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1. 发明申请

WO2012126867A1 DEFLECTION MIRROR AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A DEFLECTION MIRROR 审中-公开
标题翻译：用于包含这种偏转镜的微观图像的偏转镜和投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012126867A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/EP2012/054752
申请日：2012-03-19
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan , ENDRES, Martin
发明人： ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan , ENDRES, Martin
IPC分类号： G02B17/06 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/702 , B82Y10/00 , G02B17/06 , G02B17/0663 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70316 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a deflection mirror for a microlithography projection exposure apparatus for illuminating an object field in an object plane of the projection exposure apparatus using the deflection mirror with grazing incidence. Said deflection mirror consists of a substrate and at least one layer system, and during operation light impinges on said mirror at a multiplicity of angles of incidence, wherein the layer system is designed such that, for light having a wavelength of less than 30 nm, for an angle of incidence of between 55° and 70°, the variation of the reflectivity is less than 20%, in particular less than 12%.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的偏转镜，用于使用具有掠入射的偏转镜照射投影曝光装置的物平面中的物场。所述偏转镜由衬底和至少一个层系统组成，并且在操作期间，光以多个入射角撞击在所述镜上，其中所述层系统被设计成使得对于波长小于30nm的光，对于55°和70°之间的入射角，反射率的变化小于20％，特别是小于12％。

2. 发明申请

WO2012059537A1 PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微观曝光装置的投影目标
公开(公告)号：WO2012059537A1
公开(公告)日：2012-05-10
申请号：PCT/EP2011/069308
申请日：2011-11-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan , MANN, Hans-Juergen , FREIMANN, Rolf
发明人： ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan , MANN, Hans-Juergen , FREIMANN, Rolf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/198 , G03F7/70233 , G03F7/70308
摘要： The invention concerns a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus designed for EUV, for imaging an object plane illuminated in operation of the projection exposure apparatus into an image plane, wherein the projection objective has at least one mirror segment arrangement (160, 260, 280, 310, 410, 500) comprising a plurality of separate mirror segments (161 -163; 261-266, 281 -284; 31 1, 312; 41 1, 412; 510-540); and wherein associated with the mirror segments of the same mirror segment arrangement are partial beam paths which are different from each other and which respectively provide for imaging of the object plane (OP) into the image plane (IP), wherein said partial beam paths are superposed in the image plane (IP) and wherein at least two partial beams which are superposed in the same point in the image plane (IP) were reflected by different mirror segments of the same mirror segment arrangement.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV设计的微光刻投影曝光装置的投影目标，用于将在投影曝光装置的操作中照亮的物体成像成像面，其中投影物镜具有至少一个镜片段布置（160,260，包括多个分离的镜片段（161-163; 261-266,281-284; 31 1，312; 41 1，412; 510-540）; 并且其中与相同镜片段布置的镜片段相关联的部分光束路径彼此不同并且分别提供用于将物平面（OP）成像到图像平面（IP）中的部分光束路径，其中所述部分光束路径为叠加在图像平面（IP）中，并且其中叠加在图像平面（IP）中的相同点上的至少两个部分光束被相同镜像段布置的不同镜像段反射。

3. 发明申请

WO2009149802A1 METHOD FOR PRODUCING A MULTILAYER COATING, OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译：生产多层涂层，光学元件和光学布置的方法
公开(公告)号：WO2009149802A1
公开(公告)日：2009-12-17
申请号：PCT/EP2009/003421
申请日：2009-05-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan , ENDRES, Martin
发明人： ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan , ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08 , G21K1/06
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70958
摘要： The invention relates to a method for producing a multilayer coating (17) for reflecting radiation in the soft X-ray or EUV wavelength range on an optical element (8, 9) which is operated at an operating temperature (T op ) of 30° or more, preferably of 100°C or more, particularly preferably of 15O°C or more, in particular of 250°C or more, comprising the following steps : determining an optical design for the multilayer coating (17) which defines an optical desired layer thickness (n op d op ) of the layers (17.1, 17.2) of the multilayer coating (17) at the operating temperature (T op ), and applying the layers (17.1, 17.2) of the multilayer coating (17) with an optical actual layer thickness (n B d B ) chosen in such a way that a layer thickness change (n op d op - n B d B ) caused by thermal expansion of the layers (17.1, 17.2) between the coating temperature (T B ) and the operating temperature (T op ) is compensated for. The invention also relates to an optical element (8, 9), produced in particular according to the method described above, and a projection exposure apparatus comprising at least one optical element (8, 9) of this type.
摘要翻译：本发明涉及一种制造用于在软X射线或EUV波长范围内反射在30度工作温度（Top）为30度的光学元件（8,9）上反射辐射的多层涂层（17）的方法，或更优选为100℃以上，特别优选为150℃以上，特别优选为250℃以上，包括以下步骤：确定限定光学期望层的多层涂层（17）的光学设计在工作温度（Top）下，多层涂层（17）的层（17.1,17.2）的厚度（nop dop）和多层涂层（17）的层（17.1,17.2）的光学实际层厚度（nB dB），使得由涂层温度（TB）和工作温度（Top）之间的层（17.1,17.2）的热膨胀引起的层厚度变化（nop dop-nB dB）被补偿为。本发明还涉及特别根据上述方法制造的光学元件（8,9）和包括这种类型的至少一个光学元件（8,9）的投影曝光设备。

