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    • 5. 发明申请
    • 単結晶製造装置及び単結晶製造方法
    • 单晶制造装置和单晶制造方法
    • WO2012098826A1
    • 2012-07-26
    • PCT/JP2012/000050
    • 2012-01-06
    • 信越半導体株式会社菅原 孝世松本 克島田 聡郎星 亮二
    • 菅原 孝世松本 克島田 聡郎星 亮二
    • C30B15/00C30B29/06
    • C30B15/14C30B29/06Y10T117/1068
    •  本発明は、原料融液を収容するルツボ、前記原料融液を加熱するヒーター、冷却媒体によって強制冷却される冷却筒及びこれらを収容する冷却チャンバーを有する単結晶製造装置であって、前記原料融液と引上げ中の単結晶との界面近傍において、前記引上げ中の単結晶を囲繞するように、断熱材を有する遮熱部材が配置され、該遮熱部材の上方に、前記引上げ中の単結晶を囲繞するように前記冷却筒が配置され、該冷却筒を囲繞するように、前記冷却筒外周との間に空隙を設けて冷却筒外周断熱材が配置されたものであることを特徴とする単結晶製造装置である。これにより、融液表面における固化や有転位化を生じさせることなく冷却筒の冷却能力を向上させ、無欠陥の単結晶製造時における引上げ速度を高速度とし、それによって単結晶の生産性及び歩留まりを向上させ、かつ消費電力を抑制することができる単結晶の製造装置及び製造方法を提供する。
    • 本发明是一种单晶体制造装置,其具有用于容纳原料熔体的坩埚,用于加热原料熔体的加热器,由冷却介质强制冷却的冷却管,以及用于容纳冷却介质的冷却室, 其特征在于,具有绝热材料的阻热构件设置在原料熔体和经受向上拉动的单晶之间的界面附近,以包围单个经历向上拉动的单晶; 冷却管设置在隔热构件的上方,以便围绕被上升的单晶; 并且冷却管外周绝热材料设置在冷却管周围,从冷却管的外周设置间隔。 从而提供了一种单晶制造装置和制造方法,其能够提高单晶的生产率和产率,并且通过改善冷却管的冷却能力而不会在熔体表面上发生凝固或错位而使功率消耗最小化,并且通过增加 在制造无缺陷单晶时的向上拉速度。
    • 6. 发明申请
    • 半導体単結晶の製造装置及び製造方法
    • 用于制造半导体单晶的装置和方法
    • WO2012026062A1
    • 2012-03-01
    • PCT/JP2011/003866
    • 2011-07-06
    • 信越半導体株式会社高島 祥宮原 祐一岩崎 淳三田村 伸晃園川 将
    • 高島 祥宮原 祐一岩崎 淳三田村 伸晃園川 将
    • C30B29/06C30B15/00
    • C30B15/14C30B15/30C30B29/06Y10T117/1068
    •  本発明は、育成炉本体の内部に、ルツボと、該ルツボの周囲に配置された加熱ヒータとを具備する半導体単結晶の製造装置であって、前記育成炉本体内の前記加熱ヒータの周囲に保温筒が配置されており、該保温筒は内側面に上部と下部とを分ける段差部を有し、前記下部の内径が前記上部の内径よりも大きいものであり、前記育成炉本体内において前記加熱ヒータの下方かつ前記保温筒の下部の内側に断熱板が配置されており、該断熱板の外径が、前記保温筒の上部の内径よりも大きく、かつ前記保温筒の下部の内径よりも小さいものである半導体単結晶の製造装置である。これにより、原料融液を収容するルツボ周囲の保温効果を高め、かつルツボの外側に配置された加熱ヒータの発熱量(すなわち消費電力)を抑制しても、半導体単結晶の成長速度の高速化と品質の安定化を十分に図ることができる半導体単結晶の製造装置が提供される。
    • 该制造半导体单晶的装置在生长炉主体中设置有坩埚和设置在坩埚周围的加热器。 保温筒设置在生长炉主体中的加热器的周围,保温筒在内表面具有台阶,所述台阶将圆筒分隔成上部和下部,内径为 下部比上部大。 在生长炉主体中,隔热板设置在保温筒的下部的内侧,内侧位于加热器的下方,绝热板的外径大于内侧 保温筒的上部的直径小于保温筒的下部的内径。 因此,提供了半导体单晶的制造装置,所述装置在包含原料熔融物的坩埚周围具有改善的保温效果,并且充分实现半导体单晶的高生长速度和稳定的质量,即使量 通过设置在坩埚外部的加热器产生的热量(即消耗电力)被抑制。
    • 7. 发明申请
    • 単結晶製造用上部ヒーターおよび単結晶製造装置ならびに単結晶製造方法
    • 上一级制造单晶,单晶制造装置和单晶制造方法
    • WO2010064354A1
    • 2010-06-10
    • PCT/JP2009/005234
    • 2009-10-08
    • 信越半導体株式会社高野清隆
    • 高野清隆
    • C30B15/14C30B29/06H05B3/14H05B3/64
    • C30B29/06C30B15/14Y10T117/10Y10T117/1016Y10T117/1024Y10T117/1032Y10T117/1068
    •  本発明は、少なくとも、電流が供給される電極と、抵抗加熱による発熱部とが設けられ、チョクラルスキー法により単結晶を製造する際に用いられるシリコン融液を収容するルツボを囲繞するように配置される黒鉛ヒーターの上部に配置される上部ヒーターであって、発熱部は、リング状でルツボを囲繞するように配置され、発熱部の内側および外側から、それぞれ水平方向にスリットが形成されたものであることを特徴とする単結晶製造用上部ヒーターである。これにより、単結晶の結晶欠陥を効率的に制御することができる単結晶製造用上部ヒーター、および、その単結晶製造用上部ヒーターを用いて、結晶欠陥を効率的に制御し、また、酸素濃度の制御性を向上して、高品質の単結晶を製造する単結晶製造装置および単結晶製造方法が提供される。
    • 提供了一种上加热器,其至少设置有供给电流的电极和使用电阻加热的发热部,并且布置在石墨加热器的上部,该石墨加热器被布置成围绕包含硅熔体的坩埚 用于使用Czochralski法制造单晶。 用于制造单晶的上加热器的特征在于,发热部分围绕坩埚布置成环形,并且具有从发热部分的内侧和外侧沿水平方向形成的狭缝。 因此,通过使用上加热器有效地控制晶体缺陷,可以有效地控制单晶的晶体缺陷的单晶的上加热器,单晶制造装置和用于制造高质量单晶的单晶制造方法 并提供氧浓度的可控性。