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2. 发明专利

JP2018040645A 陽電子消滅特性測定装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018040645A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2016173997
申请日：2016-09-06
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 東洋精鋼株式会社
发明人：山脇正人 , 小林慶規 , 服部兼久 , 上杉直也
IPC分类号： G01N23/22
摘要：【課題】陽電子線源の破損を抑制する技術を提供する。【解決手段】陽電子消滅特性測定装置は、装置内に固定される陽電子線源424と、陽電子線源424に対向する位置に被測定体Sを保持する保持手段70と、陽電子線源424に対して保持手段70に保持される被測定体Sとは反対側に配置されており、陽電子線源424で生成された陽電子のうち被測定体Sに入射されなかった陽電子を検出する陽電子検出手段40と、陽電子線源424で生成された陽電子が消滅するときに発生する放射線を検出する放射線検出手段14と、陽電子検出手段40の検出結果と、放射線検出手段14の検出結果に基づいて、被測定体内における陽電子の消滅特性を算出する消滅特性算出手段50を備えている。保持手段70は、陽電子線源424から離間する位置で被測定体Sを保持する。【選択図】図2

3. 发明专利

JP2017210286A ガラス板合紙用木材パルプ及びその使用、ガラス板用合紙、それを用いた積層体、ガラス板の保護方法、並びにガラス板合紙用木材パルプ又はガラス板用合紙の検査方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017210286A
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2016106530
申请日：2016-05-27
申请人：特種東海製紙株式会社
发明人：浅井靖彦 , 藤川直樹
IPC分类号： G01N23/223 , G01N23/22 , B65D85/48 , B65D65/00
摘要：【課題】高い清浄度及び傷品位が要求されるフラットパネル・ディスプレイ用の基板材料として用いられるガラス板向けの、当該ガラスの表面の汚染を実際上問題のないレベルにまで低減することが可能な合紙、並びに、当該合紙用の木材パルプを提供する。【解決手段】JIS P 8222に準拠した方法で調製された手すき紙の蛍光X線分析による該手すき紙の各元素の濃度が下記 (1)アルミニウム 120ppm以下 (2)ケイ素 1000ppm以下 (3)硫黄 300ppm以下 (4)カルシウム 800ppm以下 (5)マグネシウム 800ppm以下 (6)鉄 100ppm以下 (7)塩素 700ppm以下 (8)ナトリウム 3500ppm以下 (9)カリウム 50.0ppm以下 (10)リン 20.0ppm以下 (11)ニッケル 400ppm以下の条件の少なくとも1つを満たすガラス板合紙用木材パルプ。【選択図】なし

4. 发明专利

JP2017199540A 傾斜支持台付き標準試料、走査型電子顕微鏡の評価方法、及びSiC基板の評価方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017199540A
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：JP2016089094
申请日：2016-04-27
申请人：学校法人関西学院
发明人：金子忠昭 , 芦田晃嗣 , 久津間保徳
IPC分类号： G01N1/00 , H01J37/20 , H01J37/22 , G01N1/28 , G01N23/225 , G01N23/22 , H01J37/28
CPC分类号： G01N1/00 , H01J37/20 , H01J37/28
摘要：【課題】走査型電子顕微鏡の品質を客観的に評価するための標準試料において、オフ角が大きい場合であっても性能を発揮可能な構成を提供する。【解決手段】標準試料41は、単結晶SiCからなるステップ/テラス構造が形成されており、それぞれのテラスの表面は、第1積層配向又は第2積層配向の何れかである。また、テラスの表面の垂直線に対して、走査型電子顕微鏡から照射される電子線がなす角度を入射電子角度としたときに、この標準試料41は、表面直下の第1積層配向のテラスの映像と、表面直下の第2積層配向のテラスの映像と、の明暗の差であるコントラストが入射電子角度に応じて変化する。SiC基板がオフ角度(例えば1°から8°)を有する場合においても、当該オフ角度を補正可能とする傾斜支持台20aを使用することでオフ角度によらず、表面直下の第1積層配向と第2積層配向の差を反映した鮮明なコントラストが得られる。【選択図】図10

5. 发明专利

JP2017187288A 積層体の表面の異常部を分析する方法有权
公开(公告)号：JP2017187288A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：JP2016073936
申请日：2016-04-01
申请人：住友金属鉱山株式会社
发明人：二宮秀治
IPC分类号： G01N21/27 , G01N23/225 , G01N23/22 , G01N21/65
摘要：【課題】積層体の表面の異常部を精度よく分析する。【解決手段】樹脂層と樹脂層上に積層された金属層とを備える積層体の表面の異常部を分析する方法であって、金属層の表面を観察し、金属層の表面に生じる異常部の位置を特定する異常部特定工程と、異常部の表面に対応するEDXスペクトルおよびラマンスペクトルを取得する表面分析工程と、異常部を分断するように積層体を切断して切断面を作製する切断工程と、切断面に露出する異常部に対応するEDXスペクトルおよびラマンスペクトルを取得し、異常部を分析する断面分析工程と、を有する、積層体の表面の異常部を分析する方法が提供される。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2017187283A オージェ電子分光分析の分析試料作製方法およびオージェ電子分光分析方法有权
公开(公告)号：JP2017187283A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：JP2016073820
申请日：2016-04-01
申请人：住友金属鉱山株式会社
发明人：北里朋子
IPC分类号： G01N23/22 , G01N23/227
摘要：【課題】導電体シートと組成が異なる粉末試料を含有する混合物とを交互に積層させることにより、帯電現象を簡便かつ効果的に抑制することができ、効率的にオージェ電子分光分析ができる分析試料作製方法を提供する。【解決手段】組成が異なる粉末試料をそれぞれ樹脂と混合することで、組成が異なる粉末試料ごとの混合物を得る混合物作製工程S1と、一の導電体シートの上に複数の混合物のいずれかを塗布した後、塗布された混合物の上に他の導電体シートを搭載することを繰り返し、導電体シートと混合物を交互に積層し、最下層と最上層を導電体シートとすることで、積層体を得る積層工程S2と、積層体の積層方向に対して断面を形成する断面加工工程S3とを有する。【選択図】図1