4. 发明申请

WO2011032813A1 MIRROR FOR USE IN A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于微观投影曝光装置的镜子
公开(公告)号：WO2011032813A1
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：PCT/EP2010/062426
申请日：2010-08-26
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ROCKTAESCHEL, Martin , ENKISCH, Hartmut , STICKEL, Franz-Josef , NATT, Oliver , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
发明人： ROCKTAESCHEL, Martin , ENKISCH, Hartmut , STICKEL, Franz-Josef , NATT, Oliver , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B5/0833 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70316
摘要： The invention relates to a mirror for use in a microlithography projection exposure apparatus, comprising a substrate and a reflective coating, wherein the reflective coating itself in turn comprises a first group of layers and a second group of layers. In this case, the second group of layers is arranged between the substrate and the first group of layers. Furthermore, both the first group of layers and the second group of layers comprise a plurality of alternating first and second layers arranged one above another, wherein the first layers comprise a first material, the refractive index of which for radiation having a wavelength in the range of 5-30 nm is greater than the refractive index of a second material, which the second layers comprise. In this case, the first group of layers is configured in such a way that it comprises a number of layers that is greater than 20, such that, upon irradiation with radiation having a wavelength in the range of 5-30 nm, less than 20% of the radiation reaches the second group of layers, and wherein the second group of layers has a layer thickness variation for the correction of the surface form of the mirror. What is thereby achieved is that the second group of layers, which has a layer thickness variation for the correction of the surface form of the mirror, does not significantly affect the reflectivity properties of the mirror.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光设备的反射镜，其包括基底和反射涂层，其中反射涂层本身又包括第一组层和第二组层。在这种情况下，第二组层布置在衬底和第一组层之间。此外，第一组层和第二组层都包括多个彼此排列的交替的第一和第二层，其中第一层包括第一材料，其第一材料的折射率用于具有在该范围内的波长的辐射 5-30nm的厚度大于第二层包含的第二材料的折射率。在这种情况下，第一组层被配置成使得其包括大于20的多个层，使得当辐射具有5-30nm的波长的辐射时，小于20 辐射的百分比达到第二组层，并且其中第二组层具有用于校正反射镜的表面形式的层厚度变化。由此实现的是，具有用于校正反射镜的表面形式的层厚度变化的第二组层不会显着影响反射镜的反射性质。

5. 发明申请

WO2017137216A1 SPIEGEL FÜR DEN EUV SPEKTRALBEREICH 审中-公开
标题翻译： EUV光谱区域的镜子
公开(公告)号：WO2017137216A1
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：PCT/EP2017/050891
申请日：2017-01-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , MÜLLENDER, Stephan
发明人： ENKISCH, Hartmut , MÜLLENDER, Stephan
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/00
CPC分类号： G02B5/0808 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/7095 , H01J37/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Element mit einem Substrat (105), wenigstens einer Reflexionsschicht (120), wobei die Reflexionsschicht eine Mehrzahl von Zonen (221, 222) aus unterschiedlichem Material aufweist, und einer adhäsionsverbessernden Schicht (110), welche zwischen dem Substrat (105) und der Reflexionsschicht (120, 220) angeordnet ist wobei diese adhäsionsverbessernde Schicht (110) ausschließlich aus Elementen besteht, die im Substrat (105) und/oder in der Reflexionsschicht (120) enthalten sind.
摘要翻译：本发明涉及一种光学元件，其包括基板（105），至少一个反射层（120），所述反射层具有多个不同材料的区域（221,222），以及粘合增强层其中该粘合改进层（110）完全由存在于衬底（105）中和/或反射层（110）中的元素构成，所述层设置在衬底（105）和反射层（120,220）（120）都包含在内。

