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1. 发明申请

WO2011073039A2 IMAGING OPTICS 审中-公开
标题翻译：成像光学
公开(公告)号：WO2011073039A2
公开(公告)日：2011-06-23
申请号：PCT/EP2010/068782
申请日：2010-12-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , ENDRES, Martin , SHAFER, David , WARM, Berndt , HERKOMMER, Alois
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ENDRES, Martin , SHAFER, David , WARM, Berndt , HERKOMMER, Alois
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0652 , G03F7/702 , G03F7/70275
摘要： An imaging optics (16) for lithographic projection exposure for guiding a bundle of imaging light (3) with a wavelength shorter than 193 nm by means of a plurality of mirrors (M1 to M6) for beam-splitter-free imaging of a reflective object (12) in an object field (4) in an object plane (5) into an image field (17) in an image plane (18), an object field point having a central ray angle (α) which is smaller than 3°. At least one of the mirrors (M1 to M6) is a near-field mirror. The result is an imaging optics which allows for high-quality imaging of a reflective object.
摘要翻译：一种用于光刻投影曝光的成像光学器件（16），用于通过多个反射镜（M1至M6）引导波长短于193nm的成像光束（3），用于反射物体的无光束分配器成像（12）在物平面（5）中的物场（4）中成为图像平面（18）中的图像场（17），具有小于3°的中心射线角（a）的物场点。至少一个反射镜（M1至M6）是近场镜。其结果是允许反射物体的高质量成像的成像光学元件。

2. 发明申请

WO2010149487A2 IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN AN IMAGE FIELD AND ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR ILLUMINATING AN OBJECT FIELD 审中-公开
标题翻译：用于在物体场中成像的成像光学系统和用于照射对象场的照明光学系统
公开(公告)号：WO2010149487A2
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/EP2010/057971
申请日：2010-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0663 , G02B27/0905 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field (9) in an object plane (11) into an image field (13) in an image plane (14). A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio (x/y), which is greater than 1, a ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field being smaller than 0.9. In a further aspect, the object field (9) and/or the image field (13) deviate from a mirror-symmetrical field form. An illumination optical system (10) for illuminating the object field (9) has components guiding illumination light (3) which are designed to illuminate a correspondingly formed object field (9). The result is an imaging optical system, an illumination optical system and a projection exposure system equipped therewith, with which increased demands on the correction of imaging errors are taken into account over the field imaged by the imaging optical system.
摘要翻译：成像光学系统具有多个反射镜，其将物平面（11）中的物场（9）成像为图像平面（14）中的图像场（13）。至少一个反射镜的反射面构成为不能用旋转对称的功能描述的自由表面。对象字段的长宽比（x / y）大于1，对象字段的最小和最大横向维度的比值小于0.9。在另一方面，对象字段（9）和/或图像字段（13）偏离镜像对称字段形式。用于照明物场（9）的照明光学系统（10）具有引导照明光（3）的部件，其被设计成照射相应形成的物体场（9）。结果是成像光学系统，照明光学系统和配备有其的投影曝光系统，在成像光学系统成像的场上考虑对成像误差的校正的增加的需求。

3. 发明申请

WO2012159968A3 ILLUMINATION OPTICAL UNIT 审中-公开
公开(公告)号：WO2012159968A3
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：PCT/EP2012/059173
申请日：2012-05-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENDRES, Martin
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G21K1/06 , G03F7/20
摘要： An illumination optical unit (4) for an EUV projection exposure apparatus has a diaphragm (23) comprising a radiation-transmissive region having a discrete symmetry group. The form of the diaphragm (23) is adapted to the form of the facets of a pupil facet mirror (18) or to the form of the radiation source (3). The diaphragm (23) is preferably arranged in the region of an intermediate focal plane.

