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1. 发明申请

WO2012076335A1 METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：测量光学系统的方法
公开(公告)号：WO2012076335A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/EP2011/070755
申请日：2011-11-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KORB, Thomas , HETTICH, Christian , LAYH, Michael , WEGMANN, Ulrich , SCHUSTER, Karl-Heinz , MANGER, Matthias
发明人： KORB, Thomas , HETTICH, Christian , LAYH, Michael , WEGMANN, Ulrich , SCHUSTER, Karl-Heinz , MANGER, Matthias
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01N21/94 , G01M11/02 , G01N21/9501 , G03F7/70483 , G03F7/708 , G03F7/7085
摘要： The invention relates to a method for measuring an optical system at the location of a measurement plane (409). The method comprises the following steps: - a first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) of a radiation pass through the optical system and impinge on an identical first measurement region (461) in a measurement plane (409), wherein the test beams of the first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) pass through the optical system on optical paths that differ in pairs and impinge on the first measurement region (461) at angles of incidence that differ in pairs with respect to the measurement plane (409), - a second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d) of a radiation pass through the optical system and impinge on an identical second measurement region (462) in the measurement plane (409), wherein the test beams of the second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d) pass through the optical system on optical paths that differ in pairs and impinge on the second measurement region (462) at angles of incidence that differ in pairs with respect to the measurement plane (409), wherein the second measurement region (462) differs from the first measurement region (461), - by means of a measuring device (469, 470), at least one associated measurement value of a first measurement variable of the test beam at the location of the first measurement region is detected for each test beam of the first plurality of test beams, - by means of a measuring device, at least one associated measurement value of a second measurement variable of the test beam at the location of the second measurement region is detected for each test beam of the second plurality of test beams, - an associated impingement region (467a, 467d, 468a, 468d) on at least one reference surface (466, 471) of the optical system is calculated or is determined with the aid of a database for each test beam of the first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) and of the second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d), wherein the impingement region associated with a test beam is defined as the surface region of the at least one reference surface (466, 471) on which radiation of the respective test beam impinges, - a spatial diagnosis distribution of at least one property of the at least one reference surface is calculated from the measurement values and the impingement regions for each test beam.
摘要翻译：本发明涉及一种在测量平面位置测量光学系统的方法（409）。该方法包括以下步骤： - 辐射的第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）通过光学系统并撞击在测量平面（409）中的相同的第一测量区域（461）上，其中所述第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）的所述测试光束在成对不同的光路上穿过所述光学系统，并且以成对的不同的入射角入射在所述第一测量区域（461）上相对于测量平面（409）， - 辐射的第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）穿过光学系统并撞击测量平面中相同的第二测量区域（462） 409），其中所述第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）的测试光束在成对的光路上穿过所述光学系统，并以入射角撞击在所述第二测量区域（462）上，不同的成对相对于测量平面（409），其中所述第二测量区域（462）与所述第一测量区域（461）不同， - 借助于测量装置（469,470），至少一个相关测量值对于第一多个测试光束的每个测试光束检测在第一测量区域的位置处的测试光束，借助于测量装置，在该位置处测试光束的第二测量变量的至少一个相关测量值对于第二多个测试光束的每个测试光束检测第二测量区域， - 计算光学系统的至少一个参考表面（466,471）上的相关联的冲击区域（467a，467d，468a，468d）或者借助于第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）和第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）中的每个测试光束的数据库来确定，其中冲击与a相关联的区域测试光束被定义为至少一个参考表面（466,471）的表面区域，各个测试光束的辐射在其上撞击， - 至少一个参考表面的至少一个性质的空间诊断分布由每个测试光束的测量值和冲击区域。

