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1. 发明申请

WO2011157601A2 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：具有这种类型的照明光学系统的微结构和投影曝光系统的照明光学系统
公开(公告)号：WO2011157601A2
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：PCT/EP2011/059427
申请日：2011-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
发明人： PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70091 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
摘要： An illumination optical system (7) for microlithography is used to guide illumination light (8) from a primary light source (6) to an object field (3). A mirror array (10) of the illumination optical system (7) has a plurality of individual mirrors (11), which can be tilted independently of one another by actuators and are connected to associated tilting actuators (12).A controller (14) is used to activate the actuators (12).A raster module (19) of the illumination optical system (7) has a plurality of raster elements (28, 30) to produce a spatially distributed arrangement of secondary light sources. The raster module (19) is arranged in the region of a plane (20) of the illumination optical system (7), in which an emergent angle (AR x ), at which an illumination light part bundle (15) leaves one of the raster elements (30), is precisely allocated to a location region in the object field (3), on which the illumination light part bundle (15) impinges on the object field (3).The controller (14) is configured in such a way that a specification of a tilting angle for each individual mirror (11) is allocated to a predetermined desired course of illumination angle intensity distributions, with which object field points distributed over the object field (3) are impinged upon. The raster module (19), depending on the respective actual angle of incidence, produces another intensity course in the object field (3). The result is an illumination optical system, in which an illumination intensity over the object field can be influenced in a targeted manner with respect to the total illumination intensity and/or with respect to the intensity contributions from different illumination directions.
摘要翻译：用于微光刻的照明光学系统（7）用于将照明光（8）从初级光源（6）引导到物场（3）。照明光学系统（7）的反射镜阵列（10）具有多个独立的反射镜（11），可以通过致动器彼此独立地倾斜，并且连接到相关联的倾斜致动器（12）。用于激活致动器（12）。照明光学系统（7）的光栅模块（19）具有多个光栅元件（28,30），以产生二次光源的空间分布布置。光栅模块（19）布置在照明光学系统（7）的平面（20）的区域中，其中照射光束（15）离开光栅之一元件（30）被精确地分配给对象场（3）中的照明光束（15）照射在物场（3）上的位置区域。控制器（14）以这种方式配置将每个单独的反射镜（11）的倾斜角度的规格分配给预定的所需的照明角度强度分布过程，通过该预定路线分布在物场（3）上的物体场点被撞击。光栅模块（19）根据相应的实际入射角度在物场（3）中产生另一强度光程。结果是照明光学系统，其中相对于总照明强度和/或相对于来自不同照明方向的强度贡献，可以以目标方式影响物体场上的照明强度。

2. 发明申请

WO2013097897A1 MASK AND SCANNING PROJECTION EXPOSURE METHOD FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：掩模和扫描投影曝光方法
公开(公告)号：WO2013097897A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/EP2011/074186
申请日：2011-12-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
发明人： PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F1/38 , G03F1/42 , G03F1/68 , G03F7/70058 , G03F7/70475
摘要： A mask for microlithography comprises a substrate (SUB); a first pattern area (PA1) on the substrate, the first pattern area comprising a first pattern (PAT1) extending over a first length (L1) in a mask scanning direction and a first width (W1) in a direction perpendicular to the mask scan direction; and a second pattern area (PA2) on the substrate adjacent to the first pattern area in the mask scanning direction, the second pattern area comprising a second pattern (PAT2) extending over a second length (L2) in the mask scanning direction and a second width (W2) identical to the first width in the direction perpendicular to the mask scan direction. The second length (L2) is smaller than the first length (L1) and the second pattern is identical to a corresponding portion of the first pattern, where the corresponding portion is offset relative to the second pattern by the first length (L1) in the mask scan direction and has a length (CPL) identical to the second length (L2). Scanning exposure methods with increased throughput are possible when this type of mask is used.
摘要翻译：用于微光刻的掩模包括基底（SUB）; 在基板上的第一图案区域（PA1），第一图案区域包括在掩模扫描方向上在第一长度（L1）上延伸的第一图案（PAT1）和在垂直于掩模扫描的方向上的第一宽度（W1）方向; 和与掩模扫描方向上与第一图形区域相邻的第二图案区域（PA2），第二图案区域包括在掩模扫描方向上在第二长度（L2）上延伸的第二图案（PAT2），第二图案区域宽度（W2）与垂直于掩模扫描方向的方向上的第一宽度相同。第二长度（L2）小于第一长度（L1），第二图案与第一图案的对应部分相同，其中对应部分相对于第二图案偏移第一长度（L1）掩模扫描方向并具有与第二长度（L2）相同的长度（CPL）。当使用这种类型的掩模时，可以提高吞吐量的扫描曝光方法。

