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1. 发明申请

WO2012041461A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻曝光法
公开(公告)号：WO2012041461A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004750
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
发明人： HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for exposing a substrate (20) comprises a projection objective (18) and an optical measuring apparatus (40) for determining a surface topography of the substrate (20) before the latter is exposed. The measuring apparatus (40) has a measuring beam path which extends outside of the projection objective (18), and is configured as a wavefront measuring apparatus, which is configured to determine topography measurement values simultaneously at a number of points on the substrate surface (21).
摘要翻译：用于微曝光曝光衬底（20）的投影曝光工具（10）包括投影物镜（18）和用于确定衬底（20）的表面形貌的光学测量装置（40）在后者暴露之前。测量设备（40）具有延伸到投影物镜（18）外部的测量光束路径，并且被配置为波前测量设备，该波前测量设备被配置为同时在基板表面上的多个点处确定地形测量值 21）。

2. 发明申请

WO2019233685A1 COMPUTER-GENERIERTES HOLOGRAMM (CGH), SOWIE VERFAHREN ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2019233685A1
公开(公告)日：2019-12-12
申请号：PCT/EP2019/061533
申请日：2019-05-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , WOLF, Alexander
发明人： HETZLER, Jochen , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/02 , G01M11/00 , G01M11/02 , G01B11/24 , G03H1/22
摘要： Die Erfindung betrifft ein Computer-generiertes Hologramm (CGH) sowie ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements. Gemäß einem Aspekt weist ein CGH einen wenigstens eine Nutzstruktur (A) aufweisenden ersten Bereich (121, 321, 421) und einen von diesem ersten Bereich (121, 321, 421) räumlich separierten zweiten Bereich (122, 322, 422) auf, wobei dieser zweite Bereich einen Kontrollbereich zur Detektion einer sich auf dem CGH (120, 320, 420, 520) ausbildenden Kontamination bildet.

3. 发明申请

WO2011020690A2 METHOD FOR PRODUCING A MIRROR HAVING AT LEAST TWO MIRROR SURFACES, MIRROR OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于生产具有至少两个反射镜的镜子的方法，用于微结构的投影曝光装置的镜子和投影曝光装置
公开(公告)号：WO2011020690A2
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：PCT/EP2010/061148
申请日：2010-07-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , MUELLER, Ralf , SINGER, Wolfgang
发明人： HETZLER, Jochen , MUELLER, Ralf , SINGER, Wolfgang
CPC分类号： G02B17/0647 , G02B13/143 , G03F7/70233 , G03F7/70958
摘要： The invention relates to a mirror (M) of a projection exposure apparatus for rnicrolithography for the structured exposure of a light-sensitive material and to a method for producing a mirror (M), The mirror (M) according to the Invention has a substrate body (B), a first mirror surface (S) and a second mirror surface (S5). The first mirror surface (S) is formed on a first side (VS) of the substrate body (3). The second mirror surface (S') is formed on a second side (RS) of the substrate body (B), said second side being different from the first side of the substrate body (B). The mirror (M) according to the invention can be embodied, in particular, such that the substrate body (B) is produced from a glass ceramic material.
摘要翻译：本发明涉及用于感光材料的结构曝光的微光刻用投影曝光装置的反射镜（M）及其制造方法（M）。根据本发明的反射镜（M）具有基板主体（B），第一镜面（S）和第二镜面（S5）。第一镜面（S）形成在基体（3）的第一侧（VS）上。第二镜面（S'）形成在基板主体（B）的第二侧（RS）上，所述第二侧与基板主体（B）的第一侧不同。根据本发明的镜子（M）可以具体地实现，使得基底主体（B）由玻璃陶瓷材料制成。

