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1. 发明申请

WO2012041461A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻曝光法
公开(公告)号：WO2012041461A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004750
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
发明人： HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for exposing a substrate (20) comprises a projection objective (18) and an optical measuring apparatus (40) for determining a surface topography of the substrate (20) before the latter is exposed. The measuring apparatus (40) has a measuring beam path which extends outside of the projection objective (18), and is configured as a wavefront measuring apparatus, which is configured to determine topography measurement values simultaneously at a number of points on the substrate surface (21).
摘要翻译：用于微曝光曝光衬底（20）的投影曝光工具（10）包括投影物镜（18）和用于确定衬底（20）的表面形貌的光学测量装置（40）在后者暴露之前。测量设备（40）具有延伸到投影物镜（18）外部的测量光束路径，并且被配置为波前测量设备，该波前测量设备被配置为同时在基板表面上的多个点处确定地形测量值 21）。

2. 发明申请

WO2020064223A1 METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING THE HEATING STATE OF AN OPTICAL ELEMENT IN A MICROLITHOGRAPHIC OPTICAL SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2020064223A1
公开(公告)日：2020-04-02
申请号：PCT/EP2019/072210
申请日：2019-08-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WOLF, Alexander , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , ZOTT, Andy
发明人： WOLF, Alexander , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , ZOTT, Andy
IPC分类号： G03F7/20 , G01K11/00 , G02B7/18
摘要： The invention relates to a method and an apparatus for determining the heating state of an optical element in a microlithographic optical system, wherein the method includes the following steps: producing, using a light source (303), a first partial beam (310) that is transmitted through the optical element (200, 300) and a second partial beam (320) that is not transmitted through the optical element, and determining the heating state of the optical element on the basis of a measurement of the time-of-flight difference between the first partial beam and the second partial beam, wherein the first partial beam (310) and the second partial beam (320) are reflected at different faces of the optical element (200, 300).

3. 发明申请

WO2021078421A1 ASSEMBLY IN AN OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2021078421A1
公开(公告)日：2021-04-29
申请号：PCT/EP2020/072485
申请日：2020-08-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf , WOLF, Alexander
发明人： HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20 , G01N27/02 , G02B7/18 , G01R27/22
摘要： The invention relates to an assembly in an optical system, in particular of a micro- lithographic projection exposure apparatus, comprising at least one optical element, at least one cooling channel through which can flow a cooling fluid (103, 303) for cooling said optical element during the operation of the optical system, and at least one corrosion detector (110, 310) for detecting an existing or imminent corrosion on the basis of the determination of at least one measurement variable indicating a corrosion-dictated change in state of the cooling fluid (103, 303).

4. 发明申请

WO2021073821A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2021073821A1
公开(公告)日：2021-04-22
申请号：PCT/EP2020/075737
申请日：2020-09-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SIEGLER, Steffen , RUOFF, Johannes , WOLF, Alexander , CARL, Michael , GRUNER, Toralf , SCHICKETANZ, Thomas
发明人： SIEGLER, Steffen , RUOFF, Johannes , WOLF, Alexander , CARL, Michael , GRUNER, Toralf , SCHICKETANZ, Thomas
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/24 , G01M11/00 , G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Durchführen, in einer interferometrischen Prüfanordnung, wenigstens einer ersten Interferogramm-Messung an dem optischen Element durch Überlagerung einer durch Beugung elektromagnetischer Strahlung an einem diffraktiven Element erzeugten und an dem optischen Element reflektierten Prüfwelle mit einer nicht an dem optischen Element reflektierten Referenzwelle, Durchführen wenigstens einer weiteren Interferogramm-Messung an jeweils einem Kalibrierspiegel zur Ermittlung von Kalibrierkorrekturen, und Bestimmen der Passe des optischen Elements basierend auf der an dem optischen Element durchgeführten ersten Interferogramm-Messung und der ermittelten Kalibrierkorrekturen. Dabei werden für den wenigstens einen Kalibrierspiegel wenigstens zwei Interferogramm-Messungen durchgeführt, welche sich hinsichtlich des Polarisationszustandes der elektromagnetischen Strahlung voneinander unterscheiden.