4. 发明申请

WO2012076454A1 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于投影光刻的照明光学系统
公开(公告)号：WO2012076454A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/EP2011/071714
申请日：2011-12-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf
发明人： OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70058
摘要： An illumination optical system for projection lithography has an optical assembly for guiding illumination light to an object field (19) to be illuminated in an object plane (17). The illumination optical system divides a bundle of the illumination light into a plurality of part bundles, which are allocated to various illumination directions of the object field illumination. The illumination optical system is configured in such a way that at least some of the part bundles are superimposed on one another in a first superimposition plane (31) according to a first superimposition specification and in a second superimposition plane (16), which is spaced apart from the first superimposition plane (31), according to a second superimposition specification. The result is an illumination optical system, in which an influencing and/or a monitoring of an illumination intensity distribution over the object field is made possible, as far as possible without influencing an illumination angle distribution.
摘要翻译：用于投影光刻的照明光学系统具有用于将照明光引导到在物平面（17）中被照明的物场（19）的光学组件。照明光学系统将一束照明光分成分配给物场照明的各种照明方向的多个部分束。照明光学系统被配置成使得至少一些部分束根据第一叠加指示在第一叠加平面（31）中彼此重叠，并且在第二叠加平面（16）中被间隔开除了第一叠加平面（31）之外，根据第二重叠规格。结果是在不影响照明角度分布的情况下尽可能地使对物场的照明强度分布的影响和/或监视成为可能的照明光学系统。

5. 发明申请

WO2011154244A1 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于EUV投影光刻的照明光学系统
公开(公告)号：WO2011154244A1
公开(公告)日：2011-12-15
申请号：PCT/EP2011/058418
申请日：2011-05-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DITTMANN, Olaf , KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , WALTER, Markus , BIELING, Stig , DÖRN, Sebastian
发明人： PATRA, Michael , DITTMANN, Olaf , KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , WALTER, Markus , BIELING, Stig , DÖRN, Sebastian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B26/0833 , G03F7/70075
摘要： An illumination optical system for EUV projection lithography for illuminating an illumination field, in which an object field of a following imaging optical system can be arranged, has a first facet mirror with a plurality of first facets (7 1 ) for the reflective guidance of part bundles of a bundle of EUV illumination light (3). A downstream second facet mirror (10) with a plurality of second facets (11) is used for the reflective guidance of the part bundles (3 1 ; 3 1' ) reflected by the first facets (7 1 ), so object field illumination channels, to which, in each case, a first (7 1 ) and a second (11 1 ; 11 1' ) facet is allocated in each case, are predetermined by the first facets (7) and the second facets (11 1 ; 11 1' ) allocated by means of the reflected bundle guidance. The reflection faces of at least some of the first facets (7 1 ) are tiltable in each case between at least one illumination tilting position to guide the part bundle along an object field illumination channel (3 1 ; 3 1' ) in the direction of one of the second facets (11 1 ; 11 1' ) and at least one switch-off tilting position to guide the part bundle in the direction of a switch-off beam path (30) not impinging on the object field. The direction of the switch-off beam path (30) differs from the direction of the object field illumination channel (3 1 ; 3 1' ). In addition, methods for predetermining a set of switch-off tilting positions of the tiltable first facets (7) are disclosed. The result is an illumination optical system, with which a fine adjustment of illumination settings to be predetermined for the illumination of the illumination field is possible.
摘要翻译：一种用于EUV投影光刻的照明光学系统，用于照亮其中可以布置后续成像光学系统的物场的照明场，具有第一刻面镜，其具有多个第一刻面（71），用于部分束的反射引导的一束EUV照明灯（3）。具有多个第二小面（11）的下游第二分面反射镜（10）用于由第一面（71）反射的部分束（31; 31'）的反射引导，因此物场照明通道在每种情况下，在每种情况下分配第一（71）和第二（111; 111'）面是由第一面（7）和第二面（111; 111'）预先分配反映束指导。第一小面（71）中的至少一些的反射面在每种情况下可在至少一个照明倾斜位置之间倾斜，以沿着物场照明通道（31; 31'）沿着物体照明通道第二小面（111; 111'）和至少一个关闭倾斜位置，以沿着不撞击物体场的关闭光束路径（30）的方向引导部分束。关闭光束路径（30）的方向与物场照明通道（31; 31'）的方向不同。此外，公开了用于预先确定可倾斜第一面（7）的一组关闭倾斜位置的方法。结果是照明光学系统，可以对照明场的照明进行预定的照明设置的微调。

