专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2003077011A1 OPTICAL SYSTEM WITH BIREFRINGENT OPTICAL ELEMENTS 审中-公开
标题翻译：具有双重光学元件的光学系统
公开(公告)号：WO2003077011A1
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2002/012446
申请日：2002-11-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , DITTMAN, Olaf , TOTZECK, Michael , DIECKMANN, Nils , KÖHLER, Jess , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel
发明人： FIOLKA, Damian , DITTMAN, Olaf , TOTZECK, Michael , DIECKMANN, Nils , KÖHLER, Jess , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel
IPC分类号： G02B27/28
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G02B27/286 , G02B27/288 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/70241 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： Optical system (1) : with a first optical subsystem (3) comprising at least a first birefringent optical element (7), with a second optical subsystem (5) comprising at least a second birefringent optical element (9), wherein between the first optical subsystem and the second optical subsystem an optical retarding system (13) with at least a first optical retarding element (15) is arranged, which introduces a ratardation of one-half of a wavelength between two mutually orthogonal states of polarization.
摘要翻译：光学系统（1）：具有包括至少第一双折射光学元件（7）的第一光学子系统（3），其中第二光学子系统（5）包括至少第二双折射光学元件（9），其中在第一光学子系统和第二光学子系统，布置有至少具有第一光学延迟元件（15）的光学延迟系统（13），其引入在两个相互正交的极化状态之间的波长的一半的估计。

2. 发明申请

WO2007144193A1 PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：WO2007144193A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/EP2007/005297
申请日：2007-06-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , CLAUSS, Wilfried , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , DITTMANN, Olaf
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , CLAUSS, Wilfried , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , DITTMANN, Olaf
IPC分类号： G02B27/00 , G03F7/20 , G02B5/30
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B5/3091 , G02B27/0025 , G03F7/70308
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus has a high index refractive optical element (L3) with an index of refraction greater than 1.6. This element (L3) has a volume and a material related optical property which varies over the volume. Variations of this optical property cause an aberration of the objective. In one embodiment at least 4 optical surfaces are provided that are arranged in at least one volume (L3') which is optically conjugate with the volume of the refractive optical element. Each optical surface comprises at least one correction means, for example a surface deformation or a birefringent layer with locally varying properties, which at least partially corrects the aberration caused by the variation of the optical property.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的投影物镜具有折射率大于1.6的高折射率折射光学元件（L3）。该元件（L3）具有在体积上变化的体积和材料相关的光学性质。该光学特性的变化导致物镜的像差。在一个实施例中，提供至少4个光学表面，其布置在与折射光学元件的体积光学共轭的至少一个体积（L3'）中。每个光学表面包括至少一个校正装置，例如具有局部变化特性的表面变形或双折射层，其至少部分地校正由光学性质的变化引起的像差。

3. 发明申请

WO2008119794A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是照明设备或投影微波投影曝光装置的目标
公开(公告)号：WO2008119794A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/EP2008/053847
申请日：2008-03-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
发明人： TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a polarization compensator (100, 200, 300, 400, 800, 900), which has at least one polarization-modifying partial element (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), and a manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), by means of which the position of the at least one partial element can be altered, wherein, in the optical system, at least one operating mode (501-504) can be set in which the intensity, over a region which belongs to a plane perpendicular to the optical axis (OA) and which can be illuminated with light from said light source, does not exceed 20% of the maximum intensity in said plane, and wherein the manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) is arranged in said region.
摘要翻译：本发明涉及光学系统，特别是微光刻投影曝光装置的照明装置或投影物镜，该光学装置或投影物镜包括极化补偿器（100,200,300,400,800,900），其具有至少一个偏振修正部分元件（110-140,210-240,310-340,410-440,810-840,910-940）和操纵器（150,250,722,851-854,951a-954a，951b-954b），借助于此可以改变至少一个部分元件的位置，其中在光学系统中，可以设置至少一个操作模式（501-504），其中强度在属于垂直于光轴（OA）的并且可以用来自所述光源的光照射的平面不超过所述平面中最大强度的20％，并且其中所述操纵器（150,250,722,851-854,951a -954a，951b-954b）布置在所述区域中。

