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142. 发明专利

JP2010118662A Printed circuit board and method of manufacturing the same 有权
标题翻译：印刷电路板及其制造方法
公开(公告)号：JP2010118662A
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：JP2009258564
申请日：2009-11-12
申请人： Samsung Techwin Co Ltd , 三星テクウィン株式会社
发明人： SHIM CHANG-HAN , KANG SUNG-IL , PARK SE-CHUEL
IPC分类号： H05K3/38 , B32B15/08 , C25D5/12 , C25D5/14 , C25D7/06 , H05K1/09 , H05K3/00
CPC分类号： H05K3/384 , C25D5/12 , H05K1/0346 , H05K1/0393 , H05K2201/0154 , H05K2201/0355 , H05K2203/0307 , H05K2203/0723 , Y10T428/12514 , Y10T428/12861 , Y10T428/12868 , Y10T428/1291 , Y10T428/12944 , Y10T428/24917
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed circuit board whose joinability between a metal film with a circuit pattern formed and a resin material is improved. SOLUTION: The printed circuit board includes a first metal film 10 on which the circuit pattern is formed, a polymer film 40 which is formed on at least one surface (upper surface in Fig.1) of the first metal film, and a second metal film 20 which is located between the first metal film and the polymer film. The second metal film 20 has a first surface 21 (lower surface in Fig.1) facing to the first metal film and a second surface 23 (upper surface in Fig.1) facing to the polymer film. The second surface 23 has a surface roughness more than that of the first surface. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种印刷电路板，其具有形成的电路图案的金属膜和树脂材料之间的接合性得到改善。解决方案：印刷电路板包括形成有电路图案的第一金属膜10，形成在第一金属膜的至少一个表面（图1的上表面）上的聚合物膜40，以及位于第一金属膜和聚合物膜之间的第二金属膜20。第二金属膜20具有面对第一金属膜的第一表面21（图1中的下表面）和面向聚合物膜的第二表面23（图1中的上表面）。第二表面23的表面粗糙度大于第一表面的表面粗糙度。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

143. 发明专利

JP4136590B2 Alignment layer, a magnetic recording medium using an alignment film, and a magnetic recording and reproducing apparatus 有权
公开(公告)号：JP4136590B2
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：JP2002308367
申请日：2002-10-23
申请人：キヤノン株式会社
发明人：伸浩安居 , 透田
IPC分类号： C23C14/14 , G11B5/738 , C23C14/02 , C23C14/18 , C23C28/00 , G11B5/73
CPC分类号： G11B5/7325 , C23C14/025 , C23C14/185 , C23C28/322 , C23C28/345 , Y10T428/11 , Y10T428/12861
摘要： The invention provides a structured material composed by including a noble metal, in which an oriented layer is formed on a layer containing a Group 4A metal. The invention enables to form an oriented layer, which has required a high temperature for formation, by a low temperature process.

144. 发明专利

JP2008158479A Heat-resistant and light-shielding film, manufacturing method thereof and diaphragm or light quantity adjusting device using the film 有权
标题翻译：耐热和遮光膜，其制造方法和膜片或光量调节装置使用电影
公开(公告)号：JP2008158479A
公开(公告)日：2008-07-10
申请号：JP2007084119
申请日：2007-03-28
申请人： Sumitomo Metal Mining Co Ltd , 住友金属鉱山株式会社
发明人： ONO KATSUSHI , ABE TAKAYUKI , TSUKAGOSHI YUKIO
IPC分类号： G02B5/00 , C23C14/06 , G03B9/02 , G03B9/08 , G03B9/10
CPC分类号： C23C14/205 , C23C14/0036 , C23C14/085 , C23C14/562 , Y10T428/12771 , Y10T428/12826 , Y10T428/12861 , Y10T428/12944 , Y10T428/24967 , Y10T428/26
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-resistant and light-shielding film which is used as an optical equipment component such as shutter blade or diaphragm blade of lens shutter, or the like, of digital camera and digital video camera, and diaphragm blade of light quantity adjusting diaphragm device of a projector and is superior in light-shielding properties, heat-resistant properties, sliding properties, low brilliant property and electrically conductive property, to provide a manufacturing method of the heat-resistant and light-shielding film, and to provide the diaphragm or the light quantity adjusting device that uses the heat-resistant and light shielding film. SOLUTION: The heat-resistant and light-shielding film comprises a resin film base material (A), having heat resistance of at least 200°C; an Ni-type metal film (B), having a film thickness of at least 50 nm formed on one surface or both surfaces of the resin film base material (A) by a sputtering method; and a low-reflexivity Ni-type oxide film (C) formed on the Ni-type metal film (B) by the sputtering method, wherein the surface roughness falls in the range of 0.1 to 0.7 μm (arithmetic mean height Ra). COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种用作数字照相机和数字摄像机等光学设备部件如快门叶片或透镜快门的光圈叶片等的耐热和遮光膜，和投影仪的光量调节膜片装置的光阑叶片，并且具有优异的遮光性，耐热性，滑动性，低辉煌性和导电性，提供了耐热发光体的制造方法，并且提供使用耐热和遮光膜的隔膜或光量调节装置。解决方案：耐热和遮光膜包括耐热性至少为200℃的树脂膜基材（A）; 通过溅射法在树脂膜基材（A）的一个表面或两个表面上形成具有至少50nm的膜厚度的Ni型金属膜（B）; 以及通过溅射法在Ni型金属膜（B）上形成的低反射性Ni型氧化膜（C），其中表面粗糙度在0.1〜0.7μm的范围内（算术平均高度Ra）。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