3. 发明申请

WO2012116710A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2012116710A1
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：PCT/EP2011/000960
申请日：2011-02-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
发明人： PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70158
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a light source (30) which is configured to produce projection light (PL), a pupil plane (84) and a diffractive optical element (48) that is arranged between the light source (30) and the pupil plane (84) such that an irradiance distribution of projection light (PL) in the pupil plane (84) depends on the position of a field (96a, 96b, 96c) that is illuminated by the projection light (PL) on the diffractive optical element (48). The illumination system further comprises an optical imaging system (34; 134; 234; 334) that is arranged between the light source (30) and the diffractive optical element (48). The optical imaging system ensures that changes of the direction and divergence of the projection light (PL) emitted by the light source (30) have no substantial effect on the position and size of the field which is illuminated on the diffractive optical element (48) by the projection light (PL).
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括被配置为产生投影光（PL）的光源（30），配置在光的光瞳平面（84）和衍射光学元件（48）之间，源极（30）和光瞳面（84），使得投影光（PL）在光瞳平面（84）中的辐照度分布取决于由投影光照射的场（96a，96b，96c）的位置（PL）在衍射光学元件（48）上。照明系统还包括布置在光源（30）和衍射光学元件（48）之间的光学成像系统（34; 134; 234; 334）。光学成像系统确保由光源（30）发射的投射光（PL）的方向和发散的变化对于在衍射光学元件（48）上照射的场的位置和尺寸没有实质影响，通过投影光（PL）。

4. 发明申请

WO2012089224A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2012089224A1
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：PCT/EP2010/007953
申请日：2010-12-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , BIELING, Stig , DEGÜNTHER, Markus , SCHLESENER, Frank , SCHWAB, Markus
发明人： PATRA, Michael , BIELING, Stig , DEGÜNTHER, Markus , SCHLESENER, Frank , SCHWAB, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/70058
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a light source (30), which is configured to produce a projection light beam (34), and a first and a second diffractive optical element (42, 44; 242, 244) arranged between the light source (30) and a pupil plane (84). The diffractive effect produced by each diffractive optical element depends on the position of a light field (110) that is irradiated by the projection light beam (34) on the diffractive optical elements (42, 44; 242, 244). A displacement mechanism (54, 64) changes the mutual spatial arrangement of the diffractive optical elements. In at least one of the mutual spatial arrangements, which can be obtained with the help of the displacement mechanism (54, 64), the light field (110) extends both over the first and the second diffractive optical element (42, 44; 242, 244). This makes it possible to produce in a simple manner continuously variable illumination settings.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括被配置为产生投影光束（34）的光源（30）和第一和第二衍射光学元件（42,44; 242,244））布置在光源（30）和光瞳平面（84）之间。由每个衍射光学元件产生的衍射效应取决于由投影光束（34）照射在衍射光学元件（42,44; 242,244）上的光场（110）的位置。位移机构（54,64）改变衍射光学元件的相互空间布置。在借助位移机构（54,64）可获得的相互空间布置中的至少一个中，光场（110）在第一和第二衍射光学元件（42,44; 242）之上延伸，244）。这使得可以以简单的方式生产连续可变的照明设置。