4. 发明申请

WO2006111319A3 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING A MICRO-STRUCTURED STRUCTURAL MEMBER BY THE AID OF SUCH A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND POLARIZATION-OPTICAL ELEMENT ADAPTED FOR USE IN SUCH A SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2006111319A3
公开(公告)日：2006-10-26
申请号：PCT/EP2006/003401
申请日：2006-04-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Juergen , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , DITTMANN, Olaf , TOTZECK, Michael
发明人： MANN, Hans-Juergen , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , DITTMANN, Olaf , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20
摘要： The invention relates to a projection exposure system, in particular for micro-lithography. The projection exposure system according to the invention comprises a light source (18) for producing light in the EUV region. The projection exposure system further comprises a first optical system (19, 20, 21, 22, 23, 24) for illuminating a mask (25) by the light of the light source (18) and a second optical system (26, 27, 28, 29, 30, 31) for imaging the mask (25) on a component (32). At least one polarization-optical element (1) is disposed on the beam path between the light source (18) and the component (32).

5. 发明申请

WO2006089919A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR OBJECTIVE OR ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是用于微波投影曝光装置的目标或照明系统
公开(公告)号：WO2006089919A1
公开(公告)日：2006-08-31
申请号：PCT/EP2006/060196
申请日：2006-02-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf
发明人： TOTZECK, Michael , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B5/30 , G03F7/20
CPC分类号： G02B1/02 , G02B1/08 , G02B5/3083 , G02B13/143 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an objective or an illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus, which in particular also permits the use of crystal materials with a high refractive index while reducing the influence of intrinsic birefringence on the imaging properties. In particular the invention relates to an optical system having at least two lens groups (10-60) with lenses of intrinsically birefringent material, wherein the lens groups (10-60) respectively comprise a first subgroup with lenses in a (lOO)-orientation and a second subgroup with lenses in (lll)-orientation, and wherein the lenses of each subgroup are arranged rotated relative to each other about their lens axes.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光装置的光学系统，特别是物镜或照明系统，其特别地还允许使用具有高折射率的晶体材料，同时减少本征双折射对成像性能的影响。特别地，本发明涉及一种具有至少两个具有本征双折射材料透镜的透镜组（10-60）的光学系统，其中透镜组（10-60）分别包括具有（100）取向的透镜的第一子组以及具有（III）取向的透镜的第二子组，并且其中每个子组的透镜相对于彼此围绕其透镜轴线旋转。

6. 发明申请

WO2004023172A1 OPTIMIERVERFAHREN FÜR EIN OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN SOWIE OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
标题翻译：优化方法用氟晶镜头和镜头用氟晶镜头镜头
公开(公告)号：WO2004023172A1
公开(公告)日：2004-03-18
申请号：PCT/EP2003/009167
申请日：2003-08-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
发明人： TOTZECK, Michael , KAMENOV, Vladimir , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B1/08 , G02B1/02 , G02B5/3083 , G02B13/143 , G03F7/70241 , G03F7/705 , G03F7/70966 , Y10S359/90
摘要： Numerisches Optimierverfahren zum Bestimmen der optischen Daten eines Objektivs (1), insbesondere eines Projektionsobjektivs für eine Milcrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage, wobei mit dem Optimierverfahren eine Optimierfunkction minimiert wird. Mit dem Optimierverfahren wird der störende Einfluss der intrinsischen Doppelbrechung von Linsen (L101-L130) aus Fluorid-Kristall-Material mit kubischer Kristallstruktur reduziert, indem in der Optimierfunktion mindestens ein Doppelbrechungs-Bildfehler berücksichtigt wird, welcher basierend auf der Durchrechnung eines Strahls (7) durch die Fluorid-Kristall-Linsen bestimmt wird und welcher, soweit er von Parametern des Strahls abhängt, nur von geometrischen Parametern des Strahls abhängt. Mit dem numerischen Optimierverfahren werden Objektive (1) hergestellt, bei welchen sowohl eine optische Verzögerung als auch eine optische Verzögerungs-Asymmetrie korrigiert ist. Die Objektive weisen dabei mehrere homogene Gruppen (HG1-HG7) auf, in welchen jeweils die optische Verzögerungs-Asymmetrie korrigiert ist.
摘要翻译：用于确定目标（1）的光学数据，尤其是投影物镜用于Milcrolithographie-投影曝光装置，其特征在于，一个Optimierfunkction被最小化与所述优化方法数值优化方法。与优化方法的氟化物晶体材料制成的透镜（L101-L130）的固有双折射的干扰影响被至少一个双折射图像误差具有立方晶体结构减少了优化功能，其基于所述跟踪的光束被认为是（7）由氟化物晶体透镜，并且其，只要它依赖于光束的参数，仅依赖于光束的几何参数来确定。与数值优化方法透镜（1）制备，其中两个光延迟和光学延迟不对称校正。在这种情况下，透镜具有更均匀的基团（HG1-HG7），在其中的每一个光学延迟不对称校正。

