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1. 发明申请

WO2007144193A1 PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：WO2007144193A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/EP2007/005297
申请日：2007-06-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , CLAUSS, Wilfried , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , DITTMANN, Olaf
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , CLAUSS, Wilfried , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , DITTMANN, Olaf
IPC分类号： G02B27/00 , G03F7/20 , G02B5/30
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B5/3091 , G02B27/0025 , G03F7/70308
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus has a high index refractive optical element (L3) with an index of refraction greater than 1.6. This element (L3) has a volume and a material related optical property which varies over the volume. Variations of this optical property cause an aberration of the objective. In one embodiment at least 4 optical surfaces are provided that are arranged in at least one volume (L3') which is optically conjugate with the volume of the refractive optical element. Each optical surface comprises at least one correction means, for example a surface deformation or a birefringent layer with locally varying properties, which at least partially corrects the aberration caused by the variation of the optical property.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的投影物镜具有折射率大于1.6的高折射率折射光学元件（L3）。该元件（L3）具有在体积上变化的体积和材料相关的光学性质。该光学特性的变化导致物镜的像差。在一个实施例中，提供至少4个光学表面，其布置在与折射光学元件的体积光学共轭的至少一个体积（L3'）中。每个光学表面包括至少一个校正装置，例如具有局部变化特性的表面变形或双折射层，其至少部分地校正由光学性质的变化引起的像差。

2. 发明申请

WO2005059654A1 OBJECTIVE AS A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE WITH AT LEAST ONE LIQUID LENS 审中-公开
标题翻译：目标为具有至少一个液晶镜头的微观图像投影
公开(公告)号：WO2005059654A1
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/014219
申请日：2004-12-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SHAFER, David , BEDER, Susanne , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： SHAFER, David , BEDER, Susanne , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B3/12 , G02B17/0812 , G02B17/0856 , G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an objective designed as a microlithography projection objective for an operating wavelength. The objective has a greatest adjustable image-side numerical aperture NA, at least one first lens made from a solid transparent body, in particular glass or crystal, with a refractive index n L and at least one liquid lens (F) made from a transparent liquid, with a refractive index NF. At the operating wavelength the first lens has the greatest refractive index n L of all solid lenses of the objective, the refractive index n F of the at least one liquid lens (F) is bigger than the refractive index n L of the first lens and the value of the numerical aperture NA is bigger than 1.
摘要翻译：本发明涉及被设计为用于工作波长的微光刻投射物镜的物镜。目标具有最大的可调节图像侧数值孔径NA，至少一个由固体透明体，特别是玻璃或晶体制成的具有折射率nL的至少一个第一透镜和由透明液体制成的至少一个液体透镜（F），具有折射率NF。在工作波长处，第一透镜的物镜的所有实心透镜的折射率nL最大，至少一个液体透镜（F）的折射率nF大于第一透镜的折射率nL，数值孔径NA大于1。

3. 发明申请

WO2006133801A1 PROJECTION OBJECTIVE HAVING A HIGH APERTURE AND A PLANAR END SURFACE 审中-公开
标题翻译：具有高孔径和平面端面的投影目标
公开(公告)号：WO2006133801A1
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：PCT/EP2006/005079
申请日：2006-05-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0892 , B82Y10/00 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70958
摘要： A projection objective for imaging a pattern provided in an object plane (OP) of the projection objective onto an image plane (IP) of the projection objective suitable for microlithography projection exposure machines has a plurality of optical elements transparent for radiation at an operating wavelength of the projection objective. At least one optical element (LOEl, L0E2) is a high-index optical element made from a high-index material with a refractive index n >= 1.6 at the operating wavelength.
摘要翻译：用于将设置在投影物镜的物平面（OP）中的图案成像到适用于微光刻投影曝光机的投影物镜的像平面（IP）上的投影物镜具有多个透光的光学元件，投影目标。至少一个光学元件（LOE1，L0E2）是在工作波长处由折射率n> = 1.6的高折射率材料制成的高折射率光学元件。

4. 发明申请

WO2005059618A3 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE WITH CRYSTAL LENS 审中-公开
公开(公告)号：WO2005059618A3
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/014290
申请日：2004-12-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz , CLAUSS, Wilfried
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , CLAUSS, Wilfried
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Very high aperture microlithography projection objectives operating at the wavelengths of 248 nm, 193 nm and also 157 nm, suitable for optical immersion or near-field operation with aperture values that can exceed 1.4 are made feasible with crystalline lenses and crystalline end plates P of NaCl, KCl, KI, RbI, CsI, and MgO, YAG with refractive indices up to and above 2.0. These crystalline lenses and end plates are placed between the system aperture stop AS and the wafer W, preferably as the last lenses on the image side of the objective.