2. 发明申请

WO2014207014A1 SPIEGEL FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE VERFAHREN ZUR BEARBEITUNG EINES SPIEGELS 审中-公开
标题翻译：镜，用于微光刻投射曝光装置和方法，用于处理的反射镜的
公开(公告)号：WO2014207014A1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：PCT/EP2014/063337
申请日：2014-06-25
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SCHUSTER, Karl-Heinz , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , WAGNER, Hendrik , WALD, Christian , PAULS, Walter , SCHMIDT, Holger
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , WAGNER, Hendrik , WALD, Christian , PAULS, Walter , SCHMIDT, Holger
IPC分类号： G02B5/08 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0816 , G02B5/085 , G02B5/0891 , G02B27/0006 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要： Die Erfindung betrifft einen Spiegel für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie ein Verfahren zur Bearbeitung eines Spiegels. Ein erfindungsgemäßer Spiegel weist eine optische Wirkfläche, ein Spiegelsubstrat und ein Vielfachschichtsystem zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche auftreffender elektromagnetischer Strahlung einer Arbeitswellenlänge der Projektionsbelichtungsanlage auf, wobei das Vielfachschichtsystem eine Mehrzahl von Reflexionsschichtstapeln (16a, 16b, 16c, 26a, 26b) aufweist, zwischen denen jeweils eine Trennschicht (15a, 15b, 15c, 25a, 25b) angeordnet ist, und wobei diese Trennschicht aus einem Material hergestellt ist, welches eine Schmelztemperatur besitzt, die wenigstens 80°C beträgt und kleiner als 300°C ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投射曝光设备中的反射镜和用于加工镜的方法。根据本发明的反射镜具有一个光学有效区域，反射镜衬底，以及用于反射入射到投影曝光装置，的工作波长的电磁辐射的光学有效区域的多层系统，其中所述多个层系统（，26b的16A，16B，16C，26A），具有多个反射层堆叠的，之间其每一个的分离层的（15A，25B 15B，15C，25A）被布置，并且其中所述剥离层由具有的熔融温度为至少80℃且低于300℃的材料的

3. 发明申请

WO2016188620A2 INTERFEROMETRISCHE MESSANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：干涉测量装置，
公开(公告)号：WO2016188620A2
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：PCT/EP2016/000820
申请日：2016-05-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HETZLER, Jochen , FUCHS, Sebastian , STIEPAN, Hans-Michael , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G01B9/02 , G03F7/20 , G02B5/08 , G01M11/00 , G01B11/24
CPC分类号： G01B9/02039 , B21D11/10 , C03B37/15 , G01B9/02028 , G01B9/02032 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B11/2441 , G01B2290/30 , G01M11/005 , G01M11/0264 , G02B5/08 , G02B13/143 , G03F7/702 , G03F7/706
摘要： Die Erfindung betrifft eine Messanordnung (10) zur interferometrischen Bestimmung einer Form einer Oberfläche (12) eines Testobjekts (14). Die Messanordnung (10) umfasst eine Lichtquelle (16) zum Bereitstellen einer Eingangswelle (18) und ein diffraktives optisches Element (24). Das diffraktive optische Element (24) ist geeignet konfiguriert, jeweils durch Beugung aus der Eingangswelle (18) einerseits eine auf das Testobjekt (14) gerichtete Prüfwelle (26) mit einer zumindest teilweise an eine Sollform der optischen Oberfläche (12) angepassten Wellenfront und andererseits eine Referenzwelle (28) zu erzeugen. Weiterhin enthält die Messanordnung (10) ein reflektives optisches Element (30) zur Rückreflexion der Referenzwelle (28) und eine Erfassungseinrichtung (36) zum Erfassen eines Interferogramms, welches durch eine Überlagerung der Prüfwelle (26) nach Wechselwirkung mit dem Testobjekt (14) und der rückreflektierten Referenzwelle (28), jeweils nach erneuter Beugung am diffraktiven optischen Element (24) in einer Erfassungsebene (48), erzeugt wird. Ferner betrifft die Erfindung ein entsprechendes Verfahren zur Bestimmung der Oberflächenform eines Testobjekts (14).
摘要翻译：本发明涉及一种用于干涉判定测试对象（14）的表面（12）的形状的测量装置（10）。的测量装置（10）包括用于提供输入轴（18）和衍射光学元件（24）的光源（16）。衍射光学元件（24）被适当地配置，分别由在一方面所述输入轴（18）的衍射指向的测试对象（14）测试的轴（26）具有至少部分地在光学表面的目标形状（12），适于将所述波前和在另一方面以产生参考波（28）。此外，测量装置（10）包括用于将所述参考波的背反射的反射光学元件（30），（28）和检测装置（36），用于检测的干涉，这是由试验轴（26）的叠加与测试对象（14）相互作用之后获得和回归反射参考波（28），在每种情况下再次衍射后在一个检测平面（48），所述衍射光学元件（24），则产生。本发明还涉及一种相应的方法用于确定测试对象（14）的表面形状。

4. 发明授权

EP1913445B1 ABBILDUNGSSYSTEM, INSBESONDERE PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 有权
标题翻译：图象系统，包括投影透镜的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：EP1913445B1
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：EP06778169.0
申请日：2006-08-04
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20 , G02B1/00
CPC分类号： G02B1/02 , G03F7/70341 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an imaging system, in particular a projection lens of a microlithographic projection exposure unit. Said lens comprises at least one optical element (100) containing a cubic crystalline material with a refractive index n that is greater than 1.6 at a predetermined working wavelength and comprises a numerical aperture NA on the image side that is less than the refractive index n. According to the invention, the maximum difference (n-NA) between the refractive index n and the numerical aperture NA of the imaging system is 0.2.

