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21. 发明专利

JP2018105781A 測定装置、塗布装置、および膜厚測定方法有权
公开(公告)号：JP2018105781A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2016253901
申请日：2016-12-27
申请人： NTN株式会社
发明人：大庭博明
IPC分类号： G01N21/45 , B05C1/02 , G01B11/06
CPC分类号： B05C1/02 , B05C5/00 , B05C11/00 , G01B11/06 , G01N21/45
摘要：【課題】基板表面に塗布された透明材料の膜厚を、高速かつ高精度に測定する。【解決手段】基板上の透明材料の膜厚を測定する方法であって、基板上には第1の基板表面には第1の対象物(透明材料)が塗布され、第2の基板表面には第2の対象物(透明材料)が塗布されている。方法は、第1の対象物が塗布されてない位置における前記第1の基板表面に対する前記第1の対象物の表面の第1の相対高さを測定する工程と、第1の対象物の裏面に対する第1の対象物の表面の第2の相対高さを測定する工程と、第1の相対高さと第2の相対高さとに基づいて透明材料の屈折率を算出する工程(S10)とを含む。方法は、さらに、第2の対象物の裏面に対する第2の対象物の表面の第3の相対高さと、算出された屈折率とを用いて、第2の対象物の膜厚を測定する工程(S20)を含む。【選択図】図9

22. 发明专利

JP6312123B2 細胞判定方法、細胞判定装置及び細胞判定プログラム有权
公开(公告)号：JP6312123B2
公开(公告)日：2018-04-18
申请号：JP2013238832
申请日：2013-11-19
申请人：国立大学法人京都大学 , 浜松ホトニクス株式会社
发明人：中辻憲夫 , 杉山範和 , 水口義則 , 深見正 , 岩井秀直 , 山内豊彦 , 角野友美
IPC分类号： C12M1/34 , G01N21/45 , C12Q1/04
CPC分类号： G01N15/1434 , C12M41/36 , G01N15/1475 , G01N33/5073 , G01N2015/1006 , G01N2015/144 , G01N2015/1447 , G06K9/00134 , G06K9/0014 , G06K9/00147

23. 发明专利

JP2018508826A 光学的干渉計用ミラープレート、ミラープレートの製造方法及び光学的干渉計有权
公开(公告)号：JP2018508826A
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：JP2017544031
申请日：2015-12-18
申请人：テクノロギアントゥトキムスケスクスヴェーテーテーオイ
发明人：ヴァルポーラアーポ , ホルムルンドクリステル , リッサネンアナ
IPC分类号： G02B26/00 , B81B3/00 , G01B9/02 , G01N21/45
CPC分类号： G01J3/26 , B81B7/00 , G01J3/0286 , G01J3/0297 , G02B5/0825 , G02B5/284 , G02B26/001 , G02B27/142
摘要：ファブリ・ペロー干渉計(300)用のミラープレート(100)は、シリコン(Si)を含む基板(50)と、基板(50)上に実装された半透明反射コーティング(110)と、基板(50)上に形成されたデカップリング構造(DC1)と、デカップリング構造(DC1)の上面に形成された第1のセンサ電極(G1a)と、第2のセンサ電極(G1b)と、を備え、デカップリング構造(DC1)は、電気絶縁層(60a)、及び第1のセンサ電極(G1a)と基板(50)との間に配置された第1の安定化電極(G0a)を含む。【選択図】図1

24. 发明专利

JP6300430B2 膜厚測定方法および膜厚測定装置有权
公开(公告)号：JP6300430B2
公开(公告)日：2018-03-28
申请号：JP2012075116
申请日：2012-03-28
申请人：国立大学法人千葉大学 , 関西ペイント株式会社
发明人：椎名達雄 , 森健二 , 中岡豊人
IPC分类号： G01N21/45 , G01B11/06

26. 发明专利

JP2018028461A 寸法計測装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018028461A
公开(公告)日：2018-02-22
申请号：JP2016159916
申请日：2016-08-17
申请人：株式会社IHI
发明人：福冨誠二
IPC分类号： G01N21/3581 , G01N21/45 , G01B11/06
摘要：【課題】従来よりも短い寸法を計測する。【解決手段】TOF法に基づき所定の計測対象物の寸法を計測する寸法計測装置であり、所定の計測用波動を測定対象物に出射する波動出射手段と、計測用波動が測定対象物の第1面で反射して生成される第1の反射波動と計測用波動が測定対象物の第2面で反射して生成される第2の反射波動とを含む対象物波動の波形を対象物波形として検出する計測波形検出手段と、計測用波動が基準反射体の表面で反射して生成される基準反射波動の波形を基準波形として検出する基準波形検出手段と、対象物波形及び基準波形を用いた多変量解析により第1の反射波動に対応する第1の反射波形及び第2の反射波動に対応する第2の反射波形を推定することにより第1の反射波形と第2の反射波形の時間差を取得する時間差取得手段と、第1の反射波形と第2の反射波形の時間差に基づき第1面と第2面の間の寸法を演算する寸法演算手段とを備える。【選択図】図1

