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1. 发明申请

WO2015151680A1 プラズマＣＶＤ成膜装置审中-公开
标题翻译：等离子体CVD膜形成装置
公开(公告)号：WO2015151680A1
公开(公告)日：2015-10-08
申请号：PCT/JP2015/055835
申请日：2015-02-27
申请人：株式会社神戸製鋼所
发明人：沖本　忠雄 , 瀬川　利規 , 黒川　好徳
IPC分类号： C23C16/509 , C23C16/54 , H05H1/46
CPC分类号： C23C16/509 , C23C16/545 , H01J37/32091 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32669 , H01J37/3277 , H05H1/48 , H05H1/50 , H05H2001/485
摘要：　成膜ローラの軸方向についての成膜が行われる範囲において基材が巻き掛けられていない部分において異常放電の発生を防止するプラズマＣＶＤ成膜装置を提供する。　プラズマＣＶＤ成膜装置１０は、真空チャンバ１と、帯状の基材が当該成膜ローラ２の外周面のうちの周方向の一部に巻き掛けられる金属製の成膜ローラ２と、成膜ローラ２の内部に配置され、成膜ローラ２の外周面のうちの基材が巻き掛けられる部分の外側に磁場を生成する磁場生成部３と、成膜ローラ２に接続され、磁場の領域内にプラズマを生成するための交流電圧を当該成膜ローラ２に印加する電源４と、成膜ローラ２の外周面のうちの基材Ａが巻き掛けられる部分２ａに対して当該成膜ローラ２の回転軸を挟んで反対側に位置する部分であって当該基材Ａに接触していない部分２ｂを覆うカバー９とを備えている。
摘要翻译：提供了一种等离子体CVD膜形成装置，用于防止在成膜辊的轴向上形成膜的区域中不包裹基板的部分发生异常放电。等离子体CVD膜形成装置（10）装备有：真空室（1）; 金属成膜辊（2），其具有在圆周方向上缠绕在其外周面的一部分上的带状基材; 用于在所述成膜辊（2）的外周面的外侧产生磁场的磁场产生单元（3），所述磁场产生单元（3）围绕所述基板被包裹并位于所述成膜辊（2）的内部， ; 用于向成膜辊（2）施加用于在磁场区域内产生等离子体的AC电压并连接到成膜辊（2）的电源（4）。以及用于覆盖成膜辊（2）的外周面的部分（2b）的盖（9），其不与基板（A）接触，并且与所述部分（2a）相对定位，衬底（A）被包裹，其中成膜辊（2）的旋转轴线插入其间。