5. 发明申请

WO2022096171A1 HEATING AN OPTICAL ELEMENT OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022096171A1
公开(公告)日：2022-05-12
申请号：PCT/EP2021/073240
申请日：2021-08-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WOLF, Alexander , GRUNER, Toralf
发明人： WOLF, Alexander , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18
摘要： The invention relates to an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus, and to a method for heating an optical element in an optical system. According to one aspect, an optical system according to the invention comprises an optical element (450) and at least one heating unit (100, 200) for heating said optical element by applying electromagnetic radiation to the optical element, wherein the heating unit comprises as part of an optical collimator (110, 310) and/or as part of a telescope (130, 140, 230, 430), at least one mirror having a non-plane optical effective surface.

6. 发明申请

WO2019233685A1 COMPUTER-GENERIERTES HOLOGRAMM (CGH), SOWIE VERFAHREN ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2019233685A1
公开(公告)日：2019-12-12
申请号：PCT/EP2019/061533
申请日：2019-05-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , WOLF, Alexander
发明人： HETZLER, Jochen , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/02 , G01M11/00 , G01M11/02 , G01B11/24 , G03H1/22
摘要： Die Erfindung betrifft ein Computer-generiertes Hologramm (CGH) sowie ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements. Gemäß einem Aspekt weist ein CGH einen wenigstens eine Nutzstruktur (A) aufweisenden ersten Bereich (121, 321, 421) und einen von diesem ersten Bereich (121, 321, 421) räumlich separierten zweiten Bereich (122, 322, 422) auf, wobei dieser zweite Bereich einen Kontrollbereich zur Detektion einer sich auf dem CGH (120, 320, 420, 520) ausbildenden Kontamination bildet.

7. 发明申请

WO2012163794A1 IMAGING OPTICAL UNIT 审中-公开
标题翻译：成像光学单元
公开(公告)号：WO2012163794A1
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/EP2012/059697
申请日：2012-05-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WOLF, Alexander
发明人： WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0647 , G02B17/0663 , G02B27/0081 , G03F7/70058 , G03F7/70275
摘要： An imaging optical unit (50) serves for imaging an object field (4) into an image field (8). An imaging beam path (AS) between the object field (4) and the image field (8) is subdivided into a plurality of partial imaging beam paths (TAS). The imaging optical unit (50) is embodied such that the partial imaging beam paths (TAS) run between the object field (4) and the image field (8) in a manner completely separated from one another and guided by optical components (Ml to M6) of the imaging optical unit (50), that is to say that nowhere in the beam path between the object field (4) and the image field (8) do the partial imaging beam paths (TAS) impinge on identical regions of beam-guiding surfaces (20) of the imaging optical unit (50). This results in an imaging optical unit in which a resolution capabil¬ ity, particularly in the production of micro- or nanostructured semiconduc- tor components, is increased.
摘要翻译：成像光学单元（50）用于将物场（4）成像为图像场（8）。对象场（4）和图像场（8）之间的成像光束路径（AS）被细分为多个部分成像光束路径（TAS）。成像光学单元（50）被实施为使得部分成像光束路径（TAS）以完全彼此分离的方式在物场（4）和图像场（8）之间延伸并由光学部件（M1至成像光学单元（50）的M6），也就是说在物场（4）和图像场（8）之间的光束路径中的任何地方都不进行部分成像光束路径（TAS）照射在相同的光束区域 - 成像光学单元（50）的导向表面（20）。这导致成像光学单元，其中分辨率能力，特别是在微结构或纳米结构的半导体组件的生产中增加。

8. 发明申请

WO2021259545A1 HEIZANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HEIZEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2021259545A1
公开(公告)日：2021-12-30
申请号：PCT/EP2021/062044
申请日：2021-05-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BAERWINKEL, Mark , RABA, Andreas , WOLF, Alexander
发明人： BAERWINKEL, Mark , RABA, Andreas , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18 , G02B7/00 , G02B7/008 , G02B7/1815 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine Heizanordnung und ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Eine erfindungsgemäße Heizanordnung weist wenigstens eine Strahlungsquelle zur Beaufschlagung eines optischen Elements mit IR-Strahlung, wenigstens eine Strahlformungseinheit zur Strahlformung der von der Strahlungsquelle auf das optische Element gelenkten IR-Strahlung, eine optische Komponente (110, 210, 310, 410, 510, 610), welche wenigstens einen Strahlteiler (112, 212, 312, 412, 512, 612) aufweist, und eine Sensoranordnung auf, welche einen ersten Intensitätssensor (115, 215, 315, 415, 515, 615) zur Erfassung der Intensität eines von diesem Strahlteiler (112, 212, 312, 412, 512, 612) ausgekoppelten Teilstrahls (205, 305, 405, 505, 605) und wenigstens einen weiteren Intensitätssensor (516, 616) zur Erfassung der Intensität eines in der optischen Komponente (510, 610) ausgekoppelten weiteren Teilstrahls (506, 606) aufweist.