5. 发明申请

WO2005059653A3 POLARISATIONSOPTISCH WIRKSAME VERZÖGERUNGSANORDNUNG FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE DER MIKROLITHOGRAFIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2005059653A3
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/EP2004/012707
申请日：2004-11-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Birgit , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： TOTZECK, Michael , ENKISCH, Birgit , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Verzögerungsanordnung (50) zur Umwandlung eines von einer Eingangsseite der Verzögerungsanordnung auftreffenden Eingangsstrahlungsbündels in ein Ausgangsst rahlungsbündel, welches über seinen Querschnitt eine durch die Verzögerungsanord nung beeinflussbare räumliche Verteilung von Polarisationszuständen aufweist, die sich von der räumlichen Verteilung von Polarisationszuständen der Eingangsstrahlung unterscheidet, ist als reflektive Verzögerungsanordnung ausgebildet. Ein Nutzquerschnitt der Verzögerungsanordnung hat eine Vielzahl von Verzögerungsberei chen unterschiedlicher Verzögerungswirkung. Eine solche Spiegelanordnung mit ort sabhängig variierender Verzögerungswirkung kann zur Kompensation von unerwünschten Schwankungen des Polarisationszustandes über den Querschnitt eines Eingangsst rahlungsbündels und/oder zur Einstellug bestimmter Ausgansplarisationszustände g enutzt werden,Eine Verzögerungsanordnung zur Umwandlung eines von einer Eingangs seite der Verzögerungsanordnung auftreffenden Eingangsstrahlungsbündels in ein Ausgangsstrahlungsbündel, welches über seinen Querschnitt eine durch die Verzöger ungsanordnung beeinflussbare räumliche Verteilung von Polarisationszuständen . a weist, die sich von der räumlichen Verteilung von Polarisationszuständen der Ein gangsstrahlung unterscheidet, ist als reflektive Verzögerungsanordnung ausgebild et. Ein Nutzquerschnitt der Verzögerungsanordnung hat eine Vielzahl von Verzöger ungsbereichen unterschiedlicher Verzögerungswirkung. Eine solche Spiegelanordnung mit ortsabhängig variierender Verzögerungswirkung kann zur Kompensation von un erwünschten Schwankungen des Polarisationszustandes über den Querschnitt eines Eingangsstrahlungsbündels und/oder zur Einstellug bestimmter Ausgansplarisationszustände genutzt werden, z.B. zur Einstellung von radialer oder tangentialer Polarisation.

6. 发明申请

WO2007025643A1 HIGH-NA PROJECTION OBJECTIVE WITH ASPHERIC LENS SURFACES 审中-公开
标题翻译：高分辨率投影目标与多孔透镜表面
公开(公告)号：WO2007025643A1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/007963
申请日：2006-08-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70225 , G03F7/70275
摘要： A projection objective for imaging a pattern provided in an object surface onto an image surface of the projection objective has an object-side imaging subsystem for creating a final intermediate image closest to the image surface from radiation coming from the object surface and an image-side imaging subsystem for directly imaging the final intermediate image onto the image surface. The the image-side imaging subsystem includes at least one aspheric primary correcting lens having an aspheric primary correcting surface. The object-side imaging subsystem includes a secondary correcting group having at least one secondary correcting lens having an aspheric secondary correcting surface. Conditions involving maximum incidence angles and subaperture offsets at the correcting surfaces are given which should be observed to obtain sufficient aberration correction at very high image-side numerical apertures NA.
摘要翻译：用于将设置在物体表面中的图案成像到投影物镜的图像表面上的投影物镜具有物体侧成像子系统，用于从来自物体表面的辐射产生最靠近图像表面的最终中间图像，并且图像侧成像子系统，用于将最终中间图像直接成像到图像表面上。图像侧成像子系统包括具有非球面主要校正表面的至少一个非球面初级校正透镜。物体侧成像子系统包括具有至少一个具有非球面二次校正表面的次校正透镜的次校正组。给出了在校正表面上涉及最大入射角和子孔径偏移的条件，应该观察这些条件以在非常高的像侧数值孔径NA处获得足够的像差校正。

7. 发明申请

WO2005033800A1 LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT MINDESTENS EINEM SOLCHEN LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光刻镜头和投影曝光系统与至少一个该光刻镜头
公开(公告)号：WO2005033800A1
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/EP2004/007753
申请日：2004-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70241
摘要： Ein optisches Abbildungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage dient zur Abbildung eines in einer Objekt-ebene des Abbildungssystems angeordneten Objektfeldes in ein in einer Bildebene des Abbildungssystems angeordnetes Bildfeld. Es kann sich insbesondere um ein Projektionsobjektiv oder um ein im Beleuchtungs-system einzusetzendes Relais-Objektiv handeln. Das Abbildungssystem hat eine Vielzahl von Linsen, die zwischen der Objektebene und der Bildebene angeordnet sind und jeweils eine erste Linsenfläche und eine zweite Linsenfläche aufweisen. Mindestens eine der Linsen ist eine Doppelasphärenlinse, bei der die erste Linsenfläche und die zweite Lin-senfläche eine asphärische Fläche ist. Bei Doppelasphärenlinsen ist es möglich, mit vertretbarem Aufwand bei der Oberflächenbearbeitung und Prüfung der Linsenoberflächen Linsen mit guter Qualität herzustellen, die die Wirkung einer Asphäre mit sehr starker Deformation haben.
摘要翻译：一种用于微光刻投射曝光设备的成像光学系统被用于成像放置在成像系统的物平面中布置在所述成像系统的图像场的图像平面中的物场的对象。它可以是在特定的投影透镜或在照明系统中继透镜被分配。该成像系统具有多个被布置在物平面和像平面，并且每个具有第一透镜表面和第二透镜表面之间的透镜。至少所述透镜中的一个是一个Doppelasphärenlinse，其中，所述第一透镜表面和第二透镜表面是非球面表面。在Doppelasphärenlinsen它可以使在表面处理和透镜的测试以合理的成本与具有非球面表面的具有非常强的变形的效果良好的品质的透镜面。