145. 发明专利

JP2008519437A Refractory metal substrate having an improved thermal conductivity 审中-公开
$Refractory metal substrate having an improved thermal conductivity$
公开(公告)号：JP2008519437A
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：JP2007539213
申请日：2005-10-27
申请人：ハーツェーシュタルクインコーポレイテッドH.C. Starck, Inc.
发明人：クマープラブハット , エフブライトヘンリー , リチャードウーロン−チェン
IPC分类号： H01L23/373 , C22C5/06 , C22C9/06
CPC分类号： H01L23/3736 , H01L23/3733 , H01L23/3735 , H01L2924/0002 , Y10T428/12361 , Y10T428/12486 , Y10T428/12528 , Y10T428/12535 , Y10T428/12806 , Y10T428/12861 , Y10T428/12903 , Y10T428/31678 , H01L2924/00
摘要：第１主要表面および第２主要表面および少なくとも部分的に第１主要表面から第２主要表面に延びる複数の開口を有する、元素周期表のＶＩＢ族の金属および／または異方性材料を含有するコアプレート、および前記開口の少なくとも一部により包囲される空間の少なくとも一部を充填する、元素周期表のＩＢ族の金属または他の高い熱伝導性材料、および場合により第１主要表面の少なくとも一部および第２主要表面の少なくとも一部の上に配置された、元素周期表のＩＢ族の金属または他の高い熱伝導性材料を有する層からなる半導体および集積回路部品用基板。

146. 发明专利

JP2007537886A Preparation of nanoparticle material 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2007537886A
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：JP2007510108
申请日：2005-04-27
申请人：ナノコテクノロジーズリミテッドNanoco Technologies Limited
发明人：ポールオブライエン , ナイジャルピケット
IPC分类号： B82B3/00 , B01J19/00 , C01B19/00 , C30B7/00 , C30B7/14 , C30B29/48 , C30B29/60 , H01L21/368
CPC分类号： C09K11/883 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B19/007 , C01P2004/64 , C01P2004/84 , C01P2006/60 , C09K11/02 , C09K11/025 , C09K11/565 , C09K11/621 , C09K11/70 , C09K11/7492 , C09K11/881 , C09K11/892 , C30B7/00 , C30B7/005 , C30B7/10 , C30B29/48 , C30B29/605 , Y10S977/774 , Y10S977/892 , Y10S977/896 , Y10S977/95 , Y10T428/12861 , Y10T428/2982 , Y10T428/2989 , Y10T428/2991 , Y10T428/32
摘要：ナノ粒子を生成する方法が、ナノ粒子の材料へのナノ粒子前駆体組成物の転化を生じさせることを含む。前記前駆体組成物は、成長するナノ粒子に組み込まれるべき第１イオンを含有する第１前駆体種と、成長するナノ粒子に組み込まれるべき第２イオンを含有する別の第２前駆体種とを含む。前記転化は、ナノ粒子のシーディング及び成長が可能な条件下で分子クラスター化合物が存在する場合に生じる。
摘要翻译：制备纳米颗粒的方法包括使纳米颗粒前体组合物转化为纳米颗粒的材料。前体组合物包含含有要并入生长的纳米颗粒中的第一离子的第一前体物质和含有待并入生长的纳米颗粒中的第二离子的单独的第二前体物质。在分子簇化合物的存在下，在允许纳米颗粒的接种和生长的条件下进行转化。

149. 发明专利

JP3873642B2 Tin-plated steel sheet 有权
公开(公告)号：JP3873642B2
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：JP2001080120
申请日：2001-03-21
申请人： Jfeスチール株式会社
发明人：尚匡中小路 , 千昭加藤 , 智文重国
IPC分类号： C23C22/07 , C23C22/10 , C23C28/00 , C25D5/50
CPC分类号： C23C28/00 , C23C22/10 , C23C2222/20 , C25D5/505 , Y10T428/12569 , Y10T428/12708 , Y10T428/12722 , Y10T428/12771 , Y10T428/12861 , Y10T428/12931 , Y10T428/12937 , Y10T428/12944 , Y10T428/12951 , Y10T428/12958 , Y10T428/12993

150. 发明专利

JP3869557B2 Magneto-resistance effect film and magnetoresistance effect type head 失效
公开(公告)号：JP3869557B2
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：JP19980198
申请日：1998-06-30
申请人： Tdk株式会社
发明人：正志佐野 , 芳弘土屋 , 治幸森田 , 悟荒木
IPC分类号： H01L43/08 , G01R33/09 , G11B5/39 , H01F10/08 , H01F10/30 , H01F10/32
CPC分类号： B82Y25/00 , B82Y10/00 , G11B5/3903 , H01F10/123 , H01F10/3268 , Y10T428/1143 , Y10T428/1157 , Y10T428/12861 , Y10T428/12944 , Y10T428/24975

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