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1. 发明申请

WO2011051069A1 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING A REFLECTIVE OPTICAL COMPONENT AND A MEASURING DEVICE 审中-公开
标题翻译：包含反射光学元件和测量装置的目标投影目标
公开(公告)号：WO2011051069A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/EP2010/064380
申请日：2010-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , ZACZEK, Christoph , MÜLLER, Ralf
发明人： BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , ZACZEK, Christoph , MÜLLER, Ralf
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B13/143 , G02B17/0856 , G02B17/0892 , G03F7/70225 , G03F7/706
摘要： The invention relates to a catadioptric projection objective for imaging an object field onto an image field by means of an imaging radiation. In this case, the projection objective comprises at least one reflective optical component and a measuring device, wherein the reflective optical component, during the operation of the projection objective, reflects a first part of the imaging radiation and transmits a second part of the imaging radiation. While the rεfleeted, first part of the imaging radiation at least partly contributes to the imaging of the object field, the transmitted, second part of the imaging radiation is at least partly fed to a measuring device. This allows a simultaneous exposure of the photosensitive layer at the location of the image field with the imaging radiation and a monitoring of said imaging radiation with the aid of the measuring
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过成像辐射将对象场成像到图像场上的反射折射投影物镜。在这种情况下，投影物镜包括至少一个反射光学部件和测量装置，其中反射光学部件在投影物镜的操作过程中反射成像辐射的第一部分并透射成像辐射的第二部分。虽然反射的，成像辐射的第一部分至少部分地有助于对象场的成像，但是成像辐射的透射的第二部分至少部分地被馈送到测量装置。这允许在图像场的位置处的感光层与成像辐射的同时曝光并且借助于测量来监测所述成像辐射

2. 发明申请

WO2012041461A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻曝光法
公开(公告)号：WO2012041461A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004750
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
发明人： HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for exposing a substrate (20) comprises a projection objective (18) and an optical measuring apparatus (40) for determining a surface topography of the substrate (20) before the latter is exposed. The measuring apparatus (40) has a measuring beam path which extends outside of the projection objective (18), and is configured as a wavefront measuring apparatus, which is configured to determine topography measurement values simultaneously at a number of points on the substrate surface (21).
摘要翻译：用于微曝光曝光衬底（20）的投影曝光工具（10）包括投影物镜（18）和用于确定衬底（20）的表面形貌的光学测量装置（40）在后者暴露之前。测量设备（40）具有延伸到投影物镜（18）外部的测量光束路径，并且被配置为波前测量设备，该波前测量设备被配置为同时在基板表面上的多个点处确定地形测量值 21）。

3. 发明申请

WO2016131758A1 BAUGRUPPE EINES OPTISCHEN SYSTEMS, INSBESONDERE EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：组件中的光学系统的，尤其是微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2016131758A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：PCT/EP2016/053139
申请日：2016-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HORN, Jan , SIGEL, Benjamin , KNAUF, Benedikt , KRONE, Stefan , SPECHT, Jörg , HOLZ, Markus , LINDNER, Ralf , BLEIDISTEL, Sascha , BART, Florian
发明人： HORN, Jan , SIGEL, Benjamin , KNAUF, Benedikt , KRONE, Stefan , SPECHT, Jörg , HOLZ, Markus , LINDNER, Ralf , BLEIDISTEL, Sascha , BART, Florian
IPC分类号： G03F7/20 , H04B5/00
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70116 , H04B5/0081
摘要： Die Erfindung betrifft eine Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Spiegelanordnung (1 10, 210, 310, 410), welche eine Mehrzahl unabhängig voneinander verstellbarer Spiegelelemente (1 10a, 1 10b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) aufweist, und einer Daten- und Spannungserzeugungseinheit (120, 220, 320, 420), welche Ansteuerungsdaten sowie eine Versorgungsspannung zur Ansteuerung einer Verstellung der jeweiligen Spiegelelemente erzeugt, wobei die Baugruppe zur galvanisch getrennten Übertragung der Ansteuerungsdaten und/oder der Versorgungsspannung von der Daten- und Spannungserzeugungseinheit (120, 220, 320, 420) an die Spiegelelemente (110a, 1 10b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) ausgelegt ist.
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统的组件，尤其是微光刻投射曝光系统的，具有包括多个独立地可调节的反射镜元件（1 110A，110B，210A，210B，310A，310B的反射镜组件（110，210，310，410）， 410A，410B），并且其产生驱动数据的数据和电压生成部（120，220，320，420），以及用于驱动各个反射镜元件的调整的电源电压，用于驱动数据的电隔离发送和/或电源电压的组件数据和电压生成部（120，220，320，420）到反射镜元件（110A，1 10B，210A，210B，310A，310B，410A，410B）的适于。