27. 发明专利

JP2018501964A 溶接シームの深さをリアルタイムで測定するための装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018501964A
公开(公告)日：2018-01-25
申请号：JP2017540314
申请日：2015-10-16
申请人：プレシテックゲーエムベーハーウントツェーオーカーゲー
发明人：モーセルルディガー , バウツェティボルト , シェーンレベルマルティン
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/03 , B23K26/24 , B23K26/70 , B23K31/00 , G01B11/22 , G01N21/45
CPC分类号： B23K9/0956 , B23K15/0013 , B23K15/02 , B23K26/032 , B23K26/21 , B28B17/0081 , G01B5/0037 , G01B9/0203 , G01B11/22
摘要：本発明は、ワークピースの溶接又は接合中に、照射を用いてリアルタイムで溶接シームの深さを測定するための装置に関する。この装置は、測定光源であってを備え、当該測定光源の光が、ビームスプリッタ(17)により基準アーム(18)及び測定アーム(19)に結合される測定光源と、コリメータモジュール(21)であって、少なくとも1つのコリメートレンズ(29)を有し、当該コリメートレンズ(29)が前記測定アーム(19)における光導波路(20)を介して前記コリメータモジュール(21)に供給される測定光ビーム(23)をコリメートし、且つ、処理されるべきワークピースから反射された測定光ビーム(23)を前記光導波路(20)の出口/入口面(26)上で結像するコリメータモジュール(21)と、前記測定光ビーム(23)を処理ビーム(10)のビーム路に結合するための結合素子(24)と、前記測定光ビーム(23)と前記処理ビーム(10)とを前記ワークピース上で共同集束し、且つ、前記反射された測定光ビーム(23)をコリメートする集束レンズ(25)と、溶接シームの深さを決定するための分析ユニット(15)であって、当該分析ユニット(15)内に、前記ワークピースから反射された前記測定光が、前記基準アーム(18)からの、重畳された反射光と共にガイドされる分析ユニット(15)と、を備え、前記コリメータモジュール(21)は、前記測定光ビーム(23)の軸方向焦点位置を設定するための手段、前記測定光ビーム(23)の横方向焦点位置を設定するための手段、及び、フィールドレンズ(28)を含み、当該フィールドレンズ(28)は、前記光導波路(20)の前記出口/入口面(26)と前記コリメートレンズ(29)との間に配置され、且つ、前記測定光ビーム(23)のビーム拡大と、従って、前記測定光ビーム(23)の焦点直径とを画定することを特徴とする。

28. 发明专利

JP6228965B2 三次元屈折率測定方法および三次元屈折率測定装置有权
公开(公告)号：JP6228965B2
公开(公告)日：2017-11-08
申请号：JP2015247292
申请日：2015-12-18
申请人：トモキューブ, インコーポレーテッド
发明人：パクヨングン , キムギュヒョン , シンスンウ
IPC分类号： G01N21/41 , G01N21/45
CPC分类号： G01N21/45 , G01N21/453 , G01N2201/068

29. 发明专利

JP2017198680A 生細胞干渉法を介した急速超並列単細胞薬物反応測定法有权
公开(公告)号：JP2017198680A
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：JP2017094485
申请日：2017-05-11
申请人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア
发明人：リードジェイソンシー. , テイテルマイケルエー.
IPC分类号： G01N33/483 , C12Q1/02 , G02B21/14 , G01N21/45
CPC分类号： G01N33/57492 , G01B11/0675 , G01B9/02057 , G01B9/02089 , G01B9/0209 , G01N33/502 , G01N33/5026
摘要：【課題】変化する環境に暴露された細胞における細胞質量の急速なリアルタイム定量化のための生細胞干渉法(LCI)を提供する。全体的に、LCIは、治療薬等に対する単細胞応答を識別、監視、および測定するように、細胞集団を評価するための概念的前進を提供する。【解決手段】環境に対する細胞応答を観察するための方法であって、第1の環境に対する細胞応答が観察されるように、第1の環境内に少なくとも1つの細胞を配置する段階と、生細胞干渉法を含むプロセスを使用して、第1の環境内の細胞の質量特性を観察する段階と、観察される質量特性を、生細胞干渉法を含むプロセスを使用して第2の環境で観察される細胞の質量特性と比較する段階と、を含む。【選択図】図1

30. 发明专利

JP2017181115A 光周波数領域反射測定装置及び光周波数領域反射測定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017181115A
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：JP2016064715
申请日：2016-03-28
申请人：アンリツ株式会社
发明人：森隆
IPC分类号： G01B11/16 , G01M11/00 , G01N21/45 , G01D5/353
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02027 , G01B9/02083
摘要：【課題】被測定光ファイバの広い範囲にわたり波長掃引の非線形を補正する、光周波数領域反射測定装置を提供する。【解決手段】掃引光源と、掃引光源の出力光の一部に所定の遅延時間差を与えて干渉させ補助干渉信号として出力する補助干渉計と、掃引光源の出力光の一部を被測定光ファイバに入力すると共に被測定光ファイバからの反射光と掃引光源の出力光の一部を干渉させ測定干渉信号として出力する測定干渉計と、補助干渉信号を用いて測定干渉信号に対して掃引光源の波長掃引の非線形を補正する線形化部と、線形化部の出力信号をフーリエ変換して周波数領域の信号を出力するフーリエ変換部と、を有する光周波数領域反射測定装置において、線形化部は各々異なる遅延時間を持つ複数の線形化部を有し、フーリエ変換部は複数の線形化部の出力信号に対してそれぞれ異なる重みをつけて加算しフーリエ変換された結果を出力する重み付き加算・フーリエ変換部を有する。【選択図】図4

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