5. 发明公开

EP3298343A2 INTERFEROMETRISCHE MESSANORDNUNG 有权
公开(公告)号：EP3298343A2
公开(公告)日：2018-03-28
申请号：EP16729770.4
申请日：2016-05-18
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： HETZLER, Jochen , FUCHS, Sebastian , STIEPAN, Hans-Michael , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G01B9/02 , G03F7/20 , G02B5/08 , G01M11/00 , G01B11/24
CPC分类号： G01B9/02039 , B21D11/10 , C03B37/15 , G01B9/02028 , G01B9/02032 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B11/2441 , G01B2290/30 , G01M11/005 , G01M11/0264 , G02B5/08 , G02B13/143 , G03F7/702 , G03F7/706
摘要： The invention relates to a measuring arrangement (10) for interferometrically determining a shape of a surface (12) of a device under test (14). Said measuring arrangement (10) comprises a light source (16) for supplying an input wave (18) as well as a diffractive optical element (24). The diffractive optical element (24) is suitably designed to generate, from the input wave (18) by diffraction, a test wave (26) which is directed to the device under test (14) and which has a wavefront that is at least partially adjusted to an expected shape of the optical surface (12), and a reference wave (28). The measuring arrangement (10) further comprises a reflective optical element (30) for reflecting the reference wave (28) as well as a capturing device (36) for capturing an interferogram generated by superposing the test wave (26), upon its interaction with the device under test (14), and the reflected reference wave (28) following another diffraction of the two waves on the diffractive optical element (24) in a capturing plane (48). The invention further relates to a corresponding method for determining the surface shape of a device under test (14).

6. 发明授权

EP3298343B1 INTERFEROMETRISCHE MESSANORDNUNG 有权
公开(公告)号：EP3298343B1
公开(公告)日：2019-11-27
申请号：EP16729770.4
申请日：2016-05-18
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： HETZLER, Jochen , FUCHS, Sebastian , STIEPAN, Hans-Michael , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G01B9/02 , G03F7/20 , G02B5/08 , G01M11/00 , G01B11/24

7. 发明申请

WO2007025643A1 HIGH-NA PROJECTION OBJECTIVE WITH ASPHERIC LENS SURFACES 审中-公开
标题翻译：高分辨率投影目标与多孔透镜表面
公开(公告)号：WO2007025643A1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/007963
申请日：2006-08-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70225 , G03F7/70275
摘要： A projection objective for imaging a pattern provided in an object surface onto an image surface of the projection objective has an object-side imaging subsystem for creating a final intermediate image closest to the image surface from radiation coming from the object surface and an image-side imaging subsystem for directly imaging the final intermediate image onto the image surface. The the image-side imaging subsystem includes at least one aspheric primary correcting lens having an aspheric primary correcting surface. The object-side imaging subsystem includes a secondary correcting group having at least one secondary correcting lens having an aspheric secondary correcting surface. Conditions involving maximum incidence angles and subaperture offsets at the correcting surfaces are given which should be observed to obtain sufficient aberration correction at very high image-side numerical apertures NA.
摘要翻译：用于将设置在物体表面中的图案成像到投影物镜的图像表面上的投影物镜具有物体侧成像子系统，用于从来自物体表面的辐射产生最靠近图像表面的最终中间图像，并且图像侧成像子系统，用于将最终中间图像直接成像到图像表面上。图像侧成像子系统包括具有非球面主要校正表面的至少一个非球面初级校正透镜。物体侧成像子系统包括具有至少一个具有非球面二次校正表面的次校正透镜的次校正组。给出了在校正表面上涉及最大入射角和子孔径偏移的条件，应该观察这些条件以在非常高的像侧数值孔径NA处获得足够的像差校正。