5. 发明申请

WO2009080279A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009080279A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：PCT/EP2008/010801
申请日：2008-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAYH, Michael , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian , WEISS, Gundula
发明人： LAYH, Michael , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian , WEISS, Gundula
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/105 , G03F7/70116 , G03F7/7055 , G03F7/70583
摘要： A projection exposure apparatus for microlithography comprises illumination optics for illuminating object field points of an object field in an object plane. The illumination optics have, for each object field point of the object field, an exit pupil associated with the object point, wherein sin(γ) is a greatest marginal angle value of the exit pupil, and wherein the illumination optics comprise a multi-mirror array (38) comprising a plurality of mirrors (38s) for adjusting an intensity distribution in exit pupils associated to the object field points. The illumination optics further contain at least one optical system (33a; 33b,; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203) for temporally stabilising the illumination of the multi-mirror array (38) so that, for each object field point, the intensity distribution in the associated exit pupil deviates from a desired intensity distribution in the associated exit pupil in the case of a centroid angle value sin(β) by less than 2% expressed in terms of the greatest marginal angle value sin(γ) of the associated exit pupil and/or, in the case of ellipticity by less than 2%, and/or in the case of a pole balance by less than 2%.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光装置包括用于照射物平面中的物场的对象场点的照明光学装置。对于物场的每个物场点，照明光学器件具有与对象点相关联的出射光瞳，其中sin（θ）是出射光瞳的最大边缘角度值，并且其中照明光学器件包括多镜阵列（38）包括用于调整与对象场点相关联的出射光瞳中的强度分布的多个反射镜（38s）。照明光学器件进一步包含至少一个光学系统（33a; 33b;; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203），用于暂时稳定多镜阵列（38）的照明，在每个对象场点处，相关联的出射光瞳中的强度分布在相关出射光瞳中偏离期望的强度分布，在重心角度值sin（ß）小于2％的情况下，以最大边角值表示相关联的出射光瞳的sin（θ）和/或在椭圆率小于2％的情况下，和/或在极平衡小于2％的情况下。

6. 发明申请

WO2008095695A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ÜBERWACHUNG VON MEHRFACHSPIEGELANORDNUNGEN IN EINEM BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： METHOD AND APPARATUS FOR IN的微光刻投射曝光设备的照明系统的监控多个MIRROR ARRANGEMENTS
公开(公告)号：WO2008095695A2
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：PCT/EP2008/000920
申请日：2008-02-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
发明人： XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) hat eine Pupillenfläche und eine im Wesentlichen flächige Anordnung vorzugsweise individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente (28) zur variablen Ausleuchtung der Pupillenfläche. Durch jedes Strahlablenkungselement (28) lässt sich eine Ablenkung eines darauf auftreffenden Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal erzielen. Eine Messbeleuchtungseinrichtung (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) richtet ein von den Projektionslichtbündeln (32) unabhängiges Messlichtbündel (36) auf ein Strahlablenkungselement (28). Eine Detektoreinrichtung erfasst das Messlichtbündel (38) nach Ablenkung an dem Strahlablenkungselement (28). Eine Auswertungseinheit bestimmt die Ablenkung des Projektionslichtbündels (32) aus von der Detektoreinrichtung bereitgestellten Messsignalen.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备（10）的照明系统（12）具有用于光瞳表面的可变照明光瞳表面及实质呈平面排列优选单独可控光束偏转元件（28）。由每个光束偏转元件（28），可以实现施加的控制信号，在其上投影光束（32）入射的响应于所述梁部件（28）的偏转的偏转。的测量照明装置（54，56，58，60; 88; 90; 98）从投射光束建立（32）独立的测量光束（36）的光束偏转元件（28）。的检测装置检测的测量光束（38）由所述光束偏转元件（28）的偏转。评估单元确定由检测器提供的投影光束（32）的偏转装置的测量信号。

