专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2012038112A1 BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM BEWEGLICHEN FILTERELEMENT 审中-公开
标题翻译：与移动过滤元件照明光学
公开(公告)号：WO2012038112A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：PCT/EP2011/061631
申请日：2011-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： F21V9/10 , F21V9/40 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70833 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik, zur Ausleuchtung eines Objektfeldes mit Strahlung einer ersten Wellenlänge. Dabei umfasst die Beleuchtungsoptik ein Filterelement zur Unterdrückung von Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge. Das Filterelement mindestens eine obskurierend wirkende Komponente, so dass sich während des Betriebs der Beleuchtungsoptik aufgrund der obskurierend wirkenden Komponente mindestens einen Bereich (469, 471) reduzierter Intensität von Strahlung mit der ersten Wellenlänge auf einem in Lichtrichtung nach dem Filterelement angeordneten ersten optischen Element (407) der Beleuchtungsoptik ergeben. Hierbei kann das Filterelement eine Mehrzahl von Positionen einnehmen, die zu unterschiedlichen Bereichen (469, 471) reduzierter Intensität fuhren, wobei es zu jedem Punkt auf einer optischen Nutzfläche (441) des ersten optischen Elements (407) mindestens eine Position gibt, so dass der Punkt nicht in einem Bereich (469, 471) reduzierter Intensität liegt.
摘要翻译：本发明涉及的照明光学部件用于与第一波长的辐射照明物场。照明光学系统包括：用于在第二波长抑制辐射的过滤元件。该过滤器元件的至少一个obskurierend作用的组分，以使至少一个减少的辐射（的强度的照明光学部件的操作过程中，由于具有在过滤器元件的第一光学元件的布置在光方向的下游侧的第一波长的obskurierend作用的组分部分（469，471）407 ）照明光学产率。在这里，过滤器元件可以假设的减小的强度引线多个在不同的区域的位置的（469，471），其中，存在于在所述第一光学元件（407）的至少一个位置的光的区域（441）的任何位置，从而使的区域（469，471）的减小的强度是不指向。

2. 发明申请

WO2011095209A1 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2011095209A1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：PCT/EP2010/051303
申请日：2010-02-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
发明人： GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70233 , G03F7/70566
摘要： Die Erfindung betrifft eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (600) mit einer Beleuchtungseinrichtung (601) und einem Projektionsobjektiv (602), wobei die Beleuchtungseinrichtung (601) im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage (602) eine Objektebene OP des Projektionsobjektivs beleuchtet und das Projektionsobjektiv diese Objektebene auf eine Bildebene (W) abbildet, wobei die Beleuchtung der Objektebene mit linear polarisiertem Licht erfolgt, dessen Wellenlänge kleiner als 15 Nanometer (nm) ist, und wobei das Projektionsobjektiv wenigstens eine Pupille (110, 210, 310, 410, 510) aufweist, wobei wenigstens eine Begrenzungslinie dieser Pupille eine von einer Kreisform abweichende Geometrie aufweist.
摘要翻译：本发明涉及具有照明装置（601）以及投影透镜（602），其中所述照明装置（601）照射所述投射物镜的物平面OP中的投影曝光装置（602）的操作的微光刻投射曝光设备（600）和在该对象平面上的投影透镜（图像平面 W）映射，其中，所述物体面的照明与直线偏振光的波长是小于15纳米（nm），并且其中，所述投射物镜中，至少一个光瞳（110，210，310，410，510），所述进行至少一个边界线此光瞳的形状从圆形形状的几何形状偏离。

