guide function for operating procedure to allow even a person unaccustomed to the operation of an electron microscope, to operate the microscope. SOLUTION: In this electron microscope, the electrons are applied to a sample on the basis of the predetermined image observing condition, and a desired position of the sample can be observed with a desired observing magnification by detecting the secondary electrons or reflected electrons. This electron microscope has a first image observation mode image plane as an image plane for setting the image observing condition, comprising a first display part for displaying the observed image of the sample, a second display part for displaying a group of observed images of the sample as one or more secondary images or one or more reflected electron images, on the basis of the condition set by the first image observation mode setting means, and a selecting means for selecting the desired observed image from the group of the observed images displayed on the second display part. COPYRIGHT: (C)2004,JPO
摘要翻译：要解决的问题：为了提供操作程序的引导功能，以便甚至不能习惯于电子显微镜的操作的人操作显微镜。解决方案：在该电子显微镜中，基于预定的图像观察条件将电子施加到样品，并且可以通过检测二次电子或反射电子以期望的观察倍率观察样品的期望位置。该电子显微镜具有第一图像观察模式图像平面作为用于设定图像观察条件的图像平面，包括用于显示样本的观察图像的第一显示部分，用于显示样本的观察图像组的第二显示部分作为一个或多个二次图像或一个或多个反射电子图像，基于由第一图像观察模式设置装置设置的条件，以及选择装置，用于从显示在第二图像上的观察图像组中选择所需的观察图像第二显示部分。版权所有（C）2004，JPO

63. 发明专利

JPS6162849A Density curve analytical system of automatic multifunctional analyser 失效
标题翻译：自动多功能分析仪的密度曲线分析系统
公开(公告)号：JPS6162849A
公开(公告)日：1986-03-31
申请号：JP14892784
申请日：1984-07-18
申请人： Jeol Ltd , Nippon Steel Corp
发明人： TANAKA HIDEO , TAGATA SHOJIRO , SUZUMI JIYUN
IPC分类号： H01J37/252 , G01N23/225 , H01J37/22
CPC分类号： G01N23/2251
摘要： PURPOSE:To enable analysis in an arbitrary analytical area in a non-destructive state, by outputting a density color map image from various quantum signal generated from a specimen by the irradiation of an electron beam. CONSTITUTION:A density calculation part 31 performs plane scanning to calculate the wt. density of an element with respect to the raw data of characteristic X-rays or a reflected electron. A level classification processing part 32 divides, for example, wt. density into (n) equal parts between max. and min. densities and performs level classification processing centering around the average density so as to obtain arbitrary %-sections. A color classification processing part 33 performs the color classification processing of display corresponding to each section. A display control part 34 performs processing for displaying a map image on color graphic display according to the color classification.
摘要翻译：目的：通过从电子束的照射从样本产生的各种量子信号中输出浓度色图，可以在无损状态的任意分析区域进行分析。构成：密度计算部31进行平面扫描，计算重量。相对于特征X射线的原始数据或反射电子的元素的密度。水平分类处理部32例如分割重量。密度（n）最大值之间相等和最小以平均密度为中心进行水平分类处理，以获得任意的％分割。颜色分类处理部33进行与各部相对应的显示的颜色分类处理。显示控制部分34执行根据颜色分类在彩色图形显示上显示地图图像的处理。