2. 发明申请

WO2013045304A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BEEINFLUSSUNG VON OBERFLÄCHENEIGENSCHAFTEN VON KUNSTSTOFFFILMEN ODER METALLFOLIEN 审中-公开
标题翻译：方法和设备，用于影响塑料薄膜或金属膜的表面性质
公开(公告)号：WO2013045304A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/EP2012/068236
申请日：2012-09-17
申请人： SOFTAL Corona & Plasma GmbH
发明人： ARLT, Gerhard , FÖRSTER, Frank
IPC分类号： B29C59/10 , B29C59/14 , H01T19/00 , H05H1/00 , B29C55/12
CPC分类号： B29C59/10 , B29C59/14 , H01T19/00 , H05H1/46 , H05H2001/485
摘要： Um ein Verfahren zur Beeinflussung von Oberflächeneigenschaften von Metallfolien und Kunststofffilmen, dahingehend zu verbessern, dass es bei einer Vereinfachung des apparativen Aufbaus ein ebenfalls gutes Behandlungsergebnis liefert und zudem vielseitig einsetzbar ist, wird vorgeschlagen, dass die Oberfläche der Folie bzw. des Films auf wenigstens einer Seite einer örtlich im Wesentlichen zusammenfallenden, gleichzeitig stattfindenden Plasma- und Coronabehandlung unterzogen wird. Gegenstand der Erfindung ist ferner eine Vorrichtung zur Beeinflussung von Oberflächeneigenschaften von Oberflächen von Metallfolien und Kunststofffilmen durch gleichzeitige Plasma- und Coronabehandlung, mit wenigstens einer in einem Gehäuse (2) angeordneten Plasmadüse (1) zum Erzeugen und gerichteten Ausblasens eines Plasmastroms (6) durch einen Düsenaustritt, einer dem Düsenaustritt gegenüberliegenden Gegenelektrode (4) und mit einem Hochspannungsgenerator zu Erzeugen einer Wechselspannung im Hochspannungsbereich, wobei der Hochspannungsgenerator mit seinen Ausgängen zum Erzeugen einer Potentialdifferenz einerseits mit dem Gehäuse (2) und andererseits mit der Gegenelektrode (4) verbunden ist.
摘要翻译：为了，为了改善用于影响的金属箔和塑料膜表面性质的方法的效果是，它提供了在装置结构的简化，同等良好的治疗效果，并且还通用的，它提出，膜或上的至少一个所述膜的表面局部大致一致，同时等离子体和电晕处理的面进行。本发明涉及一种设备，用于在壳体中影响的金属箔和塑料膜通过同时等离子体和电晕处理的表面的表面特性，具有至少一个（2），设置等离子体喷嘴（1），用于产生并引导吹等离子流（6）的特征还在于一个喷嘴出口，相反侧喷嘴出口反电极的（4），并与用于产生在高电压范围内的交流电压的高电压发生器，表示与它的输出，用于产生在一方面的电势差，以在所述壳体（2）和，另一方面，以（4）连接在对电极的高电压发生器。

3. 发明申请

WO2011095930A1 MACHINE AND METHOD FOR ATMOSPHERIC PLASMA TREATMENT OF CONTINUOUS SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：大气等离子体处理连续基板的机器和方法
公开(公告)号：WO2011095930A1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：PCT/IB2011/050417
申请日：2011-01-31
申请人： ME.RO S.R.L. , VENETO NANOTECH S.C.P.A. , KULYK, Illya
发明人： KULYK, Illya
IPC分类号： B01J19/08 , D06M10/02
CPC分类号： B01J19/088 , B01J2219/0809 , B01J2219/0818 , B01J2219/083 , B01J2219/0879 , B01J2219/0896 , B05D3/141 , B05D3/148 , B29C59/14 , C23C16/50 , D06B19/00 , D06M10/025 , H01J37/3277 , H01J37/32825 , H05H1/48 , H05H2001/485
摘要： A machine for atmospheric plasma treatment of continuous material substrates comprises means (6) for feeding a substrate (3) for moving it along a feed path (A); at least two electrodes (4) each positioned at one face (5) of the substrate (3), each electrode (4) facing a respective face (5) of the substrate (3), a difference in electric potential being applicable across the electrodes (4) for generating an electric discharge; the feed means (6) comprising at least one first roller (7) and one second roller (8), the first roller (7) and the second roller (8) coinciding with respective electrodes (4) and each acting on a respective face (5) of the substrate (3).
摘要翻译：用于连续材料基板的大气等离子体处理的机器包括用于馈送用于沿进给路径（A）移动的基板（3）的装置（6）; 每个位于衬底（3）的一个面（5）处的至少两个电极（4），每个电极（4）面对衬底（3）的相应面（5），电位差可应用于所述衬底用于产生放电的电极（4）所述进给装置（6）包括至少一个第一辊（7）和一个第二辊（8），所述第一辊（7）和所述第二辊（8）与相应的电极（4）重合并且各自作用在相应的面（3）的上表面（5）。

