专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

JP5426497B2 Pattern measuring apparatus and a pattern measuring method 有权
公开(公告)号：JP5426497B2
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：JP2010178310
申请日：2010-08-09
申请人：株式会社アドバンテスト
发明人：純松本
IPC分类号： G01B15/04 , G01B15/00
CPC分类号： G01B15/04 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/24495 , H01J2237/24578

12. 发明专利

JP5413852B2 Non-destructive testing equipment and non-destructive inspection method of composite structures 有权
公开(公告)号：JP5413852B2
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：JP2010500673
申请日：2009-02-23
申请人：大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
发明人：謙忠永嶺
IPC分类号： G01N23/22 , G01T1/32 , G21H7/00 , G21K1/00
CPC分类号： G01N23/22 , G01B15/04 , G01N33/383

13. 发明专利

JP5408873B2 Calibration method of x-ray sensing device in the coordinate measuring device 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5408873B2
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：JP2007513786
申请日：2005-05-24
申请人：ベルス・メステヒニーク・ゲーエムベーハー
发明人：クリストーフ，ラルフ , ラウ，ヴオルフガング
IPC分类号： G01B21/00 , A61B6/00 , G01B15/00 , G01B21/04 , G01N23/04
CPC分类号： G01B15/00 , A61B6/4417 , A61B6/583 , A61B6/584 , G01B15/04 , G01N23/046 , G01N23/083 , G01N2223/1006 , G01N2223/3306 , G01N2223/419 , G01T7/005 , G01T7/10

14. 发明专利

JP2013083466A Measuring method, data processing apparatus and electron microscope using the same 有权
标题翻译：测量方法，数据处理设备和使用该方法的电子显微镜
公开(公告)号：JP2013083466A
公开(公告)日：2013-05-09
申请号：JP2011221682
申请日：2011-10-06
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： OHASHI KENYOSHI , TANAKA JUNICHI , SEKIGUCHI TOMOKO , KAWADA HIROKI
IPC分类号： G01B15/04 , G01B15/00
CPC分类号： H01J37/28 , G01B15/04 , G01B2210/56 , G01N23/22 , H01J2237/24578 , H01J2237/2817
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measuring method that can determine pattern contours and dimensions with high precision even if an object to be measured shrinks due to electron beam radiations.SOLUTION: A method, which performs measurements by radiating an electron beam onto a sample having a pattern formed on a primary coating thereof, prepares an SEM image and contour of the pattern (S201, S202), material parameters of the pattern part and primary coating part of the sample (S203, S204), and a beam condition in radiating the electron beam onto the sample (S205), and uses these prepared things to calculate a pattern shape or dimensions before the radiation of the electron beam (S206).
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以高精度地确定图案轮廓和尺寸的测量方法，即使被测量物体由于电子束辐射而收缩。解决方案：通过将电子束照射到形成在其一次涂层上的图案的样品上进行测量的方法，准备图案的SEM图像和轮廓（S201，S202），图案部分的材料参数和样品的初级涂布部分（S203，S204）以及将电子束照射到样品上的光束条件（S205），并且使用这些制备的物体来计算电子束的辐射之前的图案形状或尺寸（S206 ）。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

15. 发明专利

JPWO2011021346A1 パターン形状推定方法、及びパターン測定装置有权
公开(公告)号：JPWO2011021346A1
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：JP2011527562
申请日：2010-07-15
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：田中　麻紀 , 麻紀田中 , 昇雄長谷川 , 昇雄長谷川 , 宍戸　千絵 , 千絵宍戸 , 真由香大崎 , 真由香大崎
IPC分类号： G01B15/04 , G01B15/00
CPC分类号： G01B15/04 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：パターンの形状をより適切に推定できるパターン形状推定方法及びパターン測定装置を提供する。相異なる条件で複数のパターン断面形状を露光プロセスシミュレーションにより求め、該複数のパターン断面形状のそれぞれを用いて波形を推定し、ライブラリに記憶する。計測時に取得した実波形を該推定した波形と比較して、最も一致する波形を選択し、計測したパターンの形状を推定する。

16. 发明专利

JP5030906B2 Panoramic image synthesis method and apparatus using the scanning charged particle microscope 有权
公开(公告)号：JP5030906B2
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：JP2008233720
申请日：2008-09-11
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：剛上瀧 , 敦宮本 , 良一松岡
IPC分类号： H01J37/22 , G01B15/04 , H01L21/66
CPC分类号： G01B15/04 , H01J37/21 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/21 , H01J2237/221 , H01J2237/24578 , H01J2237/24592 , H01J2237/2811 , H01J2237/2817

17. 发明专利

JP4286657B2 Method of measuring the line-and-space pattern using a scanning electron microscope 有权
公开(公告)号：JP4286657B2
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：JP2003435519
申请日：2003-12-26
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：淳 ▲高▼根 , 達哉前田 , 孝飯泉
IPC分类号： G01B15/00 , G01B15/04 , G06K9/36 , G06K9/48 , H01L21/66
CPC分类号： G01B15/04 , G03F7/70625 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/24578 , H01J2237/2817