64. 发明专利

JPS6153553A Dispersion evaluator 失效
标题翻译：分散评估员
公开(公告)号：JPS6153553A
公开(公告)日：1986-03-17
申请号：JP17565484
申请日：1984-08-23
申请人： Tdk Corp
发明人： KONUKI KAZUAKI
IPC分类号： G01N23/225 , H01J37/256 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/256 , G01N23/2251
摘要： PURPOSE:To enable the evaluation of 3-D dispersion and changes in the density of material, by varying the irradiation point of an electron beam quadratically in a fine range to perform an arithmetic processing of the detection values in the intensity of reflected electrons and energy dispersion of characteristic X rays. CONSTITUTION:Electron beams emitted from an electron beam 1 are focused on a measuring sample on a sample base 6 through a condenser lens 3 and an objective lens 4 and the sample base 6 is moved with a sample base driver 13 to vary the irradiation point of the electron beam quadratically in a fine range sequentially. The intensity of the reflected electrons are memorized into an auxiliary memory 15 through a reflected electron analyzer 7 and an arithmetic unit 12. On the other hand, energy dispersion and wavelength dispersion of characteristic X rays are memorized into the memory 15 respectively through an energy analyzer 29 and the arithmetic unit 11 and a wavelength analyzer 10 and an arithmetic unit 12. The arithmetic unit 14 determines the composition and concentration of elements from these memory data. Thus, secondary electrons, reflected electrons and characteristic X rays generate in this order from the shallower location thereby enabling the evaluation of 3-D dispersion and changes in the concentration.
摘要翻译：目的：通过在微细的范围内二次改变电子束的照射点，进行3-D色散的评价和材料的密度变化，对反射电子和能量的强度进行运算处理特征X射线的分散。构成：从电子束1发射的电子束通过聚光透镜3和物镜4聚焦在样品基底6上的测量样品上，并且用样品基体驱动器13移动样品基底6以改变样品基底6的照射点电子束依次呈二次方向微调。反射电子的强度通过反射电子分析器7和运算单元12被存储到辅助存储器15中。另一方面，特征X射线的能量色散和波长色散分别通过能量分析仪记录到存储器15中 29和运算单元11以及波长分析器10和运算单元12.算术单元14从这些存储器数据确定元件的组成和浓度。因此，二次电子，反射电子和特征X射线从较浅的位置依次产生，从而能够评估3-D色散和浓度变化。

65. 发明专利

KR102236306B1 KR102236306B1 - Method for inspecting lithium electrode for thermal batteries 有权
公开(公告)号：KR102236306B1
公开(公告)日：2021-04-05
申请号：KR1020200139287A
申请日：2020-10-26
申请人： 국방과학연구소
发明人： 임채남 , 최치훈 , 유혜련 , 윤현기 , 조장현
IPC分类号： H01M4/06 , G01N23/04 , G01N23/2251 , H01M6/36 , H01M6/50
CPC分类号： H01M4/06 , G01N23/043 , G01N23/2251 , H01M6/36 , H01M6/5083
摘要： 열전지용 리튬전극의 검사방법은 리튬과 철을 포함하는 상기 리튬전극의 물성치를 측정하여서 상기 리튬전극의 이론 물성치와 비교한 결과를 기초로, 상기 리튬의 함량을 분석하는 제 1 차 검사 단계; 전자빔(Electron Beam)을 상기 리튬전극에 주사(Scanning)하여 생성된 이미지를 기초로, 상기 리튬과 상기 철의 분포 상태를 명암에 따라 구분하는 제 2 차 검사 단계; 및 마이크로 X선(Micro X-Ray)을 상기 리튬전극에 주사하여 생성된 이미지를 기초로, 상기 리튬전극의 성분들의 분포 상태를 원자량(Atomic Weight)에 따라 분석하는 제 3 차 검사 단계;를 포함한다.

66. 发明专利

JP6362782B2 X線ナノラジオグラフィ及びナノトモグラフィの方法及び装置审中-公开
公开(公告)号：JP6362782B2
公开(公告)日：2018-07-25
申请号：JP2017528815
申请日：2015-12-03
申请人：アドヴァカムエス.アール.オー. , ADVACAM S.R.O.
发明人：ソハー、ジャン
IPC分类号： G01N23/2252 , G01N23/203 , G01N23/2206 , G01N23/2251
CPC分类号： G01N23/046 , G01N23/2251 , G01N2223/045 , G01N2223/419