8. 发明申请

WO2005059653A3 POLARISATIONSOPTISCH WIRKSAME VERZÖGERUNGSANORDNUNG FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE DER MIKROLITHOGRAFIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2005059653A3
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/012707
申请日：2004-11-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Birgit , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： TOTZECK, Michael , ENKISCH, Birgit , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Verzögerungsanordnung (50) zur Umwandlung eines von einer Eingangsseite der Verzögerungsanordnung auftreffenden Eingangsstrahlungsbündels in ein Ausgangsst rahlungsbündel, welches über seinen Querschnitt eine durch die Verzögerungsanord nung beeinflussbare räumliche Verteilung von Polarisationszuständen aufweist, die sich von der räumlichen Verteilung von Polarisationszuständen der Eingangsstrahlung unterscheidet, ist als reflektive Verzögerungsanordnung ausgebildet. Ein Nutzquerschnitt der Verzögerungsanordnung hat eine Vielzahl von Verzögerungsberei chen unterschiedlicher Verzögerungswirkung. Eine solche Spiegelanordnung mit ort sabhängig variierender Verzögerungswirkung kann zur Kompensation von unerwünschten Schwankungen des Polarisationszustandes über den Querschnitt eines Eingangsst rahlungsbündels und/oder zur Einstellug bestimmter Ausgansplarisationszustände g enutzt werden,Eine Verzögerungsanordnung zur Umwandlung eines von einer Eingangs seite der Verzögerungsanordnung auftreffenden Eingangsstrahlungsbündels in ein Ausgangsstrahlungsbündel, welches über seinen Querschnitt eine durch die Verzöger ungsanordnung beeinflussbare räumliche Verteilung von Polarisationszuständen . a weist, die sich von der räumlichen Verteilung von Polarisationszuständen der Ein gangsstrahlung unterscheidet, ist als reflektive Verzögerungsanordnung ausgebild et. Ein Nutzquerschnitt der Verzögerungsanordnung hat eine Vielzahl von Verzöger ungsbereichen unterschiedlicher Verzögerungswirkung. Eine solche Spiegelanordnung mit ortsabhängig variierender Verzögerungswirkung kann zur Kompensation von un erwünschten Schwankungen des Polarisationszustandes über den Querschnitt eines Eingangsstrahlungsbündels und/oder zur Einstellug bestimmter Ausgansplarisationszustände genutzt werden, z.B. zur Einstellung von radialer oder tangentialer Polarisation.

9. 发明申请

WO2005059618A3 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE WITH CRYSTAL LENS 审中-公开
公开(公告)号：WO2005059618A3
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/014290
申请日：2004-12-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz , CLAUSS, Wilfried
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , CLAUSS, Wilfried
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Very high aperture microlithography projection objectives operating at the wavelengths of 248 nm, 193 nm and also 157 nm, suitable for optical immersion or near-field operation with aperture values that can exceed 1.4 are made feasible with crystalline lenses and crystalline end plates P of NaCl, KCl, KI, RbI, CsI, and MgO, YAG with refractive indices up to and above 2.0. These crystalline lenses and end plates are placed between the system aperture stop AS and the wafer W, preferably as the last lenses on the image side of the objective.

10. 发明申请

WO2005033800A1 LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT MINDESTENS EINEM SOLCHEN LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光刻镜头和投影曝光系统与至少一个该光刻镜头
公开(公告)号：WO2005033800A1
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/EP2004/007753
申请日：2004-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70241
摘要： Ein optisches Abbildungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage dient zur Abbildung eines in einer Objekt-ebene des Abbildungssystems angeordneten Objektfeldes in ein in einer Bildebene des Abbildungssystems angeordnetes Bildfeld. Es kann sich insbesondere um ein Projektionsobjektiv oder um ein im Beleuchtungs-system einzusetzendes Relais-Objektiv handeln. Das Abbildungssystem hat eine Vielzahl von Linsen, die zwischen der Objektebene und der Bildebene angeordnet sind und jeweils eine erste Linsenfläche und eine zweite Linsenfläche aufweisen. Mindestens eine der Linsen ist eine Doppelasphärenlinse, bei der die erste Linsenfläche und die zweite Lin-senfläche eine asphärische Fläche ist. Bei Doppelasphärenlinsen ist es möglich, mit vertretbarem Aufwand bei der Oberflächenbearbeitung und Prüfung der Linsenoberflächen Linsen mit guter Qualität herzustellen, die die Wirkung einer Asphäre mit sehr starker Deformation haben.
摘要翻译：一种用于微光刻投射曝光设备的成像光学系统被用于成像放置在成像系统的物平面中布置在所述成像系统的图像场的图像平面中的物场的对象。它可以是在特定的投影透镜或在照明系统中继透镜被分配。该成像系统具有多个被布置在物平面和像平面，并且每个具有第一透镜表面和第二透镜表面之间的透镜。至少所述透镜中的一个是一个Doppelasphärenlinse，其中，所述第一透镜表面和第二透镜表面是非球面表面。在Doppelasphärenlinsen它可以使在表面处理和透镜的测试以合理的成本与具有非球面表面的具有非常强的变形的效果良好的品质的透镜面。

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