4. 发明申请

WO2008037496A3 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHY APPARATUS WITH IMPROVED IMAGING PROPERTIES AND METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF THE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
公开(公告)号：WO2008037496A3
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：PCT/EP2007/008476
申请日：2007-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
发明人： BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02
摘要： A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from the plurality of lenses (32, 34, 36, 38). A first force input and/or moment input can be realized by means of the first actuator (46, 72) and a second force input and/or moment input can be realized by means of the second actuator (48, 74), wherein the first force input and/or moment input and the second force input and/or moment input differ with regard to at least one of the parameters: intensity of the force and/or moment input, direction of the force input relative to the local optical axis (40), direction of the moment input relative to a periphery of the first lens (42).

5. 发明申请

WO2006125617A2 METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF A PROJECTION OBJECTIVE, AND SUCH A PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：改进投影目标成像特性的方法及其投影目标
公开(公告)号：WO2006125617A2
公开(公告)日：2006-11-30
申请号：PCT/EP2006/004929
申请日：2006-05-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CONRADI, Olaf , FELDMANN, Heiko , RICHTER, Gerald , BLEIDISTEL, Sascha , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , HUMMEL, Wolfgang
发明人： CONRADI, Olaf , FELDMANN, Heiko , RICHTER, Gerald , BLEIDISTEL, Sascha , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , HUMMEL, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0068 , G02B3/0081 , G02B26/0825 , G03F7/7015 , G03F7/70266 , G03F7/70558 , Y10S359/90
摘要： The invention relates to a method for improving the imaging properties of a microlithography projection objective, wherein the projection objective has a plurality of lenses between an object plane and an image plane, a first lens of the plurality of lenses being assigned a first manipulator for actively deforming the lens, the first lens being deformed for at least partially correcting an aberration, at least one second lens of the plurality of lenses furthermore being assigned at least one second manipulator, and the second lens being deformed in addition to the first lens. Furthermore, a method is described for selecting at least one lens of a plurality of lenses of a projection objective as actively deformable element, and a projection objective.
摘要翻译：本发明涉及一种用于改善微光刻投影物镜的成像特性的方法，其中所述投影物镜在物平面和像平面之间具有多个透镜，所述多个透镜的第一透镜被分配用于主动的第一操纵器使透镜变形，第一透镜被变形以至少部分地校正像差，多个透镜中的至少一个第二透镜进一步被分配至少一个第二操纵器，并且第二透镜除了第一透镜之外也变形。此外，描述了一种用于选择投影物镜的多个透镜中的至少一个透镜作为主动变形元件和投影物镜的方法。