7. 发明申请

WO2009080231A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR ILLUMINATING A MASK IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于在微波曝光装置中照射掩模的照明系统
公开(公告)号：WO2009080231A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：PCT/EP2008/010622
申请日：2008-12-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUBERT, Erich , KOHL, Alexander , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
发明人： SCHUBERT, Erich , KOHL, Alexander , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70083 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/70433
摘要： An illumination system (28) of a micro-lithographic projection exposure apparatus (12) is provided, which is configured to illuminate a mask (16) positioned in a mask plane. The system comprises a pupil shaping optical subsystem (58, 64) and illuminator optics (32, 38) that illuminate a beam deflecting component (46). For determining a property of the beam deflecting component, an intensity distribution in a system pupil surface (70) of the illumination system is determined. Then the property of the beam deflecting component is determined such that the intensity distribution produced by the pupil shaping subsystem in the system pupil surface approximates the intensity distribution determined before. At least one of the following aberrations are taken into account in this determination: (i) an aberration produced by the illuminator optics (32, 38); (ii) an aberration produced by the pupil shaping optical subsystem (58, 64); (iii) an aberration produced by an optical element (78) arranged between the system pupil surface and the mask plane.
摘要翻译：提供微光刻投影曝光装置（12）的照明系统（28），其被配置为照亮位于掩模平面中的掩模（16）。该系统包括光束成形光学子系统（58,64）和照射光束偏转部件（46）的照明器光学器件（32,38）。为了确定光束偏转分量的特性，确定照明系统的系统光瞳表面（70）中的强度分布。然后确定光束偏转分量的特性，使得瞳孔成形子系统在系统光瞳表面中产生的强度分布近似于之前确定的强度分布。在该确定中考虑以下像差中的至少一个：（i）由照明器光学器件（32,38）产生的像差; （ii）由光瞳成形光学子系统（58,64）产生的像差; （iii）由布置在系统光瞳表面和掩模平面之间的光学元件（78）产生的像差。

8. 发明申请

WO2008061681A3 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE PROJEKTIONS-MIKROLITHOGRAFIE SOWIE MESS- UND ÜBERWACHUNGSVERFAHREN FÜR EINE DERARTIGE BELEUCHTUNGSOPTIK 审中-公开
公开(公告)号：WO2008061681A3
公开(公告)日：2008-05-29
申请号：PCT/EP2007/009971
申请日：2007-11-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred
发明人： PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage (1) hat ein Beleuchtungssystem (4) mit einer Beleuchtungsoptik (5) zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes in einer Retikelebene (6). Eine Lichtverteilungseinrichtung (12a), die ein Lichtablenkungs-Array (12) aus Einzelelementen umfasst, sowie eine optische Baugruppe (21, 23 bis 26), die die von der Lichtverteilungseinrichtung (12a) in einer ersten Ebene (19) der Beleuchtungsoptik (5) vorgegebene Lichtintensitätsverteilung in eine Beleuchtungswinkelverteilung in der Retikelebene (6) umsetzt, gehört ebenfalls zur Beleuchtungsoptik (5). Eine orts- und zeitaufgelöste Detektionseinrichtung (30) wird nach einer im Lichtweg zwischen dem Lichtablenkungs-Array (12) und der Retikelebene (6) positionierten Auskoppeleinrichtung (17) derart mit ausgekoppeltem Beleuchtungslicht (31) beaufschlagt, dass die Detektionseinrichtung (30) eine der Lichtintensitätsverteilung in der ersten Ebene (19) entsprechende Lichtintensitätsverteilung erfasst. Mit der Detektionseinrichtung (30) kann insbesondere mit einer zeitlichen Variation von Einzelelementen oder Gruppen von Einzelelementen deren Einfluss auf die Lichtintensitätsverteilung in der ersten Ebene (19) bestimmt werden. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, bei der die Funktion des Lichtablenkungs-Arrays während des Normalbetriebs erfolgt.