67. 发明专利

JP2018513347A 複相鋼中のオーステナイト相の可視化方法及び組織観察用複相鋼片有权
公开(公告)号：JP2018513347A
公开(公告)日：2018-05-24
申请号：JP2017501419
申请日：2016-03-02
申请人： JFEスチール株式会社
发明人：シャルカミクメコバ , 月居大輔 , 田中裕二
IPC分类号： G01N23/2251 , G01N23/203 , G01N23/2202
CPC分类号： G01N23/2251 , G01N1/32 , G01N2223/053 , G01N2223/418 , G01N2223/624
摘要：【課題】複相鋼中のオーステナイト相をナノスケールで識別することが可能な、複相鋼中のオーステナイト相の可視化方法を提供する。【解決手段】本発明の方法は、a)腐食性酸と有機溶媒とを含有する電解質溶液中で複相鋼片の表面を電解研磨して、該複相鋼片の表面に自然酸化物層を形成する工程と、b)前記電解研磨の完了後、前記電解質溶液中に前記複相鋼片を引き続き浸漬させて、前記自然酸化物層のうちオーステナイト相を被覆する領域上にのみ選択的に腐食生成物層を形成する工程と、c)前記複相鋼片の表面を走査型電子顕微鏡観察に供して、前記腐食生成物層と残りの表面とのコントラストを得ることで、前記オーステナイト相を最も暗い領域として可視化する工程と、を有する。【選択図】図1

68. 发明专利

JP6251525B2 荷電粒子線装置有权
公开(公告)号：JP6251525B2
公开(公告)日：2017-12-20
申请号：JP2013189987
申请日：2013-09-13
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：笹嶋二大 , 木村嘉宏 , 三浦秋博
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/20 , H01J37/24 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/265 , G01N23/2251 , H01J37/244 , H01J37/292 , G01N2223/6116

69. 发明专利

JP2017535787A 基板の検査装置、基板の検査方法、大面積基板検査装置、及びその操作方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017535787A
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2017528470
申请日：2014-12-22
申请人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated , アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated
发明人：ベルンハルトミューラー , ベルンハルトミューラー , ルートヴィヒレードル , ルートヴィヒレードル , アクセルヴェンツェル , アクセルヴェンツェル , リディアパリソーリ , リディアパリソーリ , マティアスブルンネル , マティアスブルンネル
IPC分类号： G01N23/22 , G01N23/225
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/203 , G01N23/2251 , G01N23/2252 , G01N2223/61 , H01J37/145 , H01J37/16 , H01J2237/0216
摘要：ディスプレイ製造用大面積基板を検査するための装置が記載される。本装置は、真空チャンバと、真空チャンバ内に配置され、ディスプレイ製造用大面積基板を支持するように構成された基板支持体と、基板支持体によって支持された基板を検査するための荷電粒子ビームを生成するように構成され、対物レンズの減速電解レンズコンポーネントを含む第1の撮像荷電粒子ビーム顕微鏡とを含む。

70. 发明专利

JP2017201304A フォトリソグラフィマスクまたはウェハの欠陥を分析するためのデバイスおよび方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017201304A
公开(公告)日：2017-11-09
申请号：JP2017077274
申请日：2017-04-10
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ガブリエルバラリア , クリストフバウアー , クラウスエディンガー , トルステンホフマン , ミヒャエルブダッハ
IPC分类号： G01N1/28 , G01Q30/20 , G01Q30/04 , H01J37/28 , H01J37/305 , G01Q30/02
CPC分类号： G01N23/2251 , G01Q30/04 , G01Q60/38 , G02B21/0016 , G03F1/84 , G03F7/7065 , H01J37/28 , H01J37/32366 , G01N2223/6116 , G01N2223/646 , G01Q70/06 , G01Q80/00 , H01J2237/2814 , H01J2237/334
摘要：【課題】フォトリソグラフィマスクまたはウェハの欠陥を分析するためのデバイスおよび方法を提供する。【解決手段】フォトリソグラフィマスク720またはウェハの少なくとも1つの欠陥740、750を分析するためのプローブ構成を含む走査型プローブ顕微鏡に関し、走査型プローブ顕微鏡は、(a)少なくとも1つの欠陥740、750を分析するように具現された少なくとも1つの第1のプローブ425と、(b)少なくとも1つのマーク910、915、920を生成するための手段であり、マークによって少なくとも1つの欠陥740、750の位置が、フォトリソグラフィマスク720またはウェハに示される手段とを含み、(c)マーク910、915、920が、走査型粒子ビーム顕微鏡によって検出され得るように具現される。【選択図】図9

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