6. 发明申请

WO2011082872A1 OPTISCHES ELEMENT MIT EINER MEHRZAHL VON REFLEKTIVEN FACETTENELEMENTEN 审中-公开
标题翻译： WITH ELEMENTS反射面中的几个光学元件
公开(公告)号：WO2011082872A1
公开(公告)日：2011-07-14
申请号：PCT/EP2010/067520
申请日：2010-11-16
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH , KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G02B5/09 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0816 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B7/1822 , G02B27/0927 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage umfassend eine Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen (1) mit jeweils mindestens einer reflektiven Fläche (5). Dabei ist mindestens ein Facettenelement drehbar (1) um eine Drehachse (9) angeordnet, wobei die Drehachse (9) die mindestens eine reflektive Fläche (5) dieses Facettenelementes (1) schneidet. Mit Hilfe eines solchen optischen Elements kann auf einfache Weise die Richtung und/oder die Intensität zumindest eines Teils der Beleuchtungsstrahlung innerhalb der Beleuchtungsoptik verändert werden.
摘要翻译：本发明涉及用于光学元件的EUV微光刻投射曝光设备，包括：（1）多个反射面元件的照明光学部件各自具有至少一个反射表面（5）。至少一个面可旋转地元件（1）被布置成绕旋转轴线（9），其中所述旋转轴线（9）的至少一个反射表面（5）相交此小面元件（1）。利用这样的光学元件的以简单的方式帮助的方向和/或照明辐射的至少一部分的强度可以在照明光学部件内变化。

7. 发明申请

WO2012126867A1 DEFLECTION MIRROR AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A DEFLECTION MIRROR 审中-公开
标题翻译：用于包含这种偏转镜的微观图像的偏转镜和投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012126867A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/EP2012/054752
申请日：2012-03-19
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan , ENDRES, Martin
发明人： ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan , ENDRES, Martin
IPC分类号： G02B17/06 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/702 , B82Y10/00 , G02B17/06 , G02B17/0663 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70316 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a deflection mirror for a microlithography projection exposure apparatus for illuminating an object field in an object plane of the projection exposure apparatus using the deflection mirror with grazing incidence. Said deflection mirror consists of a substrate and at least one layer system, and during operation light impinges on said mirror at a multiplicity of angles of incidence, wherein the layer system is designed such that, for light having a wavelength of less than 30 nm, for an angle of incidence of between 55° and 70°, the variation of the reflectivity is less than 20%, in particular less than 12%.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的偏转镜，用于使用具有掠入射的偏转镜照射投影曝光装置的物平面中的物场。所述偏转镜由衬底和至少一个层系统组成，并且在操作期间，光以多个入射角撞击在所述镜上，其中所述层系统被设计成使得对于波长小于30nm的光，对于55°和70°之间的入射角，反射率的变化小于20％，特别是小于12％。

8. 发明申请

WO2010049020A1 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明光学系统微EUV光刻
公开(公告)号：WO2010049020A1
公开(公告)日：2010-05-06
申请号：PCT/EP2009/005113
申请日：2009-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
发明人： DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70558
摘要： Eine Beleuchtungsoptik (47) für die EUV-Mikrolithographie dient zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (19) mit einem EUV-Nutzstrahlungsbündel (3). Zur Vorgabe von Beleuchtungsparametern dienen Vorgabeeinrichtungen (6, 10). Zur Korrektur der Intensitätsverteilung und/oder der Winkelverteilung der Objektfeldbeleuchtung dient eine Beleuchtungs-Korrektureinrichtung. Diese hat eine zumindest teilweise mit dem Nutzstrahlungsbündel (3) vor dem Objektfeld (19) beaufschlagte und gesteuert angetrieben verlagerbare optische Komponente (13). Ein Detektor (50, 53) dient zur Erfassung eines der Beleuchtungsparameter. Eine Auswerteeinrichtung (31) dient zur Auswertung der Detektordaten und zur Umsetzung von diesen in Steuersignale. Mindestens ein Aktor (61, 62) dient zur Verlagerung der optischen Komponente (13). Während Belichtungen werden die Stellelemente so mit den Detektorsignalen geregelt, dass während der Dauer einer Projektionsbelichtung eines maximale Verlagerung von Rändern des Objektfeldes (19) zu einem zu belichtenden Objekt (18) von unter 8 μm gewährleistet ist. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der die Einhaltung vorgegebener Beleuchtungsparameter auch bei höchsten Präzisionsanforderungen gewährleistet
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学部件（47）用于与EUVNutzstrahlungsbündel（3）照明物场（19）。用于指定照明参数指示装置用作（6，10）。照明校正装置用于校正的强度分布和/或物场照明的角度分布。这已作用于至少部分与所述物场（19）和控制驱动可移动光学部件（13）的Nutzstrahlungsbündel（3）的上游。的检测器（50，53）用于检测所述照明参数中的一个。的评估装置（31），用于将检测器数据的评估并将其转换成控制信号。至少一个致动器（61，62）用于将光学部件（13）的位移。在曝光被控制以便与被保证在物场（19）的边缘的最大位移的投影曝光的持续时间的对象的检测器信号中的调节元件，以小于8微米（18）被暴露。其结果是与即使在最高的精度要求具有特定照明参数确保符合的照明光学部件