18. 发明专利

JP2009008658A Beam scanning imaging apparatus 有权
标题翻译：光束扫描成像装置
公开(公告)号：JP2009008658A
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：JP2008103800
申请日：2008-04-11
申请人： Imra America Inc , イムラアメリカインコーポレイテッド
发明人： XU JINGZHOU , CHO GYU CHEON
IPC分类号： G01N21/35
CPC分类号： G01B15/04 , G01B11/24 , G01N21/3581 , G01N22/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide focusing optical system combined with steering optical system, and an imaging apparatus using the light collecting opticcal system for efficient and speedy imaging of a target using an extended terahertz electromagnetic wave range challenged by weak electromagnetic wave sources and low sensitivity of detection, and also to provide an efficient detecting method for electromagnetic wave in combination with a speedy imaging speed. SOLUTION: A rastering imaging apparatus is demonstrated without moving the target or the entire imaging system by properly locating an optical system to utilize angular conversion of beams to a lateral scan. A mirror-lens set is used to steer the terahertz (THz) beam along and (or) to collect the THz beam from each point of the target. The target is imaged with a much higher speed than when moving the target or the entire imaging system. A THz wave image can be taken in video frequency for practical usage of each apparatus in varieties of application fields where it has not been considered to be feasible. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供与转向光学系统相结合的聚焦光学系统，以及使用光收集光学系统的成像装置，用于使用由弱电磁波源激发的扩展的太赫兹电磁波范围来对目标进行有效和快速的成像检测灵敏度低，并且提供了与快速成像速度相结合的电磁波的有效检测方法。解决方案：通过适当地定位光学系统以利用横向扫描的光束角度转换，可以实现无需移动目标物体或整个成像系统的成像装置。使用镜面组来转向太赫兹（THz）光束并且（或）以从目标的每个点收集太赫兹光束。目标以比移动目标或整个成像系统时高得多的速度成像。可以在视频中拍摄太赫兹波图像，以便在不被认为是可行的各种应用领域中实际使用每种装置。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

19. 发明专利

JP4074643B2 Line-width measurement adjusting method and a scanning electron microscope 有权
公开(公告)号：JP4074643B2
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：JP2006084868
申请日：2006-03-27
申请人：株式会社アドバンテスト
发明人：純松本 , 正行栗原
IPC分类号： G01B15/00
CPC分类号： G01B15/04 , G01N23/225 , H01J2237/24535 , H01J2237/24578 , H01J2237/248 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817
摘要： A line-width measurement adjusting method, which is used when first and second electron beam intensity distributions for measuring a line width are produced from intensity distribution images of secondary electrons obtained respectively by scanning a first irradiation distance with an electron beam at first magnification, and by scanning a second irradiation distance with an electron beam at second magnification, includes the step of adjusting the second electron beam intensity distribution of the electron beam at the second magnification such that the second electron beam intensity distribution is equal to the first electron beam intensity distribution of the electron beam at first magnification. The second electron beam intensity distribution may be adjusted by increasing or decreasing a second irradiation distance when producing the electron beam intensity distribution.

20. 发明专利

JP2008064505A Electron beam size measurement device and method thereof 有权
标题翻译：电子束尺寸测量装置及其方法
公开(公告)号：JP2008064505A
公开(公告)日：2008-03-21
申请号：JP2006240529
申请日：2006-09-05
申请人： Advantest Corp , 株式会社アドバンテスト
发明人： KURIHARA MASAYUKI
IPC分类号： G01B15/00 , G03F1/84 , G03F1/86 , G21K5/04 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01L21/027
CPC分类号： G01B15/04 , H01J37/026 , H01J37/28 , H01J2237/0047 , H01J2237/2817 , H01J2237/2826
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam size measurement device and method thereof capable of measuring the specimen precisely while keeping the potential of the surface of the specimen constant.
SOLUTION: The electron beam size measurement device includes the electron beam irradiating means for irradiating the surface of the specimen with the electron beam, the stage 5 for mounting the specimen 7, the photoelectron generating electrode 52 arranged opposite to the specimen 7, the ultraviolet ray irradiation means 53 for irradiation with the ultraviolet ray, and the control means 20 for making the surface potential of the specimen 7 0 [V] by impressing the voltage for supplying the energy corresponding to the difference of photo electron energy which is radiated from the specimen 7 to the photoelectron formation electrode 52 and the energy of the photoelectrons radiated by the photoelectron formation electrode 52, wherein the specimen 7 and the photoelectron formation electrode 52 are made to radiate the photoelectron by making the ultraviolet ray irradiating means 53 irradiate for a prescribed time. The control means 20 measures the size of the specimen 7 after making the surface potential of the specimen 7 constant.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在保持试样表面的电位保持恒定的同时精确地测量试样的电子束尺寸测量装置及其方法。电子束尺寸测量装置包括用电子束照射样品表面的电子束照射装置，用于安装样品7的阶段5，与试样7相对布置的光电子产生电极52，用于照射紫外线的紫外线照射装置53以及用于通过施加用于提供与照射的光电子能的差异相对应的能量的电压来提供试样7 0 [V]的表面电位的控制装置20 从样品7到光电子形成电极52以及由光电子形成电极52辐射的光电子的能量，其中通过使紫外线照射装置53照射到样品7和光电子形成电极52上来照射光电子一个规定的时间。控制装置20在使样本7的表面电位恒定之后测量样本7的尺寸。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式