6. 发明申请

WO2012104136A1 MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, METHOD FOR PRODUCING SUCH A MIRROR, PROJECTION LENS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION LENS 审中-公开
标题翻译：用于EUV波长范围的镜子，用于生产这样的镜子的方法，用于包含这种镜子的微观尺寸的投影镜头和用于包含这样的投影镜头的微结构的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012104136A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/EP2012/050573
申请日：2012-01-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MÜLLENDER, Stephan , ENKISCH, Hartmut , DIER, Oliver , WEBER, Jörn
发明人： MÜLLENDER, Stephan , ENKISCH, Hartmut , DIER, Oliver , WEBER, Jörn
IPC分类号： G02B17/06 , G02B5/08
CPC分类号： G02B5/0875 , G02B5/0891 , G02B17/0657 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a mirror (1a; 1b; 1c; 1d) for the EUV wavelength range having a reflectivity of greater than 40% for at least one angle of incidence of between 0° and 25°, comprising a substrate (S) and a layer arrangement, wherein the layer arrangement comprises at least one layer subsystem (ASL) consisting of a periodic sequence of at least two periods (PASL) of individual layers (LASL, B, HASL) composed of different materials, and wherein the layer subsystem (ASL) has an oxygen doping of between 10 ppb and 0.1 %, in particular between 50 ppb and 50 ppm. Furthermore, the invention relates to a method for coating a mirror (1a; 1b; 1c: 1d) for the EUV wavelength range, wherein an oxygen partial pressure of greater than 10 -9 mbar, in particular of greater than 10 -7 mbar, is present during the coating of the layer subsystem (ASL) with oxygen doping. Furthermore, the invention relates to a projection lens for micro lithography comprising such a mirror, and to a projection exposure apparatus comprising such a projection lens.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜（1a; 1b; 1c; 1d），其对于至少一个入射角在0°至25°之间的反射率大于40％，包括基底（S）和层布置，其中所述层布置包括由由不同材料组成的单个层（LASL，B，HASL）的至少两个周期（PASL）的周期性序列组成的至少一个层子系统（ASL），并且其中所述层子系统（ASL）的氧掺杂在10ppb和0.1％之间，特别是在50ppb和50ppm之间。此外，本发明涉及一种用于EUV波长范围的用于涂覆反射镜（1a; 1b; 1c：1d）的方法，其中大于10-9毫巴，特别是大于10-7毫巴的氧分压，在具有氧掺杂的层子系统（ASL）的涂覆期间存在。此外，本发明涉及一种包括这种反射镜的微光刻用投影透镜以及包括这种投影透镜的投影曝光装置。

7. 发明申请

WO2017009185A1 SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： MIRROR，尤其是对于微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2017009185A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：PCT/EP2016/066178
申请日：2016-07-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DIER, Oliver , HILD, Kerstin , ENKISCH, Hartmut , KALISKY, Matus
发明人： DIER, Oliver , HILD, Kerstin , ENKISCH, Hartmut , KALISKY, Matus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Spiegel eine optische Wirkfläche aufweist, mit einem Spiegelsubstrat (205, 305), einer Reflexionsschicht (220, 320), welche derart ausgestaltet ist, dass der Spiegel für elektromagnetische Strahlung einer vorgegebenen Arbeitswellenlänge, welche auf die optische Wirkfläche (200a, 300a) unter einem auf die jeweilige Oberflächennormale bezogenen Einfallswinkel von wenigstens 65° auftrifft, eine Reflektivität von wenigstens 50% besitzt, und einer Substratschutzschicht (210, 310), welche zwischen dem Spiegelsubstrat (205, 305) und der Reflexionsschicht (220, 320) angeordnet ist, wobei die Substratschutzschicht (210, 310) für EUV-Strahlung eine Transmission von weniger als 0.1% aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种反射镜，特别是用于微光刻投射曝光系统，其具有的光学有效表面的反射镜，利用该被设计为使得用于一个电磁辐射的反射镜预定的反射镜衬底（205，305），反射层（220，320）工作波长，其中所述光学活性表面（200A，300A）撞击在涉及到至少65°入射的相应表面法线夹角的时间，具有至少50％的反射率，以及设置在镜基板之间的基底保护层（210,310）（205， 305）和反射层（220，320）被设置，其中，对于具有小于0.1％的透射的极紫外辐射的基板保护层（210，310）。