9. 发明申请

WO2009132756A1 ILLUMINATION OPTICS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY AND ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING AN ILLUMINATION OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用于EUV微结构和照明系统的照明光学和包含这种类型的照明光学的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009132756A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/002584
申请日：2009-04-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70083
摘要： An illumination optics for EUV microlithography serves for guiding an illumination light bundle from a radiation source to an object field with an extension ratio between a longer field dimension (x) and a shorter field dimension (y), the ratio being considerably greater than 1. A field facet mirror (13) has a plurality of field facets (19) for setting defined illumination conditions in the object field. A following optics downstream of the field facet mirror (13) serves for transmitting the illumination light into the object field (5). The following optics comprises a pupil facet mirror (14) with a plurality of pupil facets (27). The field facets (19) are in each case individually allocated to the pupil facets (27) so that portions of the illumination light bundle (10) impinging upon in each case one of the field facets (19) are guided on to the object field (5) via the associated pupil facet (27). The field facet mirror (13) not only comprises a plurality of basic illumination field facets (19 G ) which provide a basic illumination of the object field (5) via associated basic illumination pupil facets (27 G ) but also a plurality of correction illumination field facets (19 K ) which provide for a correction of the illumination of the object field (5) via associated correction illumination pupil facets (27 K ). The result is an illumination optics which allows unwanted variations of illumination parameters, for instance an illumination intensity distribution or an illumination angle distribution, to be corrected across the object field.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学器件用于将照明光束从辐射源引导到物场，其具有在较长场尺寸（x）和较短场尺寸（y）之间的延伸比，该比率远大于1。场面反射镜（13）具有多个场面（19），用于在对象场中设定定义的照明条件。场面反射镜（13）下游的跟随光学器件用于将照明光发射到物场（5）中。以下光学器件包括具有多个光瞳面（27）的光瞳小面镜（14）。场分面（19）在每种情况下分别被分配给光瞳面（27），使得照射光束（10）中的每一个场景面（19）中的一个照射的部分被引导到物场（5）通过相关联的光瞳面（27）。场面反射镜（13）不仅包括通过相关联的基本照明光瞳（27G）提供对象场（5）的基本照明的多个基本照明场面（19G），而且还包括多个校正照明场面（19K），其经由相关联的校正照明光瞳面（27K）提供对物场（5）的照明的校正。结果是照明光学元件允许在整个对象场校正照明参数的不期望的变化，例如照明强度分布或照明角度分布。

10. 发明申请

WO2009115180A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影目标的微观算法
公开(公告)号：WO2009115180A1
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：PCT/EP2009/001448
申请日：2009-02-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZELLNER, Johannes , MANN, Hans-Jürgen , ENDRES, Martin
发明人： ZELLNER, Johannes , MANN, Hans-Jürgen , ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B17/0663 , G03F7/702 , G03F7/70233
摘要： A projection objective (7) for microlithography is used for imaging an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). The projection objective (7) comprises at least six mirrors (M1 to M6) of which at least one mirror has a freeform reflecting surface. According to one aspect of the invention, the ratio between an overall length (T) of the projection objective (7) and an object image shift (d OIS ) is smaller than 12. According to another aspect of the invention, the image plane (9) is the first field plane of the projection objective (7) downstream of the object plane (5). According to another aspect of the invention, the projection objective has a plurality of mirrors (M1 to M6), wherein the ratio between an overall length (T) and an object image shift (d OIS ) is smaller than 2.
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜（7）用于将物平面（5）中的物场（4）成像为图像平面（9）中的图像场（8）。投影物镜（7）包括至少六个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形反射表面。根据本发明的一个方面，投影物镜（7）的总长（T）与物体像偏移（dOIS）之间的比率小于12.根据本发明的另一方面，图像平面（9 ）是物平面（5）下游的投影物镜（7）的第一场平面。根据本发明的另一方面，投影物镜具有多个反射镜（M1至M6），其中总长度（T）和物体图像偏移（dOIS）之间的比率小于2。

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