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1. 发明申请

WO2010049020A1 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明光学系统微EUV光刻
公开(公告)号：WO2010049020A1
公开(公告)日：2010-05-06
申请号：PCT/EP2009/005113
申请日：2009-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
发明人： DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70558
摘要： Eine Beleuchtungsoptik (47) für die EUV-Mikrolithographie dient zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (19) mit einem EUV-Nutzstrahlungsbündel (3). Zur Vorgabe von Beleuchtungsparametern dienen Vorgabeeinrichtungen (6, 10). Zur Korrektur der Intensitätsverteilung und/oder der Winkelverteilung der Objektfeldbeleuchtung dient eine Beleuchtungs-Korrektureinrichtung. Diese hat eine zumindest teilweise mit dem Nutzstrahlungsbündel (3) vor dem Objektfeld (19) beaufschlagte und gesteuert angetrieben verlagerbare optische Komponente (13). Ein Detektor (50, 53) dient zur Erfassung eines der Beleuchtungsparameter. Eine Auswerteeinrichtung (31) dient zur Auswertung der Detektordaten und zur Umsetzung von diesen in Steuersignale. Mindestens ein Aktor (61, 62) dient zur Verlagerung der optischen Komponente (13). Während Belichtungen werden die Stellelemente so mit den Detektorsignalen geregelt, dass während der Dauer einer Projektionsbelichtung eines maximale Verlagerung von Rändern des Objektfeldes (19) zu einem zu belichtenden Objekt (18) von unter 8 μm gewährleistet ist. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der die Einhaltung vorgegebener Beleuchtungsparameter auch bei höchsten Präzisionsanforderungen gewährleistet
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学部件（47）用于与EUVNutzstrahlungsbündel（3）照明物场（19）。用于指定照明参数指示装置用作（6，10）。照明校正装置用于校正的强度分布和/或物场照明的角度分布。这已作用于至少部分与所述物场（19）和控制驱动可移动光学部件（13）的Nutzstrahlungsbündel（3）的上游。的检测器（50，53）用于检测所述照明参数中的一个。的评估装置（31），用于将检测器数据的评估并将其转换成控制信号。至少一个致动器（61，62）用于将光学部件（13）的位移。在曝光被控制以便与被保证在物场（19）的边缘的最大位移的投影曝光的持续时间的对象的检测器信号中的调节元件，以小于8微米（18）被暴露。其结果是与即使在最高的精度要求具有特定照明参数确保符合的照明光学部件

2. 发明申请

WO2009135576A1 COMPONENT FOR SETTING A SCAN-INTEGRATED ILLUMINATION ENERGY IN AN OBJECT PLANE OF A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于在微观投影曝光装置的对象平面中设置扫描一体化照明能量的组件
公开(公告)号：WO2009135576A1
公开(公告)日：2009-11-12
申请号：PCT/EP2009/002465
申请日：2009-04-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , LAYH, Michael
发明人： STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70066 , G03F7/70083 , G03F7/70558
摘要： The present invention relates to a component for setting a scanintegrated illumination energy in an object plane of a microlithography projection exposure apparatus. In this case, the component comprises a plurality of diaphragms which are arranged alongside one another with respect to a direction perpendicular to the scan movement and differ in their form and the position of which can be altered approximately in the scan direction, such that a portion of the illumination energy can be vignetted by at least one diaphragm. In this case, the form of the individual diaphragm is specifically adapted to the form of the illumination in a diaphragm plane in which the component is arranged. This has the effect that at least parts of the delimiting edges of two diaphragms always differ in the case of an arbitrary displacement of the diaphragms.
摘要翻译：本发明涉及一种用于设置微光刻投影曝光装置的物平面中的扫描积分照明能量的部件。在这种情况下，该部件包括多个隔膜，它们相对于垂直于扫描移动的方向彼此并排布置，并且其形状不同，并且其位置可以在扫描方向上大致改变，的照明能量可以被至少一个隔膜遮挡。在这种情况下，单个隔膜的形式特别适用于其中布置有该部件的隔膜平面中的照明形式。这具有以下效果：在隔膜的任意位移的情况下，两个隔膜的至少一部分限界边缘总是不同。

3. 发明申请

WO2008149178A1 CATOPTRIC ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY TOOL 审中-公开
标题翻译：用于微型工具的电子照明系统
公开(公告)号：WO2008149178A1
公开(公告)日：2008-12-11
申请号：PCT/IB2007/003547
申请日：2007-06-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STUETZLE, Ralf
发明人： OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STUETZLE, Ralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： In general, in one aspect, the invention features a system that includes an illumination system of a microlithography tool, the illumination system including a first component (400) having a plurality of elements (401). During operation of the system, the elements direct radiation from a source along an optical path to an arc-shaped object field at an object plane of a projection objective, and at least one of the elements (410) has a curved shape that is different from the arc-shape of the object field.
摘要翻译：通常，一方面，本发明的特征在于包括微光刻工具的照明系统的系统，所述照明系统包括具有多个元件（401）的第一部件（400）。在系统的操作期间，元件将来自源的光源沿着光路引导到投影物镜的物平面处的弧形物场，并且至少一个元件（410）具有不同的弯曲形状从对象字段的弧形。

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