基本信息:
- 专利标题： フィルム表面処理装置
- 专利标题（英）：Film surface treatment device
- 专利标题（中）：电影表面处理设备
- 申请号：PCT/JP2011/054497 申请日：2011-02-28
- 公开(公告)号：WO2011111558A1 公开(公告)日：2011-09-15
- 发明人： 中野 良憲 , 野上 光秀 , 川崎 真一 , 佐藤 崇 , 松崎 純一
- 申请人： 積水化学工業株式会社 , 中野 良憲 , 野上 光秀 , 川崎 真一 , 佐藤 崇 , 松崎 純一
- 申请人地址： 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 Osaka JP
- 专利权人： 積水化学工業株式会社,中野 良憲,野上 光秀,川崎 真一,佐藤 崇,松崎 純一
- 当前专利权人： 積水化学工業株式会社,中野 良憲,野上 光秀,川崎 真一,佐藤 崇,松崎 純一
- 当前专利权人地址： 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満２丁目４番４号 Osaka JP
- 代理机构： 渡辺 昇
- 优先权： JP2010-051472 20100309
- 主分类号： C08J7/00
- IPC分类号： C08J7/00 ; G02B1/12 ; G02B5/30 ; H05H1/24
摘要：
重合性モノマーを反応成分として偏光板用保護フィルム等の被処理フィルムをプラズマ処理する際、電極等の汚れを防止しつつ、接着性等の処理効果を高める。 第１ロール電極１１及び第２ロール電極１２に被処理フィルム９を掛け回す。電極１１，１２を回転させ、被処理フィルム９を電極１１から電極１２へ搬送する。反応ガスノズル３１を、第１ロール電極１１の周方向に沿って電極１１，１２間の放電空間１４から電極回転方向の上流側に離して、第１ロール電極１１と対向するよう配置する。好ましくは、第１ロール電極１１に遮蔽部材４０を被せる。ノズル３１から重合性モノマーを含有する反応ガスを吹き出す。 第１、第２ロール電極１１，１２どうしの間における被処理フィルム９の折り返し部分９ａの内側に放電生成ガスノズル２１を配置する。放電生成ガスノズル２１から重合性モノマーを含有しない放電生成ガスを放電空間１４に向けて吹き出す。
摘要（中）：
公开了一种膜表面处理装置，其防止了使用可聚合单体作为反应性成分等将待处理的膜等保护性偏光膜进行等离子体处理时的电极等的污染，提高了处理对粘合性等的影响 。 待处理的薄膜（9）卷绕在第一辊电极（11）和第二辊电极（12）上。 电极（11,12）旋转，被处理膜（9）从电极（11）输送到电极（12）。 沿着第一辊电极（11）的圆周方向，沿着旋转方向与电极（11,12）之间的放电空间（14）的上游侧远离反应气体（31）的喷嘴，面向 第一辊电极（11）。 第一辊电极（11）优选地被屏蔽件（40）覆盖。 从喷嘴（31）喷射含有可聚合单体的反应气体。 排出产物气体喷嘴（21）设置在位于第一和第二辊电极（11,12）之间的用于待处理膜（9）的转动区域（9a）内。 将不含有可聚合单体的放电产物气体从放电产物气体喷嘴（21）喷射到放电空间（14）。