3. 发明申请

WO2011091900A2 FACETTENSPIEGEL ZUM EINSATZ IN DER MIKROLITHOGRAFIE 审中-公开
标题翻译：用于微刻法的FACET MIRRORS
公开(公告)号：WO2011091900A2
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：PCT/EP2010/069456
申请日：2010-12-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
摘要： Ein Facettenspiegel (6; 10) dient zum Einsatz in der Mikrolithografie. Der Facettenspiegel (6; 10) hat eine Mehrzahl von Facetten (7; 11), die Ausleuchtungskanäle zur Führung von Teilbündeln von EUV-Beleuchtungslicht (3) vorgeben. Zumindest einige der Facetten (7; 11) sind mittels einer einen Aktor (31; 35) aufweisenden Verstelleinrichtung (30; 34) mit einer Bewegungskomponente (32; dz'; dz") senkrecht zu einer Facetten-Reflexionsebene (xy; x'y'; x"y") verlagerbar. Es resultiert ein Facettenspiegel, mit dem gegebene Anforderungen an das Einhalten von Soll-Beleuchtungsvorgaben, die beim Einsatz des Facettenspiegels zu erreichen sind, mit im Vergleich zum Stand der Technik geringerem Herstellungsaufwand erreicht werden.
摘要翻译：小面镜（6; 10）用于微光刻。分面镜（6; 10）具有多个小面（7; 11），其提供用于实现EUV照明光（3）的局部束的照明通道。至少一些小面（7; 11）由致动器的装置（31; 35）具有调节装置（30; 34）与一个运动分量（32; DZ“; DZ＆QUOT）垂直于端面反射平面（xy; X'Y '; x“y”）可重定位。结果是一个分面反射镜，其具有满足目标照明规格的特定要求，这可以在使用分面镜时实现，相对于现有技术的较低制造成本而言实现了

4. 发明申请

WO2011039261A3 ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：微观照明系统
公开(公告)号：WO2011039261A3
公开(公告)日：2011-06-30
申请号：PCT/EP2010064467
申请日：2010-09-29
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH , KIRCH MARC , FIOLKA DAMIAN , ZIEGLER GERHARD-WILHELM , DEGUENTHER MARKUS , SCHWAB MARKUS
发明人： KIRCH MARC , FIOLKA DAMIAN , ZIEGLER GERHARD-WILHELM , DEGUENTHER MARKUS , SCHWAB MARKUS
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G02B27/18
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B27/0905 , G02B27/0961 , G03F7/70066
摘要： Microlithographic projection exposure apparatus comprising an illumination device and ex projection objective), wherein, during the operation of the projection exposure apparatus, the illumination device an least partly illuminates a reticle in an object plane or the projection objective and the projection objective images this illuminated part of this object plane with a scale M onto at least one part of the wafer in the image plane, and wherein the wafer can be moved synchronously with the reticle perpendicular to the optical axis and providing a fly' s eye condenser for illuminating a plane.
摘要翻译：包括照明装置和投影物镜的微光刻投影曝光装置），其中，在所述投影曝光装置的操作期间，所述照明装置至少部分地照射物平面中的掩模版或所述投影物镜，并且所述投影物镜将所述照射部分该物体平面与刻度M放置在图像平面中的晶片的至少一部分上，并且其中晶片可垂直于光轴与标线片同步移动，并提供用于照射平面的飞行眼用冷凝器。

5. 发明申请

WO2010108612A1 OPTICAL ASSEMBLY 审中-公开
标题翻译：光学装置
公开(公告)号：WO2010108612A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：PCT/EP2010/001604
申请日：2010-03-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , CLAUSS, Wilfried
发明人： FIOLKA, Damian , CLAUSS, Wilfried
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B17/0892 , G02B26/0816
摘要： An optical assembly (29) has at least one mirror (24) with a mirror body (26). The latter is carried by a support body (30), which has a first support body portion (31) and a second support body portion (32). An at least thermally separating region (33) is arranged between the two support body portions (31, 32). At least one surface portion (38, 41) of at least one of the support body portions (31, 32) or of a body thermally coupled thereto is modified in such a way that a thermal emission coefficient εm of the modi- fied surface portion (38, 41) differs from a thermal emission coefficient εu of the unmodified surface portion by at least 10 %. The result is an optical assembly, in which an improved thermal stability is achieved by the prede¬ termining of the thermal emission coefficients.
摘要翻译：光学组件（29）具有至少一个具有镜体（26）的反射镜（24）。后者由具有第一支撑体部分（31）和第二支撑体部分（32）的支撑体（30）承载。至少热分离区域（33）布置在两个支撑体部分（31,32）之间。支撑主体部分（31,32）中的至少一个或与其热耦合的主体的至少一个表面部分（38,41）被修改为使得修改的表面部分的热发射系数em （38,41）与未改性表面部分的热发射系数eu不同至少10％。结果是光学组件，其中通过预先确定热发射系数来实现改进的热稳定性。