8. 发明申请

WO2005024474A1 PHASE DELAY ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING A PHASE DELAY ELEMENT 审中-公开
标题翻译：相延迟元件和生产相延迟元件的方法
公开(公告)号：WO2005024474A1
公开(公告)日：2005-03-17
申请号：PCT/EP2003/013214
申请日：2003-11-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz , REICHEL, Wolfram , STASCHKE, Dietmar
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz , REICHEL, Wolfram , STASCHKE, Dietmar
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3083
摘要： In a method for producing a zeroth- or low-order phase delay element, in particular a phase delay element for wavelengths χ
摘要翻译：在用于产生零级或低阶相位延迟元件的方法中，特别是用于波长chi <200nm的相位延迟元件，相位延迟元件由双重晶体材料形成。制造临时承载板（1），其设置有平面加工侧（3）。之后，制造各向异性的水晶板（2），然后借助于连接装置/连接层（6）将临时载板（1）连接到各向异性晶体板（2）。然后除了残留层之外，大部分各向异性晶体板（2）被分离，之后通过进一步的生产和抛光方法达到各向异性晶体板（2）的端部厚度。通过生产和抛光方法生产的第二个最终承载板（8）直接连接到各向异性晶体板（2），之后最终将临时载体板（1）从各向异性晶体分离或分离板（2）。

9. 发明申请

WO2007020004A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV UND VERFAHREN ZUR OPTIMIERUNG EINER SYSTEMBLENDE EINES PROJEKTIONSOBJEKTIVS 审中-公开
标题翻译：物镜和方法优化面板的投影透镜系统的
公开(公告)号：WO2007020004A1
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：PCT/EP2006/007904
申请日：2006-08-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/0812 , G03F7/70091 , G03F7/70191 , G03F7/70216
摘要： Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv (7), insbesondere für eine Mikrolithographie-Belichtungsanlage, zur Abbildung eines Objektfelds (5) in einer Objektebene (4) auf ein Bildfeld (9) in einer Bildebene (8). Das Projektionsobjektiv (7) weist eine Systemblende (1 1) und refraktive und/oder reflektive optische Elemente auf, die relativ zu einer optischen Systemachse (10) angeordnet sind. Der Flächenschwerpunkt des Bildfeldes (5) ist in einem lateralen Abstand zur optischen Systemachse (10) angeordnet. Die Systemblende (1 1) weist einen inneren Blendenrand (15) auf, der eine Blendenöffnung (14) umschließt und dessen Form durch eine Berandungskurve definiert ist. Die Berandungskurve verläuft wenigstens bereichsweise außerhalb einer Ebene, die senkrecht zur optischen Systemachse (10) aufgespannt ist.
摘要翻译：本发明涉及的投射物镜（7），特别是一种用于在图像平面（8）上的像场（9）中的物平面（4）成像的物场（5）的微光刻曝光设备。投影透镜（7）具有一个系统隔膜（1：1）和折射和/或反射光学元件，其相对于被布置于系统光轴（10）。像场（5）的质心被设置在从光学系统轴线（10）的横向距离。该系统隔膜（11）具有内孔边缘（15）包围的开口（14），并且其形状由一个边界曲线限定。边界曲线是至少部分地由外平面垂直于系统光轴（10）夹紧。

10. 发明申请

WO2003098349A3 ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2003098349A3
公开(公告)日：2003-11-27
申请号：PCT/EP2003/004971
申请日：2003-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WIETZORREK, Jochen , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes , ANTONI, Martin , SCHULTZ, Jörg , DINGER, Udo , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： WIETZORREK, Jochen , HAINZ, Joachim , SINGER, Wolfgang , WANGLER, Johannes , ANTONI, Martin , SCHULTZ, Jörg , DINGER, Udo , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
摘要： There is provided an illumination system for scannertype microlithography along a scanning direction with a light source emitting a wavelength ≤ 193 nm. The illumination system includes a plurality of raster elements (5). The plurality of raster elements is imaged into an image plane (9) of the illumination system to produce a plurality of images being partially superimposed on a field in the image plane. The field defines a non-rectangular intensity profile in the scanning direction.

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