7. 发明专利

JP2017116534A 蛍光Ｘ線分析用試料調製方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017116534A
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：JP2016231219
申请日：2016-11-29
申请人：住友金属鉱山株式会社 , Sumitomo Metal Mining Co Ltd
发明人： DANJYO RYOHEI , KAGAKUI ATSUSHI
IPC分类号： G01N23/22 , G01N1/00 , G01N1/28 , G01N1/36 , G01N23/223
摘要：【課題】ニッケル酸化鉱石の湿式精錬プロセスにおけるプロセス分析として、試料の再凝集や粉砕装置の違いによる分析誤差を最小限に抑える蛍光X線分析用試料調製方法を提供する。【解決手段】ニッケル酸化鉱石の鉱石スラリーから蛍光X線分析用の試料を調製する蛍光X線分析用試料調製方法であって、ニッケル酸化鉱石の鉱石スラリーを乾燥させる乾燥工程S1と、乾燥させたニッケル酸化鉱石の鉱石スラリーの固形分を粉砕し、粗粉末を得る粗粉砕工程S2と、粗粉末を粉砕機により粉砕することで、微粉末を得る微粉砕工程S3と、ニッケル酸化鉱石中の金属成分の含有量を算出するための検量線を作成する検量線作成工程S4と、微粉砕工程S3後の微粉末を収納した試料カップを、平板状になるように加圧・成形し、ブリケットを得る成形工程S5とを有し、検量線作成工程S4では、検量線用の試料を粉砕機で粉砕し、粉砕時間を微粉砕工程S3における粉砕時間と同じにすることを特徴とする。【選択図】図1

8. 发明专利

JP2017102039A パターン計測プログラム、パターン計測方法および装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017102039A
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：JP2015236131
申请日：2015-12-02
申请人：凸版印刷株式会社
发明人：西山泰史
IPC分类号： G01N23/225 , G01N23/203 , G01N23/22 , H01J37/22 , H01L21/66 , G01B15/08 , G01B15/00
摘要：【課題】ノイズの影響が小さく、高周波成分まで適正に計測することができるパターン計測プログラム、方法、装置を提供する。【解決手段】プログラムは、荷電粒子線を照射した試料から放出された電子を検出して走査位置と電子検出量を関係付けた画像の輝度分布を取得するステップと、パターン端部の延伸方向に画像の輝度値を積算し積算輝度プロファイルを求めるステップと、積算輝度プロファイルを複数の関数でフィッティングする成分数とフィッティング処理領域を決定するステップと、フィッティング処理により積算プロファイル最適化関数を得るステップと、積算プロファイル最適化関数を用いて積算しない個別の画素列の輝度プロファイルである実測輝度プロファイルに対して積算プロファイル最適化関数を用いてフィッティング処理して個別プロファイル最適化関数を得るステップと、個別プロファイル最適化関数を比較してフィッティング処理の良否を判定するステップと、端部位置の粗さの特性値を出力するステップを含む。【選択図】図6

9. 发明专利

JP2017096784A 電子顕微鏡用導電性コーティング剤审中-公开
公开(公告)号：JP2017096784A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：JP2015229459
申请日：2015-11-25
申请人：学校法人聖マリアンナ医科大学 , 日新イーエム株式会社
发明人：佐々木千鶴子
IPC分类号： C09D181/00 , C09D125/08 , C09D5/24 , G01N23/22 , H01J37/20 , G01N1/28
摘要：【課題】電子顕微鏡での高倍率観察が可能な試料を作製でき、その作製の工程も簡略化され、極めて短時間で試料作製ができる方法を提供すること。【解決手段】ポリ(2,3−ジヒドロチエノ−1,4−ジオキシン)−ポリ(スチレンスルホナート)を有効成分と含有する電子顕微鏡用導電性コーティング剤、及び試料にポリ(2,3−ジヒドロチエノ−1,4−ジオキシン)−ポリ(スチレンスルホナート)を有効成分として含有する電子顕微鏡用導電性コーティング剤を適用する工程を含む、電子顕微鏡用試料の作製方法。【選択図】図1

10. 发明专利

JP2017096701A 粒子分析方法及び粒子分析装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017096701A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：JP2015227597
申请日：2015-11-20
申请人：新日鐵住金株式会社
发明人：西野宮卓 , 辻典宏
IPC分类号： G01N15/02 , G01N23/225 , G01N23/22 , G01N15/10
摘要：【課題】周囲が液体によって被覆されている粒子であっても、粒子の粒子径に関する情報を含む粒子の構造を正確に分析すること。【解決手段】本発明に係る粒子分析方法は、平均粒子径が3μm以下の粒子に対して、一次イオンの照射条件が1×10 14 〜1×10 17 イオン/cm 2 に設定された集束イオンビームを照射して粒子の表面を研削する研削ステップと、研削ステップの前後で実施され、一次イオンの照射条件が1×10 14 イオン/cm 2 未満に設定された集束イオンビームを粒子に照射して粒子から放出される二次イオンを検出し、粒子の構造を解析する解析ステップと、研削ステップの前後での粒子の構造に関する解析結果に基づいて、粒子の表面における液体の存在の有無を判断する判断ステップと、を含み、液体が存在していると判断された粒子に対して、研削ステップと当該研削ステップ後における解析ステップとを再度実施する。【選択図】図1

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