7. 发明申请

WO2009013230A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的光学系统
公开(公告)号：WO2009013230A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/059435
申请日：2008-07-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MÜLLER, Ralf , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , PAUL, Hans-Jochen
发明人： MÜLLER, Ralf , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , PAUL, Hans-Jochen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G02B5/205 , G02B5/283 , G02B26/001 , G02B26/0825 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus. To permit comparatively flexible and fast influencing of intensity distribution and/or the polarization state, an optical system according to the invention comprises at least one layer system (120, 200) which is at least one-side bounded by a lens or a mirror, wherein said layer system (120, 200) is an interference layer system of several layers and has at least one liquid or gaseous layer portion (123, 220) whose maximum thickness is at a maximum 1 micrometer (μm), and a manipulator (105) for manipulation of the thickness profile of said layer portion (123, 220).
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的光学系统。为了允许强度分布和/或偏振状态的相对灵活和快速的影响，根据本发明的光学系统包括至少一个由透镜或反射镜限定的一个层系统（120,200）其中所述层系统（120,200）是几层的干涉层系统，并且具有至少一个最大厚度最大为1微米（μm）的液体或气体层部分（123,220）和机械手（105）），用于操纵所述层部分（123,220）的厚度分布。

8. 发明申请

WO2008022680A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：照明系统，微光刻投射曝光系统
公开(公告)号：WO2008022680A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/EP2007/006463
申请日：2007-07-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael
发明人： GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , H05H7/04
CPC分类号： G03F7/70566 , B82Y10/00 , G03F7/70008 , G21K2201/061 , H05G2/00
摘要： Ein Beleuchtungssystem (6) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (1) hat eine EUV-Lichtquelle (7), die einen Ausgabestrahl (13) linear polarisierten EUV-Beleuchtungslichts erzeugt. Eine Beleuchtungsoptik (24, 25, 31, 37) führt den Ausgabestrahl (13) längs einer optischen Achse (20), wodurch ein Beleuchtungsfeld in einer Retikelebene (2) mit dem Ausgabestrahl (13) beleuchtet wird. Eine mindestens die EUV-Lichtquelle (7) umfassende Beleuchtungs-Untereinheit (7) des Beleuchtungssystems (6) hat eine Polarisations-Einstelleinrichtung (15, 18) zur Vorgabe einer definierten Polarisation des EUV-Ausgabestrahls (13) der Beleuchtungs-Untereinheit (7). Es resultiert ein Beleuchtungssystem, das flexibel an Polarisationsanforderungen der Anlage sowie der auf das Substrat bzw. den Wafer zu projizierenden Struktur angepasst werden kann.
摘要翻译：用于微光刻投射曝光设备（1）的照明系统（6）生成（7），其具有输出光束（13）的线偏振光EUV照明光的EUV光源。的照明光学部件（24，25，31，37）开沿着光轴（20），由此在掩模母版平面（2）的照明场由所述输出光束（13）照射的输出光束（13）。至少所述EUV光源（7）包括照射子单元（7）的照明系统（6）具有用于设置一个限定的照明子单元的EUV发射光束（13）的偏振的偏振调整装置（15，18）（7），结果是该系统的偏振要求的照明系统，并且可以被适配为在基板或晶片结构要投影灵活。

