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    • 1. 发明申请
      WO2012028303A1 OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
    • OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION MICROLITHOGRAPHY
    • 用于EUV投影微光学的光学系统
    • WO2012028303A1
    • 2012-03-08
    • PCT/EP2011/004373
    • 2011-08-31
    • CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , LÖRING, Ulrich , LAYH, Michael , RUOFF, Johannes
    • MANN, Hans-Jürgen , LÖRING, Ulrich , LAYH, Michael , RUOFF, Johannes
    • G03F7/20
    • G03F7/7025 , G03F7/70125 , G03F7/70216
    • Optical system for EUV projection microlithography comprising lighting optics (4) for illuminating a lighting field (5) in a reticle plane (6) comprising at least one facet mirror (18) with a plurality of facet elements (24) for producing different light channels, wherein by means of the light channels a specific lighting setting (25) of the lighting field (5) can be produced, and a projection optics (9) for projecting the lighting field (5) along a projection direction (27) into an image field (10) in an image plane (11) with at least one first obscuration (30; 42) wherein the first obscuration is arranged in a first position relative to the projection direction (27), and wherein the first obscuration (30; 42) and the lighting setting (25) are adjusted to one another such that an intensity of at least one predetermined order of diffraction of an image of at least of one light channel of the lighting setting (25) in the region of the first position has a maximum intensity I max and a limit intensity I lim max , and the area in which the intensity of the order of movement is greater than the limit intensity I lim , and the area of the first obscuration (30; 42) are non-overlapping.
    • 用于EUV投影微光刻的光学系统，包括用于照亮标线板平面（6）中的照明场（5）的照明光学器件（4），其包括具有多个小面元件（24）的至少一个小面反射镜（18），用于产生不同的光通道 ，其中通过所述光通道可以产生所述照明场（5）的特定照明设置（25），以及用于将所述照明场（5）沿着投影方向（27）投影到投影光学元件（9）中的投影光学元件（9） 在具有至少一个第一遮蔽（30; 42）的图像平面（11）中的图像场（10），其中所述第一遮挡被布置在相对于所述投影方向（27）的第一位置，并且其中所述第一遮蔽（30; 42）和照明设置（25）彼此调节，使得在第一位置的区域中至少一个照明设置（25）的一个光通道的图像的至少一个预定的衍射次数的强度 具有最大强度Imax和li 最大强度Ilim max，以及运动顺序强度大于极限强度Ilim的面积，以及第一遮蔽面积（30; 42）是不重叠的。
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    • 2. 发明申请
      WO2011157601A2 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
    • ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE
    • 具有这种类型的照明光学系统的微结构和投影曝光系统的照明光学系统
    • WO2011157601A2
    • 2011-12-22
    • PCT/EP2011/059427
    • 2011-06-08
    • CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
    • PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
    • G03F7/20
    • G03F7/70091 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
    • An illumination optical system (7) for microlithography is used to guide illumination light (8) from a primary light source (6) to an object field (3). A mirror array (10) of the illumination optical system (7) has a plurality of individual mirrors (11), which can be tilted independently of one another by actuators and are connected to associated tilting actuators (12).A controller (14) is used to activate the actuators (12).A raster module (19) of the illumination optical system (7) has a plurality of raster elements (28, 30) to produce a spatially distributed arrangement of secondary light sources. The raster module (19) is arranged in the region of a plane (20) of the illumination optical system (7), in which an emergent angle (AR x ), at which an illumination light part bundle (15) leaves one of the raster elements (30), is precisely allocated to a location region in the object field (3), on which the illumination light part bundle (15) impinges on the object field (3).The controller (14) is configured in such a way that a specification of a tilting angle for each individual mirror (11) is allocated to a predetermined desired course of illumination angle intensity distributions, with which object field points distributed over the object field (3) are impinged upon. The raster module (19), depending on the respective actual angle of incidence, produces another intensity course in the object field (3). The result is an illumination optical system, in which an illumination intensity over the object field can be influenced in a targeted manner with respect to the total illumination intensity and/or with respect to the intensity contributions from different illumination directions.