6. 发明申请

WO2006053751A2 PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光设备的投影目标
公开(公告)号：WO2006053751A2
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/EP2005/012327
申请日：2005-11-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
发明人： BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage weist ein Projektionsobjektiv (20) auf, das ein Objekt (24) auf eine Bildebene (28) abbildet und eine Linse (L3) mit einer gekrümmten Fläche (S) hat. In dem Projektionsobjektiv (20) befindet sich ein flüssiges oder festes Medium (34), das unmittelbar an die gekrümmte Fläche (S) über einen Bereich hinweg angrenzt, der für die Abbildung des Objekts (24) nutzbar ist. Die Projektionsbelichtungsanlage weist außerdem einen verstellbaren Manipulator (M) zur Verringerung einer Bildfeldwölbung auf, die durch eine Erwärmung des Mediums (34) während des Projektionsbetriebs verursacht wird.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包括：一个投影透镜（20）到图像平面（28）的图像的对象（24）和具有一个冠导航中使用的透镜（L3）奈德FL＆AUML;枝（S）具有，在投影透镜20中，存在液体或固体介质34，其在与图像相邻的区域上紧邻曲面S 物体（24）的尺寸是可用的。投影曝光＆害羞;植物具有坳道除了可调节的操纵器（M），以减少一个Bildfeldw＆OUML; lbung，其通过EI＆害羞; NE广告＆AUML;所述介质（34）的变暖W＆AUML; Projektionsbe＆期间害羞;引起驱动。

7. 发明申请

WO2017202976A1 POSITION MEASUREMENT OF OPTICAL ELEMENTS IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光刻设备中光学元件的位置测量
公开(公告)号：WO2017202976A1
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：PCT/EP2017/062643
申请日：2017-05-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： LOOPSTRA, Erik , VAN DER PASCH, Engelbertus Antonius Franciscus , BLEIDISTEL, Sascha , COSIJN, Suzanne
IPC分类号： G03F7/20
摘要： According to an embodiment of the invention there is provided a lithographic apparatus, comprising a projection system (PS) comprising a plurality of optical elements (505-535; 605-640), the plurality of optical elements (505-535; 605-640) configured to project a beam (B, 26) of radiation onto a radiation sensitive substrate (W). The lithographic apparatus also comprises a metrology frame structure (500; 600), comprising a part (540-570; 660-695) of one or more optical element measurement systems to measure the position and/or orientation of at least one of the optical elements (505-535; 605-640). The plurality of optical elements (505-535; 605-640), a patterning device stage (MT), and a substrate stage (WT) are arranged such that in a two dimensional view on the projection system (PS), a rectangle (ORE) is defined such that it envelops the plurality of optical elements (505-535; 605-640), the patterning device stage (MT), and the substrate stage (WT). The rectangle (ORE) is further defined as small as possible, wherein the metrology frame structure (500; 600) is positioned within the rectangle (ORE).
摘要翻译：根据本发明的实施例，提供了一种光刻设备，包括：投影系统（PS），其包括多个光学元件（505-535; 605-640），所述多个光学元件（505-535; 605-640），其被配置为将辐射束（B，26）投影到辐射敏感衬底（W）上。该光刻设备还包括计量框架结构（500; 600），该计量框架结构包括一个或多个光学元件测量系统的一部分（540-570; 660-695），以测量光学元件中的至少一个的位置和/或取向元素（505-535; 605-640）。多个光学元件（505-535; 605-640），图案形成装置台（MT）和衬底台（WT）被布置为使得在投影系统（PS）上的二维视图中，矩形 ORE）被定义为使得其包围多个光学元件（505-535; 605-640），图案形成装置台（MT）和衬底台（WT）。矩形（ORE）被进一步限定为尽可能小，其中度量框架结构（500; 600）位于矩形（ORE）内。