4. 发明申请

WO2014167520A1 GENERATOR DEVICE OF COLD PLASMA AND RELATED METHOD FOR PRODUCING CHEMICAL SUBSTANCES 审中-公开
标题翻译：冷等离子发生器装置及生产化学物质的相关方法
公开(公告)号：WO2014167520A1
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：PCT/IB2014/060609
申请日：2014-04-10
申请人： VIVEX ENGINEERING LTD
发明人： MANGO, Aldo
IPC分类号： H05H1/48
CPC分类号： B01J19/088 , B01J2219/0809 , B01J2219/0837 , B01J2219/0869 , B01J2219/0875 , B01J2219/0894 , H05H1/48 , H05H2001/485
摘要： The present invention relates to a device for generating cold plasma to be used in the process chemical industry, in particular for producing chemical substances, above all acids such as for example nitric acid and sulphuric acid. The invention also relates to reactors and plants involving said cold plasma generator device and to corresponding chemical processes based thereupon. The device and the associated method of the present invention allow producing with high efficiency several chemical substances, in particular acids. The invention also keeps the several advantages of using the cold plasma technology, in particular the one of not requiring catalysts and/or high reaction temperatures.
摘要翻译：本发明涉及一种生产用于工艺化学工业的冷等离子体的装置，特别是用于生产化学物质，尤其是所有的酸例如硝酸和硫酸。本发明还涉及涉及所述冷等离子体发生器装置的反应器和设备以及基于此的相应的化学过程。本发明的装置和相关方法允许以高效率生产几种化学物质，特别是酸。本发明还保持了使用冷等离子体技术的几个优点，特别是不需要催化剂和/或高反应温度的技术。

5. 发明申请

WO2014046003A1 イオン注入装置审中-公开
标题翻译：离子植入装置
公开(公告)号：WO2014046003A1
公开(公告)日：2014-03-27
申请号：PCT/JP2013/074675
申请日：2013-09-12
申请人：リンテック株式会社
发明人：永縄　智史 , 後藤　大輔 , 剱持　卓
IPC分类号： C23C14/48 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/3171 , C23C14/48 , C23C14/562 , H01J37/32 , H01J37/32412 , H01J37/3244 , H01J37/3277 , H01J2237/006 , H01J2237/18 , H01J2237/31701 , H05H1/46 , H05H2001/485
摘要：　イオン注入装置は、真空チャンバ１１と、フィルム３が外周部の一部に巻き付けられる電極ロール１３と、電極ロールに電圧を印加する電圧印加手段２３と、真空チャンバ内にイオン注入ガスを導入するためのガス吹出口を有するガス導入部を備え、ガス導入部と排気口が、電極ロールの軸方向において、電極ロールを挟んで対向して設けられている。
摘要翻译：一种离子注入装置，其具有真空室（11），在其外周部分的一部分卷绕有薄膜（3）的部分上的电极辊（13），向所述真空室施加电压的电压施加装置（23）电极辊和气体引入单元，其具有用于将离子注入气体引入到真空室中的气体吹出口，其中气体导入单元和排气口在电极辊的轴向上相对设置，电极在它们之间滚动。