    • 用于微光刻的照明光学系统（7）用于将照明光（8）从初级光源（6）引导到物场（3）。 照明光学系统（7）的反射镜阵列（10）具有多个独立的反射镜（11），可以通过致动器彼此独立地倾斜，并且连接到相关联的倾斜致动器（12）。 用于激活致动器（12）。照明光学系统（7）的光栅模块（19）具有多个光栅元件（28,30），以产生二次光源的空间分布布置。 光栅模块（19）布置在照明光学系统（7）的平面（20）的区域中，其中照射光束（15）离开光栅之一 元件（30）被精确地分配给对象场（3）中的照明光束（15）照射在物场（3）上的位置区域。控制器（14）以这种方式配置 将每个单独的反射镜（11）的倾斜角度的规格分配给预定的所需的照明角度强度分布过程，通过该预定路线分布在物场（3）上的物体场点被撞击。 光栅模块（19）根据相应的实际入射角度在物场（3）中产生另一强度光程。 结果是照明光学系统，其中相对于总照明强度和/或相对于来自不同照明方向的强度贡献，可以以目标方式影响物体场上的照明强度。
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    • 4. 发明申请
      WO2012076335A1 METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
    • METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL SYSTEM
    • 测量光学系统的方法
    • WO2012076335A1
    • 2012-06-14
    • PCT/EP2011/070755
    • 2011-11-23
    • CARL ZEISS SMT GMBH , KORB, Thomas , HETTICH, Christian , LAYH, Michael , WEGMANN, Ulrich , SCHUSTER, Karl-Heinz , MANGER, Matthias
    • KORB, Thomas , HETTICH, Christian , LAYH, Michael , WEGMANN, Ulrich , SCHUSTER, Karl-Heinz , MANGER, Matthias
    • G03F7/20
    • G01N21/94 , G01M11/02 , G01N21/9501 , G03F7/70483 , G03F7/708 , G03F7/7085
    • The invention relates to a method for measuring an optical system at the location of a measurement plane (409). The method comprises the following steps: - a first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) of a radiation pass through the optical system and impinge on an identical first measurement region (461) in a measurement plane (409), wherein the test beams of the first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) pass through the optical system on optical paths that differ in pairs and impinge on the first measurement region (461) at angles of incidence that differ in pairs with respect to the measurement plane (409), - a second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d) of a radiation pass through the optical system and impinge on an identical second measurement region (462) in the measurement plane (409), wherein the test beams of the second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d) pass through the optical system on optical paths that differ in pairs and impinge on the second measurement region (462) at angles of incidence that differ in pairs with respect to the measurement plane (409), wherein the second measurement region (462) differs from the first measurement region (461), - by means of a measuring device (469, 470), at least one associated measurement value of a first measurement variable of the test beam at the location of the first measurement region is detected for each test beam of the first plurality of test beams, - by means of a measuring device, at least one associated measurement value of a second measurement variable of the test beam at the location of the second measurement region is detected for each test beam of the second plurality of test beams, - an associated impingement region (467a, 467d, 468a, 468d) on at least one reference surface (466, 471) of the optical system is calculated or is determined with the aid of a database for each test beam of the first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) and of the second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d), wherein the impingement region associated with a test beam is defined as the surface region of the at least one reference surface (466, 471) on which radiation of the respective test beam impinges, - a spatial diagnosis distribution of at least one property of the at least one reference surface is calculated from the measurement values and the impingement regions for each test beam.
    • 本发明涉及一种在测量平面位置测量光学系统的方法（409）。 该方法包括以下步骤： - 辐射的第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）通过光学系统并撞击在测量平面（409）中的相同的第一测量区域（461）上， 其中所述第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）的所述测试光束在成对不同的光路上穿过所述光学系统，并且以成对的不同的入射角入射在所述第一测量区域（461）上 相对于测量平面（409）， - 辐射的第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）穿过光学系统并撞击测量平面中相同的第二测量区域（462） 409），其中所述第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）的测试光束在成对的光路上穿过所述光学系统，并以入射角撞击在所述第二测量区域（462）上， 不同的成对相对于 测量平面（409），其中所述第二测量区域（462）与所述第一测量区域（461）不同， - 借助于测量装置（469,470），至少一个相关测量值 对于第一多个测试光束的每个测试光束检测在第一测量区域的位置处的测试光束，借助于测量装置，在该位置处测试光束的第二测量变量的至少一个相关测量值 对于第二多个测试光束的每个测试光束检测第二测量区域， - 计算光学系统的至少一个参考表面（466,471）上的相关联的冲击区域（467a，467d，468a，468d） 或者借助于第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）和第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）中的每个测试光束的数据库来确定，其中冲击 与a相关联的区域 测试光束被定义为至少一个参考表面（466,471）的表面区域，各个测试光束的辐射在其上撞击， - 至少一个参考表面的至少一个性质的空间诊断分布由 每个测试光束的测量值和冲击区域。
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    • 5. 发明申请
      WO2012038112A1 BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM BEWEGLICHEN FILTERELEMENT 审中-公开
    • BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM BEWEGLICHEN FILTERELEMENT
    • 与移动过滤元件照明光学
    • WO2012038112A1
    • 2012-03-29
    • PCT/EP2011/061631
    • 2011-07-08
    • CARL ZEISS SMT GMBH , LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
    • LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
    • G03F7/20
    • F21V9/10 , F21V9/40 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70833 , G03F7/70891
    • Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik, zur Ausleuchtung eines Objektfeldes mit Strahlung einer ersten Wellenlänge. Dabei umfasst die Beleuchtungsoptik ein Filterelement zur Unterdrückung von Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge. Das Filterelement mindestens eine obskurierend wirkende Komponente, so dass sich während des Betriebs der Beleuchtungsoptik aufgrund der obskurierend wirkenden Komponente mindestens einen Bereich (469, 471) reduzierter Intensität von Strahlung mit der ersten Wellenlänge auf einem in Lichtrichtung nach dem Filterelement angeordneten ersten optischen Element (407) der Beleuchtungsoptik ergeben. Hierbei kann das Filterelement eine Mehrzahl von Positionen einnehmen, die zu unterschiedlichen Bereichen (469, 471) reduzierter Intensität fuhren, wobei es zu jedem Punkt auf einer optischen Nutzfläche (441) des ersten optischen Elements (407) mindestens eine Position gibt, so dass der Punkt nicht in einem Bereich (469, 471) reduzierter Intensität liegt.
    • 本发明涉及的照明光学部件用于与第一波长的辐射照明物场。 照明光学系统包括：用于在第二波长抑制辐射的过滤元件。 该过滤器元件的至少一个obskurierend作用的组分，以使至少一个减少的辐射（的强度的照明光学部件的操作过程中，由于具有在过滤器元件的第一光学元件的布置在光方向的下游侧的第一波长的obskurierend作用的组分部分（469，471）407 ）照明光学产率。 在这里，过滤器元件可以假设的减小的强度引线多个在不同的区域的位置的（469，471），其中，存在于在所述第一光学元件（407）的至少一个位置的光的区域（441）的任何位置，从而使 的区域（469，471）的减小的强度是不指向。
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