9. 发明申请

WO2011147658A1 OPTICAL SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于微晶投影装置的光学系统
公开(公告)号：WO2011147658A1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：PCT/EP2011/056830
申请日：2011-04-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SÄNGER, Ingo , SCHARNWEBER, Ralf , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , WEIß, Gundula , MAJOR, András G. , VOGT, Martin , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes , KORB, Thomas , WALDIS, Severin
发明人： SÄNGER, Ingo , SCHARNWEBER, Ralf , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , WEIß, Gundula , MAJOR, András G. , VOGT, Martin , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes , KORB, Thomas , WALDIS, Severin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and a microlithographic exposure method. In an embodiment an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus includes at least one mirror arrangement (200, 720, 730, 920) having a plurality of mirror elements (200a, 200b, 200c, 721, 722, 733, 731, 732, 733,...) which are displaceable independently of each other for altering an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement (200, 720, 730, 920), and at least one manipulator (300, 720, 910) which is arranged downstream of said mirror arrangement (200, 720, 730, 920) in the light propagation direction and has a raster arrangement of manipulator elements (301, 302,..., 600, 721, 722, 723,... ) in such a way that light incident on the manipulator (300, 600, 720, 910) in operation of the optical system is influenced differently in its polarisation state and/or in its intensity in dependence on the incidence location, wherein at least two mutually different illumination settings (420, 520) are adjustable by the variation in an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement (200), wherein said illumination settings (420, 520) differ from each other in that identical regions of a pupil plane of the illumination system (10) are illuminated with light of a different polarisation state.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光装置和微光刻曝光方法的光学系统。在一个实施例中，用于微光刻投影曝光装置的光学系统包括具有多个反射镜元件（200a，200b，200c，721,722,733,731,732,920）的至少一个反射镜装置（200,720,730,920） 733，...），其可彼此独立地移位，以改变由反射镜装置（200,720,730,920）反射的光的角分布，以及至少一个操纵器（300,720,910），其是在光传播方向上布置在所述反射镜装置（200,720,730,920）的下游，并且具有光栅装置，其中所述操纵元件（301,302，...，600,721,722,723，...）入射在光学系统操作的操纵器（300,600,720,910）上的光的偏振状态和/或其强度根据入射位置受到不同的影响，其中至少两个相互不同照明设置（420,520）可通过角度dist的变化进行调节由反射镜装置（200）反射的光的贡献，其中所述照明设置（420,520）彼此不同，因为照明系统（10）的光瞳平面的相同区域被不同偏振态的光照射。

10. 发明申请

WO2018010887A1 VERFAHREN ZUR MIKROLITHOGRAPHISCHEN HERSTELLUNG MIKROSTRUKTURIERTER BAUELEMENTE, SOWIE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法微光刻生产结构的单元和微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2018010887A1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：PCT/EP2017/063001
申请日：2017-05-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KORB, Thomas , DEGÜNTHER, Markus , ZIMMERMANN, Jörg , FENGLER, Stephanus
发明人： KORB, Thomas , DEGÜNTHER, Markus , ZIMMERMANN, Jörg , FENGLER, Stephanus
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70125 , G03F7/706 , G03F9/7046
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente sowie eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Bei einem Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente werden auf einer Maske befindliche Nutzstrukturen und auf der Maske befindliche Markerstrukturen mit einer Beleuchtungseinrichtung beleuchtet und mit einem Projektionsobjektiv auf einen mit einem Photoresist versehenen Wafer unter Erzeugung entsprechender Markerstrukturbilder und Nutzstrukturbilder abgebildet. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Ermitteln einer Mehrzahl von jeweils unterschiedlichen Zeitpunkten zugeordneten Versatzwerten, wobei jeder dieser Versatzwerte jeweils einen zu dem betreffenden Zeitpunkt durch das Projektionsobjektiv erzeugten Versatz zwischen einem Markerstrukturbild und einem Nutzstrukturbild charakterisiert, und Positionieren der Nutzstrukturbilder in aufeinanderfolgenden Lithographieschritten relativ zueinander auf Basis dieser Versatzwerte.
摘要翻译：
本发明涉及一种用于微光刻生产微结构元件的和微光刻投射曝光系统的方法。在用于微光刻生产微结构元件的方法有用的结构和位于所述掩模位于标记结构用照明装置照射并且通过投影透镜上设置有光刻胶的晶片一个成像以形成在掩模上相应标记结构的图像和Nutzstrukturbilder。的发明＆AUML;道路有方法包括以下步骤：确定多个从时间偏移值的各自的不同的点，其中在该时间表征值是由投影透镜的标记结构图像和Nutzstrukturbild，和定位Nutzstrukturbilder在之间的偏移产生的每个各自的这些偏移分配基于这些偏移值相对于彼此的连续光刻步骤。

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