6. 发明申请

WO2010037437A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译： EUV微观照明系统
公开(公告)号：WO2010037437A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/EP2009/004973
申请日：2009-07-09
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAYH, Michael , STÜTZLE, Ralf , FIOLKA, Damian , ENDRES, Martin , WEIGAND, Holger
发明人： LAYH, Michael , STÜTZLE, Ralf , FIOLKA, Damian , ENDRES, Martin , WEIGAND, Holger
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70083 , G02B17/0605 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03F7/70033 , G03F7/70075
摘要： An illumination system for EUV microlithography comprises an EUV light source (3) which generates EUV illumination light (10) with an etendue that is higher than 0.01 mm 2 . The EUV light source (3) generates in particular a sequence of EUV light pulses, particularly with a pulse sequence frequency. An illumination optics of the illumination system is used to guide the illumination light (10) from the light source (3) to an object field. At least one optical modulation component (25) of the illumination system is preferably modulatable synchronously with the pulse sequence frequency. The result is an illumination system where a homogeneity of an object field illumination is improved.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明系统包括EUV光源（3），其产生光通量高于0.01mm 2的EUV照明光（10）。 EUV光源（3）特别产生EUV光脉冲序列，特别是以脉冲序列频率产生。照明系统的照明光学器件用于将照明光（10）从光源（3）引导到物场。照明系统的至少一个光学调制组件（25）优选地可以与脉冲序列频率同步地调制。其结果是改善了物场照明的均匀性的照明系统。

7. 发明申请

WO2009063022A1 OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR CHARACTERISING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于表征光学系统的光学系统和方法
公开(公告)号：WO2009063022A1
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：PCT/EP2008/065502
申请日：2008-11-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70133 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system and a method of characterising an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus. According to an aspect, an optical system having an optical axis (OA) comprises a first element (111, 416, 516) which is partially translucent for light of a working wavelength of the optical system and has at least one partially reflecting first surface arranged rotated about a first axis of rotation in relation to a plane perpendicular to the optical axis (OA), a second element (121, 418, 518) in succession to said first element along said optical axis (OA) which is partially translucent for light of the working wavelength and has at least one partially reflecting second surface which is arranged rotated about a second axis of rotation in relation to a plane perpendicular to the optical axis (OA), and an intensity measuring device (112, 122, 417, 419, 517, 519) for measuring the intensity of light reflected at the first surface and the intensity of light reflected at the second surface.
摘要翻译：本发明涉及光学系统和表征光学系统的方法，特别是在微光刻投影曝光装置中。根据一个方面，具有光轴（OA）的光学系统包括第一元件（111,416,516），其对于光学系统的工作波长的光是部分半透明的，并且具有至少一个部分反射的第一表面相对于垂直于光轴（OA）的平面旋转第一旋转轴线，沿着所述光轴（OA）连续地连接到所述第一元件的第二元件（121,418,518），所述光轴对于光部分是半透明的并且具有相对于垂直于光轴（OA）的平面绕第二旋转轴线旋转的至少一个部分反射的第二表面，以及强度测量装置（112,122,417,419），517,519），用于测量在第一表面处反射的光的强度和在第二表面处反射的光的强度。

8. 发明申请

WO2006058754A2 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, BEAM DELIVERY SYSTEM AND METHOD OF GENERATING A BEAM OF LIGHT 审中-公开
标题翻译：投影曝光系统，光束输送系统及生成光束的方法
公开(公告)号：WO2006058754A2
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/EP2005012857
申请日：2005-12-01
申请人： ZEISS CARL SMT AG , KUSS MATTHIAS , FIOLKA DAMIAN , REISINGER GERD , MAUL MANFRED , DAVYDENKO VLADIMIR
发明人： KUSS MATTHIAS , FIOLKA DAMIAN , REISINGER GERD , MAUL MANFRED , DAVYDENKO VLADIMIR
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70583
摘要： A beam delivery system of a projection exposure system comprises a laser generating a beam of laser light from a plurality of longitudinal laser modes in a cavity, wherein light generated by a single longitudinal laser mode has an average line width ? lat, wherein the laser light of the beam has, at each of respective lateral positions of the beam, a second line width ? lat corresponding to lateral laser modes, and wherein the laser light of the beam has, when averaged over a whole cross section thereof, a line width ? b corresponding to plural lateral laser modes, and wherein ?m lat b, and wherein an optical delay apparatus disposed in the beam provides an optical path difference ,?1 wherein (I); wherein ? 0 is an average wavelength of the light of the first beam of laser light, and ?? lat
摘要翻译：投影曝光系统的光束传送系统包括激光器，其产生来自空腔中的多个纵向激光模式的激光光束，其中由单个纵向激光模式产生的光具有平均线宽度ΔL，其中，所述光束的激光在所述光束的各个横向位置处具有对应于横向激光模式的第二线宽度ΔLAT，并且其中所述光束的激光具有当在其整个横截面上平均时，对应于多个横向激光模式的线宽度ΔB2S，并且其中θm<θ 并且其中设置在所述光束中的光学延迟装置提供光程差，θ1其中（I）; 其中λ<0>是第一激光束的光的平均波长，Δλ>