6. 发明申请

WO2011111558A1 フィルム表面処理装置审中-公开
标题翻译：电影表面处理设备
公开(公告)号：WO2011111558A1
公开(公告)日：2011-09-15
申请号：PCT/JP2011/054497
申请日：2011-02-28
申请人：積水化学工業株式会社 , 中野良憲 , 野上光秀 , 川崎真一 , 佐藤崇 , 松崎純一
发明人：中野　良憲 , 野上　光秀 , 川崎　真一 , 佐藤　崇 , 松崎　純一
IPC分类号： C08J7/00 , G02B1/12 , G02B5/30 , H05H1/24
CPC分类号： B29D11/00634 , G02B5/3033 , H05H1/48 , H05H2001/485
摘要：　重合性モノマーを反応成分として偏光板用保護フィルム等の被処理フィルムをプラズマ処理する際、電極等の汚れを防止しつつ、接着性等の処理効果を高める。　第１ロール電極１１及び第２ロール電極１２に被処理フィルム９を掛け回す。電極１１，１２を回転させ、被処理フィルム９を電極１１から電極１２へ搬送する。反応ガスノズル３１を、第１ロール電極１１の周方向に沿って電極１１，１２間の放電空間１４から電極回転方向の上流側に離して、第１ロール電極１１と対向するよう配置する。好ましくは、第１ロール電極１１に遮蔽部材４０を被せる。ノズル３１から重合性モノマーを含有する反応ガスを吹き出す。　第１、第２ロール電極１１，１２どうしの間における被処理フィルム９の折り返し部分９ａの内側に放電生成ガスノズル２１を配置する。放電生成ガスノズル２１から重合性モノマーを含有しない放電生成ガスを放電空間１４に向けて吹き出す。
摘要翻译：公开了一种膜表面处理装置，其防止了使用可聚合单体作为反应性成分等将待处理的膜等保护性偏光膜进行等离子体处理时的电极等的污染，提高了处理对粘合性等的影响。待处理的薄膜（9）卷绕在第一辊电极（11）和第二辊电极（12）上。电极（11,12）旋转，被处理膜（9）从电极（11）输送到电极（12）。沿着第一辊电极（11）的圆周方向，沿着旋转方向与电极（11,12）之间的放电空间（14）的上游侧远离反应气体（31）的喷嘴，面向第一辊电极（11）。第一辊电极（11）优选地被屏蔽件（40）覆盖。从喷嘴（31）喷射含有可聚合单体的反应气体。排出产物气体喷嘴（21）设置在位于第一和第二辊电极（11,12）之间的用于待处理膜（9）的转动区域（9a）内。将不含有可聚合单体的放电产物气体从放电产物气体喷嘴（21）喷射到放电空间（14）。

7. 发明申请

WO2010077138A1 APPARATUS AND METHOD FOR TREATING AN OBJECT 审中-公开
标题翻译：用于处理对象的装置和方法
公开(公告)号：WO2010077138A1
公开(公告)日：2010-07-08
申请号：PCT/NL2009/050810
申请日：2009-12-29
申请人： NEDERLANDSE ORGANISATIE VOOR TOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO , SIMOR, Marcel , BLOM, Paul, Petrus, Maria
发明人： SIMOR, Marcel , BLOM, Paul, Petrus, Maria
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/485
摘要： The invention relates to an apparatus for treating an object using a plasma process. The apparatus comprises a plasma reactor including a metal cylinder covered by a dielectric layer. Further, the apparatus comprises an electrode structure arranged radially outside the metal cylinder for generating the plasma process. The apparatus also comprises a supporting structure for locating the object to be treated at a pre-defined distance from the plasma reactor.
摘要翻译：本发明涉及一种使用等离子体工艺处理物体的装置。该装置包括等离子体反应器，其包括被电介质层覆盖的金属圆柱体。此外，该装置包括在金属圆筒的径向外侧布置的用于产生等离子体工艺的电极结构。该设备还包括用于以等离子体反应器预定距离定位被处理物体的支撑结构。

8. 发明申请

WO2009148305A1 METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA SURFACE TREATMENT OF MOVING SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：用于移动基板的等离子体表面处理的方法和装置
公开(公告)号：WO2009148305A1
公开(公告)日：2009-12-10
申请号：PCT/NL2009/050073
申请日：2009-02-19
申请人： FUJIFILM MANUFACTURING EUROPE B.V. , KORNGOLD, Bruno Alexander , DE VRIES, Hindrik Willem , ALDEA, Eugen
发明人： KORNGOLD, Bruno Alexander , DE VRIES, Hindrik Willem , ALDEA, Eugen
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/24 , B29C59/10
CPC分类号： H01J37/32825 , B29C59/14 , B29C2059/145 , H01J37/32009 , H01J37/32366 , H01J37/32532 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/485 , H05H2240/10
摘要： Method and apparatus for treatment of a substrate surface (1) using an atmospheric pressure plasma. The method comprises providing an atmospheric pressure plasma in a treatment space (5) between a first electrode (2) and a second electrode (3), providing a substrate (1) in contact with the first electrode (2) in the treatment space (5), and applying a plasma generating power to the first and second electrode (2, 3). The first electrode (2) has a predefined structure of insulating areas (7) and conductive areas (8) for plasma treatment of surface areas of the substrate (1) corresponding to the areas in contact with the conductive areas (8) of the first electrode (2).
摘要翻译：使用大气压等离子体处理衬底表面（1）的方法和设备。该方法包括在第一电极（2）和第二电极（3）之间的处理空间（5）中提供大气压等离子体，提供在治疗空间（1）中与第一电极（2）接触的基底（1） 5），以及将等离子体产生电力施加到第一和第二电极（2,3）。第一电极（2）具有预定结构的绝缘区域（7）和导电区域（8），用于等离子体处理基板（1）的表面区域，对应于与第一电极（1）的导电区域（8）接触的区域电极（2）。