9. 发明申请

WO2019057803A1 IMAGING OPTICAL UNIT FOR IMAGING AN OBJECT FIELD INTO AN IMAGE FIELD 审中-公开
公开(公告)号：WO2019057803A1
公开(公告)日：2019-03-28
申请号：PCT/EP2018/075420
申请日：2018-09-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RUOFF, Johannes , BEDER, Susanne , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , WOLF, Alexander
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
摘要： An imaging optical unit (7) serves for imaging an object field (4) into an image field (8). Here, a plurality of mirrors (M1 to M10) serve to guide imaging light (3) along an imaging beam path. The plurality of mirrors (M1 to M10) comprise a number of mirrors (M2 to M8) for grazing incidence (GI mirrors), which deflect a chief ray (16) of a central object field point with an angle of incidence of more than 45°. At least two of the GI mirrors (M2 to M8) are arranged in the imaging beam path as basic GI mirrors (M2 to M7) in such a way that the deflection effect thereof adds up for the chief ray. At least one further GI mirror (M2 to M8) is arranged in the imaging beam path as a counter GI mirror (M8) in such a way that the deflection effect thereof acts in subtractive fashion for the chief ray (16) in relation to the deflection effect of the basic GI mirrors (M2 to M7). This results in an imaging optical unit, the arrangement flexibility of which in relation to an installation space claimed by mirror bodies of the mirrors of the imaging optical unit is increased.

10. 发明申请

WO2013075923A1 CORRECTING AN INTENSITY OF AN ILLUMINATION BEAM 审中-公开
标题翻译：校正照明光束的强度
公开(公告)号：WO2013075923A1
公开(公告)日：2013-05-30
申请号：PCT/EP2012/071675
申请日：2012-11-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WOLF, Alexander , BITTNER, Boris , GÖHNERMEIER, Aksel , SCHNEIDER, Sonja
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70091 , G03F7/70191
摘要： A correction device (23) serves for influencing an intensity of a beam (3) of illumination light of an illumination system of a projection exposure apparatus. The correction device (23) comprises an ejection device (26) comprising at least one ejection channel (27) for attenuating bodies (28) which are attenuating for the illumination light. A collecting device (32) serves for collecting the ejected attenuating bodies (28). The ejection device (26) and the collecting device (32) are designed and arranged for the passage of the illumination light beam (3) through a trajectory (38) of the attenuating bodies (28) between the ejection device (26) and the collecting device (32). A control device (30), which is signal-connected (31) to the ejection device (26), serves for predefining ejection instants for ejecting in each case at least one attenuating body (28) from the at least one ejection channel (27). The result is a correction device for influencing the intensity of an illumination light beam which makes possible better spatial influencing in comparison with the known correction devices.
摘要翻译：校正装置（23）用于影响投影曝光装置的照明系统的照明光束（3）的强度。校正装置（23）包括喷射装置（26），该喷射装置（26）包括至少一个用于对照明光衰减的衰减体（28）的喷射通道（27）。收集装置（32）用于收集所弹出的衰减体（28）。喷射装置（26）和收集装置（32）被设计和布置成使得照明光束（3）经过喷射装置（26）和喷射装置（26）之间的衰减体（28）的轨迹（38）收集装置（32）。向喷射装置（26）信号连接（31）的控制装置（30）用于预先限定用于在每种情况下从至少一个排出通道（27）至少一个衰减体（28）喷射的喷射时刻）。结果是用于影响照明光束的强度的校正装置，其与已知的校正装置相比可以更好地进行空间影响。

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