9. 发明申请

WO2005083512A3 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION 审中-公开
标题翻译：照明系统，微光刻投射曝光系统
公开(公告)号：WO2005083512A3
公开(公告)日：2006-04-13
申请号：PCT/EP2005001949
申请日：2005-02-24
申请人： ZEISS CARL SMT AG , FIOLKA DAMIAN
发明人： FIOLKA DAMIAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/702
摘要： The invention relates to an illumination system for a microlithography projection exposure installation, said system comprising a light distribution device (21) generating a two-dimensional intensity distribution from the light from a primary light source, for example a laser, in a first surface (25) of the illumination system. A honeycomb condenser (55) comprising a first grid arrangement and a second grid arrangement (40) of optical elements is used as a light mixing device for homogenising the illumination in the illumination field of the illumination system. The first grid arrangement (35) consists of first grid elements (36), and the second grid arrangement (40) consists of second grid elements (41). The light distribution device comprises at least one diffractive optical element (21) for generating an angular distribution, the Fraunhofer region thereof comprising separate or connected luminous regions that correspond to the shape and size of the first grid elements (36).
摘要翻译：一种用于微光刻投射曝光系统的照明系统具有产生从主光源的光的二维强度分布，例如一个激光器，在照明系统的第一表面（25）的光分布器（21）。蜂巢式聚光器（55），具有第一和作为光混合设备，用于该照明系统的照明场均匀化的照明光学元件的第二屏幕组件（40）。在蜂巢式聚光器具有第一光栅元件（36）和第二屏幕组件（40）的第二格栅元件（41）的第一栅格结构（35）。光分布装置包括用于产生的角度分布具有分离的或连续的照射区，这匹配于第一光栅元件（36）的形状和尺寸，其远场的至少一个衍射光学元件（21）。

10. 发明申请

WO2005116772A1 APPARATUS FOR PROVIDING A PATTERN OF POLARIZATION 审中-公开
标题翻译：提供极化图案的设备
公开(公告)号：WO2005116772A1
公开(公告)日：2005-12-08
申请号：PCT/EP2005/050981
申请日：2005-03-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ASML HOLDING NV , ALBERT, Michael , FIOLKA, Damian
发明人： ALBERT, Michael , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G02B1/02 , G02B1/06 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B27/286
摘要： The present invention relates to a polarization pattern assembly for use in an illuminator and an apparatus for providing at least one polarization pattern in a pupil of an illuminator for a lithography system. A polarization pattern assembly for use in an illuminator having a pupil comprises a frame (110) and at least one polarization pane (102, 102a, 102b) coupled to said frame (110), said polarization pane (102, 102a, 102b) changing a direction of polarization of light passing therethrough, whereby at least one polarization pattern can be obtained across the pupil of the illuminator, and wherein said polarization pane (102, 102a, 102b) comprises an optically active material.
摘要翻译：本发明涉及一种用于照明器中的偏振图案组件和用于在光刻系统的照明器的光瞳中提供至少一个偏振图案的装置。用于具有瞳孔的照明器中的偏振图案组件包括框架（110）和耦合到所述框架（110）的至少一个偏振窗格（102,102a，102b），所述偏振窗格（102,102a，102b）改变通过其中的光的偏振方向，从而可以在照明器的瞳孔之间获得至少一个偏振图案，并且其中所述偏振面板（102,102,102b）包括光学活性材料。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式