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    • 43. 发明专利
    • Method of producing spm sensor
    • 生产SPM传感器的方法
    • JP2003329567A
    • 2003-11-19
    • JP2003077605
    • 2003-03-20
    • Nanoworld Agナノワールド アーゲー
    • LUTTER STEFAN
    • B81B3/00B81C1/00G01Q70/10G01Q70/16G01N13/16G01N13/12
    • G01Q70/16G01Q70/10
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of producing an SPM sensor being composed of a holding section 4, a cantilever 18 and a sensor tip 21 so that the sensor tip 21 projects from the surface of the cantilever 18 and is defined its boundary by three facets. SOLUTION: In the producing method, a silicon wafer 1 with the crystal orientation (100) is used as a starting material, and a process of forming a pattern is chiefly carried out on the back of the wafer 1, and a process of single batch run is carried out by chiefly using a wet chemical etching process, and thereby producing the SPM sensor 22 at a low cost. COPYRIGHT: (C)2004,JPO
    • 要解决的问题:提供一种由保持部分4,悬臂18和传感器末端21组成的SPM传感器的方法,以便传感器尖端21从悬臂18的表面伸出并被限定 其边界由三个方面。 解决方案:在制造方法中,使用具有晶体取向(100)的硅晶片1作为起始材料,并且主要在晶片1的背面进行形成图案的工艺,以及工艺 通过主要使用湿化学蚀刻工艺进行单批次运行,从而以低成本生产SPM传感器22。 版权所有(C)2004,JPO