4. 发明申请

WO2012041457A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC IMAGING 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻成像方法
公开(公告)号：WO2012041457A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004741
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70675 , G01B9/02015 , G01B11/14 , G01B2290/65 , G03F7/70483 , G03F7/70616 , G03F7/70683 , G03F7/70733 , G03F7/7085 , G03F9/7003 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for imaging mask structures (22) of an image-providing substrate (20) onto a substrate (30) to be structured comprises a measuring apparatus (40) which is configured to determine a relative position of measurement structures (32) disposed on a surface of one of the substrates (20; 30) in relation to one another in at least one lateral direction in respect of the substrate surface and to thereby simultaneously measure a number of measurement structures (32) disposed laterally offset in relation to one another.
摘要翻译：用于将用于将图像提供基板（20）的掩模结构（22）成像到要构造的基板（30）上的用于微光刻的投影曝光工具（10）包括测量装置（40），该测量装置被配置为确定在相对于所述衬底表面的至少一个横向方向上相对于彼此确定布置在所述衬底（20; 30）之一的表面上的测量结构（32）的相对位置，并且由此同时测量测量结构（32）的数量相对于彼此侧向偏置。

5. 发明申请

WO2022037898A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022037898A1
公开(公告)日：2022-02-24
申请号：PCT/EP2021/070725
申请日：2021-07-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SIEGLER, Steffen , DJURIC-RISSNER, Ferdinand , RUND, Armin , HETZLER, Jochen , LAUTER, Roland
发明人： SIEGLER, Steffen , DJURIC-RISSNER, Ferdinand , RUND, Armin , HETZLER, Jochen , LAUTER, Roland
IPC分类号： G01B9/02
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Durchführen einer Interferogramm-Messreihe an dem optischen Element durch Überlagerung jeweils einer durch Beugung elektromagnetischer Strahlung an wenigstens einem diffraktiven Element erzeugten und an dem optischen Element reflektierten Prüfwelle mit einer nicht an dem optischen Element reflektierten, über ein Referenzelement verlaufenden Referenzwelle, Durchführen weiterer Interferogramm-Messreihen an einer Mehrzahl von Kalibrierspiegeln zur Ermittlung von Kalibrierkorrekturen durch Überlagerung jeweils einer durch Beugung elektromagnetischer Strahlung an dem wenigstens einen diffraktiven Element erzeugten und an dem jeweiligen Kalibrierspiegel reflektierten Kalibrierwelle mit einer nicht an dem optischen Element reflektierten, über das Referenzelement verlaufenden Referenzwelle, und Bestimmen der Passe des optischen Elements basierend auf der an dem optischen Element durchgeführten Interferogramm-Messreihe und den ermittelten Kalibrierkorrekturen, wobei bei Auswertung der durchgeführten Interferogramm- Messreihen ein unterschiedlicher Phasenbezug der Interferogramm-Messreihen in seinem Einfluss auf die Ermittlung der Kalibrierkorrekturen wenigstens teilweise kompensiert wird.

6. 发明申请

WO2013185822A1 MASKLESS LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING AN EXPOSURE PATTERN 审中-公开
标题翻译：用于产生曝光图案的MASKLESS LITHOGRAPHIC装置和方法
公开(公告)号：WO2013185822A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：PCT/EP2012/061295
申请日：2012-06-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BODEMANN, Axel , HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： BODEMANN, Axel , HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70308
摘要： The invention relates to a maskless lithographic apparatus (1), comprising: a light modulator (7) having a plurality of micromirrors arranged in a micromirror array for modulating an exposure beam (5) according to an exposure pattern, and an exposure optical system (8) for delivering the modulated exposure beam (5) onto a substrate (2). The apparatus (1) comprises a tilt error compensation unit (15) for compensating for tilt errors of the micromirrors of the micromirror array. The invention also relates to a corresponding method for generating an exposure pattern on a substrate (2), comprising: modulating an exposure beam (5) according to the exposure pattern using a plurality of micromirrors of a micromirror array, and delivering the modulated exposure beam (5) onto a substrate (2) in the form of a beam-spot array (40), wherein at least one of the modulating step and the delivering step comprises compensating for tilt errors of the micromirrors of the micromirror array.
摘要翻译：本发明涉及一种无掩模光刻设备（1），包括：光调制器（7），其具有布置在微镜阵列中的多个微镜，用于根据曝光图案调制曝光光束（5），以及曝光光学系统 8），用于将调制的曝光束（5）输送到衬底（2）上。装置（1）包括用于补偿微镜阵列的微镜的倾斜误差的倾斜误差补偿单元（15）。本发明还涉及用于在衬底（2）上产生曝光图案的相应方法，包括：使用多个微镜阵列的微镜根据曝光图案调制曝光光束（5），并且传送经调制的曝光光束（5）以束 - 点阵列（40）的形式存在于衬底（2）上，其中调制步骤和传送步骤中的至少一个包括补偿微镜阵列的微镜的倾斜误差。