9. 发明申请

WO2005031467A2 MICROLITHOGRAPHIC ILLUMINATION METHOD AS WELL AS A PROJECTION ILLUMINATION SYSTEM FOR CARRYING OUT THE METHOD 审中-公开
标题翻译：作为执行方法的投影照明系统的微观照明方法
公开(公告)号：WO2005031467A2
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/EP2003/011977
申请日：2003-10-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , WANGLER, Johannes , BROTSACK, Markus , DIECKMANN, Nils , GOEHNERMEIER, Aksel , SCHWAB, Markus
发明人： GRUNER, Toralf , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , WANGLER, Johannes , BROTSACK, Markus , DIECKMANN, Nils , GOEHNERMEIER, Aksel , SCHWAB, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70108 , G03F7/70225 , G03F7/70308
摘要： In an illumination method for illuminating a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection illumination system for performing that method output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. By means of a variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.
摘要翻译：在用于照射布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及在用于执行该方法的投影照明系统中的基板的照明方法中，产生了朝向基板并具有输出偏振状态的输出辐射。借助于至少一个偏振操纵装置借助于输出偏振状态的可变调节，可以形成输出偏振状态以接近标称输出偏振状态。可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

10. 发明申请

WO2009043790A2 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：微压印技术的投影目标
公开(公告)号：WO2009043790A2
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/EP2008/062835
申请日：2008-09-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEIERL, Helmut , FELDMANN, Heiko , HETZLER, Jochen , TOTZECK, Michael
发明人： BEIERL, Helmut , FELDMANN, Heiko , HETZLER, Jochen , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B1/02 , G02B21/33 , G03F7/70941
摘要： An assembly 11 of a projection objective for microlithography comprises a number of optical elements and an aperture 14. The optical element of the assembly 11 before the last optical element oriented towards the image is a planar convex lens 12, whose convex surface 2b is oriented towards the object, and whose planar surface 2a is oriented towards the image. As a last optical element of the assembly 11 oriented towards the image, an optical terminal element 17 is provided which comprises a planar plate 19. Between the planar surface 2b of the lens 12 and the planar plate 19 of the optical terminal element 17, thus at the object oriented surface of the planar plate, and also on the image oriented surface of the planar plate of the terminal element 17 a respective immersion liquid 13b or 13a is provided. The planar plate is thus in contact with the immersion liquids 13a and 13b on both sides. By this configuration it is assured that contaminations within the immersion liquid 13a disposed on the image oriented side do not impair the planar convex lens 12. Replacing the terminal element 17 or the planar plate 19 of the terminal element 17, however, is easily possible, as soon as their imaging properties become insufficient through contamination or other impairments.
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜的组件11包括多个光学元件和孔14.在朝向图像定向的最后一个光学元件之前的组件11的光学元件是平面凸透镜12 ，其凸面2b朝向物体取向，并且其平面表面2a朝向图像取向。作为朝向图像定向的组件11的最后一个光学元件，提供包括平面板19的光学终端元件17.因此，在透镜12的平面表面2b和光学终端元件17的平面平板19之间在平面板的物体定向表面上以及在终端元件17的平面板的图像定向表面上提供相应的浸没液体13b或13a。因此平面板在两侧与浸液13a和13b接触。通过这种配置，可以确保设置在图像取向侧的浸液13a内的污染不会损害平面凸透镜12.然而，更换端子元件17或端子元件17的平板19是容易的，只要其成像特性因污染或其他损伤而变得不足。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式