8. 发明申请

WO2015173362A1 OPTIMALE ANORDNUNG VON AKTUIER- UND SENSORPUNKTEN AUF EINEM OPTISCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译： ON的光学元件AKTUIER-和测距点的优化配置
公开(公告)号：WO2015173362A1
公开(公告)日：2015-11-19
申请号：PCT/EP2015/060701
申请日：2015-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MARSOLLEK, Pascal , LIPPERT, Johannes , WESSELINGH, Jasper , BLEIDISTEL, Sascha
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/706 , G02B27/0025 , G03F7/7015 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/7095
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem deformierbaren optischen Element zur Korrektur von Wellenfrontfehlern, wobei zur Deformation des optischen Elements Aktuierungseinheiten vorhanden sind, welche über Kontaktbereiche in mechanischem Kontakt mit dem optischen Element stehen, wobei die Kontaktbereiche (36) in einer regelmäßigen oder unregelmäßigen Anordnung außerhalb eines optisch aktiven Bereichs (9.16', 9,17', 9.19', 9.20', 9.21 ') des optischen Elements (9.16, 9,17, 9.19, 9.20, 9.21 ) angeordnet sind und wobei dem optisch aktiven Bereich nächstliegende und ferner liegende Kontaktbereiche (36) vorhanden sind.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备具有用于波阵面误差的校正的可变形光学元件是存在的用于光学元件Aktuierungseinheiten其与通过接触区域中的光学元件的机械接触的变形，所述在常规的接触区域（36）或（16.9 '9.17' ，9.19'，9.20' ，9.21“），光学元件（9.16，9.17，9.19，9.20，9.21）被布置的光学活性区的不规则排列外侧，其中，所述光学活性区最近的并且进一步布置接触区域（36）都存在。

9. 发明申请

WO2022200203A1 OPTICAL ASSEMBLY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF, METHOD FOR DEFORMING AN OPTICAL ELEMENT, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022200203A1
公开(公告)日：2022-09-29
申请号：PCT/EP2022/057120
申请日：2022-03-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： LOOPSTRA, Erik , MANGER, Matthias , VOGLER, Alexander , RAAB, Markus , LIPPERT, Johannes , BLEIDISTEL, Sascha , WITT, Axel , RABA, Andreas
IPC分类号： G02B26/08 , G02B5/09 , G02B5/08
摘要： The invention relates to an optical assembly (1) comprising an optical element (2) with an optically active front side (3) and a back side (4) facing away from the front side (3). The optical assembly (1) comprises a plurality of electrostatic actuators (5) arranged distributed along the back side (4) of the optical element (2). Each actuator (5) comprises an electrode pair of two spaced apart electrodes (6, 7), each actuator (5) being configured and mechanically coupled to the back side (4) of the optical element (2) so that an electrostatic force which is generated by means of an electrical control voltage (U1...n) between the electrodes (6, 7) of the electrode pair and which serves to deform the optical element (2) is transferred to the optical element (2). Provision is made for a dielectric (8) to be arranged between the electrodes (6, 7) of the electrode pair.

10. 发明申请

WO2013113480A1 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING A MEASURING SYSTEM FOR MEASURING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：包含用于测量光学元件的测量系统的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2013113480A1
公开(公告)日：2013-08-08
申请号：PCT/EP2013/000200
申请日：2013-01-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BLEIDISTEL, Sascha , HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B27/00 , G01N21/41 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G01K11/00 , G01M11/0242 , G01M11/0271 , G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： A projection exposure apparatus (10) for microlithography comprises a measuring system (50) for measuring an optical element of the projection exposure apparatus. The measuring system (50) comprises: an irradiation device (54), which is configured to radiate measuring radiation (62) in different directions (64) onto the optical element (20), such that the measuring radiation (62) covers a respective optical path length (68) within the optical element (20) for the different directions (64) of incidence, a detection device (56), which is configured to measure, for the respective direction (64) of incidence, the corresponding optical path length covered by the measuring radiation (62) in the optical element (20), and an evaluation device, which is configured to determine a spatially resolved distribution of the refractive index in the optical element (20) by computed-tomographic back projection of the measured path lengths taking account of the respective direction of incidence.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光装置（10）包括用于测量投影曝光装置的光学元件的测量系统（50）。测量系统（50）包括：照射装置（54），其配置成将不同方向（64）上的测量辐射（62）辐射到光学元件（20）上，使得测量辐射（62）覆盖相应的用于不同方向（64）入射的光学元件（20）内的光路长度（68）;检测装置（56），被配置为针对相应的入射方向（64）测量相应的光路由所述光学元件（20）中的所述测量辐射（62）覆盖的长度以及评估装置，其被配置为通过所述光学元件（20）的计算机断层摄影反投影来确定所述光学元件（20）中的折射率的空间分辨分布测量的路径长度考虑到相应的入射方向。

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