7. 发明申请

WO2015150301A1 VERFAHREN ZUM JUSTIEREN EINES SPIEGELS EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法用于调整的微光刻投射曝光装置的反射镜的
公开(公告)号：WO2015150301A1
公开(公告)日：2015-10-08
申请号：PCT/EP2015/056843
申请日：2015-03-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , HETZLER, Jochen
发明人： FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , HETZLER, Jochen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G02B5/09 , G03F7/70233 , G03F7/70258 , G03F7/706
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Justieren eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein erfindungsgemäßes Verfahren folgende Schritte auf: Aufnehmen eines ersten Teil-Interferogramms zwischen einer an einem ersten Spiegelsegment (101) reflektierten Welle und einer an einer Referenzfläche (110, 310, 510) reflektierten Referenzwelle, Aufnehmen eines zweiten Teil- Interferogramms zwischen einer an einem zweiten Spiegelsegment (102) reflektierten Welle und einer an der Referenzfläche (110, 310, 510) reflektierten Referenzwelle, Ermitteln eines Phasenversatzes zwischen dem ersten Teil-Interferogramm und dem zweiten Teil-Interferogramm, und Justieren des ersten Spiegelsegments (101) und des zweiten Spiegelsegments (102) zueinander auf Basis des ermittelten Phasenversatzes derart, dass der Abstand der betreffenden Spiegelsegmente (101, 102) in Richtung der jeweiligen Oberflächennormalen von einer fiktiven, vorgegebenen Sollfläche in jedem Punkt auf den Spiegelsegmenten kleiner ist als λ/10, wobei λ die Arbeitswellenlänge bezeichnet.
摘要翻译：本发明涉及一种用于调节微光刻投射曝光设备的水平的方法。根据本发明的一个方面，根据本发明的方法包括以下步骤：在第一反射镜部段（101）接收之间干涉的第一部分反射波和上基准表面（110，310，510）所反射的参考波，接收第二部分在第二反射镜部段（102）之间的干涉反射的参考表面上的波和一个（110，310，510）所反射的参考波，检测相位的第一干涉和第二部分干涉，并且第一反射镜区段的调整之间的偏移量（101 ）和这样确定的第二反射镜部段（102），以彼此的相位的偏移量的基础上，在各表面法线在上反射镜区段的每个点的虚构预定目标区域的方向上的相应的反射镜部分（101，102）的距离小于λ/ 10 其中bezeλ为工作波长 ichnet。

8. 发明申请

WO2020164786A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES TESTOBJEKTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2020164786A1
公开(公告)日：2020-08-20
申请号：PCT/EP2019/086881
申请日：2019-12-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , JENNEWEIN, Holger
发明人： HETZLER, Jochen , JENNEWEIN, Holger
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/02 , G01M11/02
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts weist eine Prüfanordnung (130, 230) zur Bestimmung der Oberflächenform eines Test- objekts (111, 112, 113, 211, 212, 213) unter Verwendung einer Prüfwelle, wo- bei die Prüfwelle eine durch Beugung an einem diffraktiven optischen Element erzeugte Wellenfront aufweist, eine erste Vakuumkammer (110, 210) und eine zweite Vakuumkammer (120, 220) auf, wobei die zweite Vakuumkammer (120, 220) ein Magazin zur Lagerung von wenigstens zwei diffraktiven optischen Elementen (121, 122, 123, 221, 222, 223) aufweist.