9. 发明申请

WO2006134123A3 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING LARGE ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMAS 审中-公开
标题翻译：方法和设备产生了大量FLAT常压等离子体
公开(公告)号：WO2006134123A3
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/EP2006063190
申请日：2006-06-14
申请人： SIEMENS AG , HAMMER THOMAS , HARTMANN WERNER , ROEMHELD MICHAEL
发明人： HAMMER THOMAS , HARTMANN WERNER , ROEMHELD MICHAEL
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： H05H1/48 , H05H2001/485 , H05H2001/488
摘要： The invention relates to a method for producing large atmospheric pressure plasmas, wherein a DC-corona discharge is produced. Said DC-corona discharge is superimposed with intensive, short high-voltage impulses having an impulse repetition rate of between 10 Hz to more kHz. The invention also relates to an associated device for carrying out said method, which comprises a unit (1 - 5) which is used to produce a base direct current voltage and an impulse voltage which superimposes the direct current voltage, in addition to a mechanical arrangement which comprises at least two electrodes (10, 20, 30).
摘要翻译：为了制造大型大气压等离子体的德克·科罗纳放电产生和DC电晕放电被叠加以数kHz几个10Hz之间以脉冲重复率密集，短的高电压脉冲。在用于执行所述方法的相关装置是用于产生一个基本直流电压和直流电压叠加的脉冲电压存在，并且进一步在至少两个电极（10，20，30）的机械结构的单元（1〜5）。

10. 发明申请

WO2015119199A1 管状体内にプラズマを発生させる発生装置审中-公开
标题翻译：用于在管形体中产生等离子体的生成装置
公开(公告)号：WO2015119199A1
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：PCT/JP2015/053252
申请日：2015-02-05
申请人：国立大学法人東京工業大学
发明人：大竹　尚登 , 井上　雅貴
IPC分类号： C23C16/27 , H05H1/24
CPC分类号： H05H1/48 , C23C16/045 , C23C16/26 , C23C16/515 , H05H2001/485
摘要：　本発明は、円管等の管状体の長さに影響されることなく，長尺の円管内面にもDLCの成膜が可能となり、様々な径，アスペクト比の管状体内面へのDLC成膜がバッチ処理で可能となるプラズマ発生装置を提供する。　管状体；管状体の中空部分に挿入された金属電極；管状体の中空部分に原料を導入するための原料導入口；ならびにパルス電圧を印加するためのナノパルス電源；を備え、管状体は陰極を形成し、そして金属電極は陽極を形成してなる、ことを特徴とする管状体内にプラズマを発生させる発生装置。
摘要翻译：本发明提供一种等离子体产生装置，其能够通过间歇法在具有各种直径和纵横比的管状体的内表面上进行DLC沉积，并且能够在长圆形管的内表面上执行DLC沉积而没有受到具有圆管形状等的管状体的长度的影响。用于在管状体中产生等离子体的发生装置的特征在于具有：管状体; 插入所述管状体的内部空间部的金属电极; 原料插入孔，用于将原料插入到管状体的内部空间部分中; 以及用于施加脉冲电压的纳米脉冲电源，形成阴极的管状体和形成阳极的金属电极。

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