8. 发明申请

WO2022161658A1 MIRROR, OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2022161658A1
公开(公告)日：2022-08-04
申请号：PCT/EP2021/082558
申请日：2021-11-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , GRUNER, Toralf , GELLRICH, Bernhard
发明人： ENKISCH, Hartmut , GRUNER, Toralf , GELLRICH, Bernhard
IPC分类号： G02B5/08 , G02B26/00 , G02B26/08 , G03F7/20 , G02B7/18
摘要： The invention relates to a method for operating an optical system, and to a mirror and to an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus. A mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the mirror has an optical effective surface, comprises a mirror substrate (101, 201, 301, 401, 501) and a plurality of cavities (110, 210, 310, 410, 411, 510) which are arranged in the mirror substrate and to each of which a fluid can be applied, wherein a deformation is transferable to the optical effective surface by varying the fluid pressure in these cavities (110, 210, 310, 410, 411, 510).

9. 发明申请

WO2018007081A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是用于微型投影曝光设备
公开(公告)号：WO2018007081A1
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：PCT/EP2017/063715
申请日：2017-06-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , SCHICKETANZ, Thomas , KALISKY, Matus , DIER, Oliver
发明人： ENKISCH, Hartmut , SCHICKETANZ, Thomas , KALISKY, Matus , DIER, Oliver
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
摘要： The invention relates to an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, with at least one mirror (200) which has an optically effective surface and, for electromagnetic radiation of a predefined operating wavelength impinging on the optically effective surface at an angle of incidence of at least 65° relative to the respective surface normal, has a reflectivity of at least 0.5, wherein the mirror has a reflection layer (210) and a compensation layer (220) which is arranged above this reflection layer (210) in the direction of the optically effective surface, wherein the compensation layer (220), for an intensity distribution generated in a pupil plane or a field plane of the optical system during operation thereof, reduces the difference between the maximum and the minimum intensity value by at least 20% compared to an analogous structure without the compensation layer (220).
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，特别是用于微光刻投影曝光装置的光学系统，其具有至少一个反射镜（200），该反射镜具有光学有效表面，并且对于预定工作波长入射的电磁辐射以至少65°的入射角在光学有效表面上; 相对于相应的表面法线具有至少0.5的反射率，其中该反射镜具有反射层（210）和补偿层（220），该补偿层布置在该反射层（210）上方的光学有效表面，其中对于在其操作期间在光学系统的光瞳平面或场平面中产生的强度分布，补偿层（220）将最大强度值与最小强度值之间的差减小至少20％，与类似结构没有补偿层（220）。

10. 发明申请

WO2015114043A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES SPIEGELELEMENTS 审中-公开
标题翻译：一种用于生产的镜元件
公开(公告)号：WO2015114043A1
公开(公告)日：2015-08-06
申请号：PCT/EP2015/051791
申请日：2015-01-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , HUBER, Peter , STROBEL, Sebastian
发明人： ENKISCH, Hartmut , HUBER, Peter , STROBEL, Sebastian
IPC分类号： G02B5/08 , G02B5/09 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B26/0833 , G21K1/062 , G21K2201/064
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Bereitstellen eines Substrats (101, 102, 103, 104, 201, 202, 301, 302, 401, 402, 501, 502, 801, 901, 951, 961) und Ausbilden eines Schichtstapels (111, 112, 113, 114, 211, 212, 311, 312, 411, 412, 511, 512) auf dem Substrat, wobei das Ausbilden des Schichtstapels derart erfolgt, dass eine für eine vorgegebene Betriebstemperatur gewünschte Soll-Krümmung des Spiegelelements durch eine von dem Schichtstapel ausgeübte Biegekraft erzeugt wird, wobei das Substrat vor dem Ausbilden des Schichtstapels eine von dieser Soll-Krümmung des Spiegelelements abweichende Krümmung besitzt, und wobei die von dem Schichtstapel ausgeübte Biegekraft zumindest teilweise dadurch erzeugt wird, dass eine Nachbehandlung zur Veränderung der Schichtspannung des Schichtstapels durchgeführt wird.
摘要翻译：本发明涉及一种制造反射镜元件，特别是用于微光刻投射曝光设备的方法。本发明的方法包括以下步骤：提供衬底（101，102，103，104，201，202，301，302，401，402，501，502，801，901，951，961）以及形成的层堆叠（111 ，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512）的衬底，层堆叠，其中形成上执行，使得通过一个期望的反射镜元件的一个预定的工作温度所需的曲率弯曲所施加的层堆叠上的力被形成，其中所述层堆叠的成形前基板，所述具有从曲率反射镜元件的期望的曲率偏离，并且其中由所述层堆叠施加的弯曲力是通过具有用于改变所述层堆叠的膜应力的后处理至少部分地形成执行。

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