9. 发明申请

WO2016128234A1 PRÜFVORRICHTUNG SOWIE VERFAHREN ZUM PRÜFEN EINES SPIEGELS 审中-公开
标题翻译：测试仪和检验方法一面镜子
公开(公告)号：WO2016128234A1
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：PCT/EP2016/051957
申请日：2016-01-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , STIEPAN, Hans-Michael , HETZLER, Jochen , FUCHS, Sebastian
发明人： STIEPAN, Hans-Michael , HETZLER, Jochen , FUCHS, Sebastian
IPC分类号： G01M11/02 , G01B9/021 , G03F7/20
CPC分类号： G01M11/005 , G01B9/02038 , G01B9/02085 , G01B9/021 , G01M11/0271 , G03F7/706
摘要： Die Erfindung betrifft eine Prüfvorrichtung sowie ein Verfahren zum Prüfen eines Spiegels, insbesondere eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Prüfvorrichtung ein Computer-generiertes Hologramm (CGH) aufweist und wobei eine Prüfung zumindest einer Teilfläche des Spiegels durch interferometrische Überlagerung einer von diesem Computer-generierten Hologramm auf den Spiegel gelenkten Prüfwelle und einer Referenzwelle durchführbar ist. Hierbei ist das Computer-generierte Hologramm (CGH) (120, 320) derart ausgelegt, dass es im Betrieb der Vorrichtung eine erste Prüfwelle zur Prüfung einer ersten Teilfläche des Spiegels (101, 301) durch interferometrische Überlagerung mit einer Referenzwelle in einer ersten Position des Spiegels (101, 301) und wenigstens eine zweite Prüfwelle zur Prüfung einer zweiten Teilfläche des Spiegels (101, 301) durch interferometrische Überlagerung mit einer Referenzwelle in einer zweiten Position des Spiegels (101, 301) bereitstellt.
摘要翻译：本发明涉及一种测试装置和用于测试反射镜，尤其是一种微光刻投射曝光设备的反射镜，其中，所述测试仪包括一个计算机生成的全息图（CGH）的方法，并且其中，从该生成的计算机检查至少所述反射镜的部分区域通过的干涉叠加全息图可在反射镜引导的测试波和参考波来进行。这里，计算机生成的全息图（CGH）（120，320）被设计成使得在该装置的操作的第一测试波到反射镜（101，301）通过与参考波干涉叠加的第一部分表面的试验中的第一位置镜（101，301）和至少一个第二测试波在反射镜（101，301）提供的第二位置与参考波通过干涉叠加测试镜（101，301）的第二区域。

10. 发明申请

WO2009152959A1 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY COMPRISING A DEVICE FOR THE THERMAL MANIPULATION OF AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：包含用于光学元件的热处理的器件的半导体光刻机的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009152959A1
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：PCT/EP2009/004006
申请日：2009-06-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HAUF, Markus , BLEIDISTEL, Sascha , MIGURA, Sascha , MANN, Hans-Juergen , ENKISCH, Hartmut , ZELLNER, Johannes , SCHOTTNER, Michael , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , DODOC, Aurelian , HETZLER, Jochen , BEIERL, Helmut , ULRICH, Wilhelm
发明人： HAUF, Markus , BLEIDISTEL, Sascha , MIGURA, Sascha , MANN, Hans-Juergen , ENKISCH, Hartmut , ZELLNER, Johannes , SCHOTTNER, Michael , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , DODOC, Aurelian , HETZLER, Jochen , BEIERL, Helmut , ULRICH, Wilhelm
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70266
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus (16) for semiconductor lithography comprising a device for the thermal manipulation of an optical element (1,100), wherein the optical element (1,100) has a front side (2) for the reflection of electromagnetic radiation and a rear side (3,103), and wherein thermal actuators (4) for influencing the optical properties of the optical element (1,100) are present, which act on the optical element (1,100) from the rear side (3,103) thereof.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置（16），包括用于光学元件（1,100）的热操纵的装置，其中光学元件（1,100）具有用于反射电磁辐射的前侧（2）后侧（3,103），并且其中存在用于影响光学元件（1,100）的光学特性的热致动器（4），其从其后侧（3,103）作用在光学元件（1,100）上。

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