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    • 1. 发明申请
    • 세리아 함유 폐연마재의 재생 방법
    • 用于再生含有含有抛光剂的方法
    • WO2014042431A1
    • 2014-03-20
    • PCT/KR2013/008222
    • 2013-09-11
    • 주식회사 엘지화학
    • 곽익순조승범노준석김종필
    • B24B57/00B24C11/00
    • B24B57/00
    • 본 발명은 세리아 함유 폐연마재에 포함된 불순물을 효과적으로 제거하면서, 세척 공정을 포함한 재생 공정을 효율화할 수 있으며, 세척 공정 중의 세리아 함유 연마재의 재응집을 억제할 수 있는 세리아 함유 폐연마재의 재생 방법에 관한 것이다. 상기 세리아 함유 폐연마재의 재생 방법은 세리아(CeO 2 ) 함유 폐슬러지와, 불소계 화합물을 포함하는 용해제 용액을 혼합하여, 상기 폐슬러지에 포함된 실리카(SiO 2 ) 함유 불순물을 선택적으로 용해시키는 단계; 상기 세리아 함유 폐슬러지를 십자류 여과 시스템(Cross-flow fliltration system)에 통과시키면서 세정하여 상기 실리카(SiO2) 함유 불순물을 선택적으로 제거하는 단계; 및 상기 세정된 세리아 함유 폐슬러지를 건조 및 소성하는 단계를 포함한다.
    • 本发明涉及一种再生废二氧化铈抛光剂的方法,该方法允许再生过程包括清洗工艺,以有效地抑制在清洗过程中含二氧化铈的抛光剂的再凝结,同时有效地 废弃含有二氧化铈的抛光剂中所含的杂质。 用于再生废二氧化铈抛光剂的方法包括以下步骤:将废二氧化铈(CeO 2)的污泥和含氟化合物的溶剂混合,并且选择性地溶解在废污泥中所含的含二氧化硅(SiO 2)的杂质; 通过使废二氧化铈含有污泥通过交叉流过滤系统并选择性地丢弃含二氧化硅(SiO 2)的杂质; 并干燥和烧结经清洁的废二氧化铈污泥。
    • 3. 发明申请
    • METHOD FOR REGENERATING CERIA-BASED ABRASIVE
    • 再生CERIA-BASED ABRASIVE的方法
    • WO2012018175A3
    • 2012-04-12
    • PCT/KR2011004612
    • 2011-06-24
    • RANCO CO LTDKANG WOO KYUKIM WON YEOLSONG YOUNG CHUNHWANG KWANG TAEK
    • KANG WOO KYUKIM WON YEOLSONG YOUNG CHUNHWANG KWANG TAEK
    • B24B57/00B24C9/00C09K3/14
    • C09K3/1454B24B57/00
    • The present invention relates to a method for regenerating a ceria-based abrasive from a polishing waste comprising a ceria-based abrasive, frit glass, a polishing pad and an inorganic coagulant, comprising the following steps: adding a solution of an organic acid which does not form salt by reaction with the ceria-based abrasive, and the polishing waste to a reaction tank and stirring the obtained mixture to convert the inorganic coagulant into ion species by acid treatment with the organic acid and to float the frit glass and the polishing pad;removing the floated frit glass and polishing pad; and washing and drying the obtained product to obtain a ceria-based abrasive, wherein the pH of the organic acid is 0.5-6.0. According to the present invention, it is possible regenerate an environmentally friendly ceria-based abrasive from a polishing waste and to obtain a high purity ceria-based abrasive, and a very high yield.
    • 本发明涉及一种用包含二氧化铈基磨料,玻璃料玻璃,抛光垫和无机凝结剂的抛光废料再生二氧化铈基磨料的方法,该方法包括以下步骤:添加有机酸溶液 不通过与二氧化铈基磨料反应形成盐,并将抛光废料送入反应罐中,搅拌所得混合物,通过用有机酸进行酸处理将无机凝聚剂转化为离子物质,并使玻璃料和抛光垫浮起 ;去除浮动的玻璃料和抛光垫; 洗涤并干燥所得产物以获得二氧化铈基研磨剂,其中有机酸的pH为0.5-6.0。 根据本发明,可以从抛光废料中再生环境友好的二氧化铈基磨料并获得高纯度二氧化铈基磨料,并且产率非常高。
    • 6. 发明申请
    • PROCESS AND APPARATUS FOR TREATING EXHAUSTED ABRASIVE SLURRIES FOR THE RECOVERY OF THEIR REUSABLE COMPONENTS
    • 用于处理可重复使用的部件恢复的废弃磨料流程和装置
    • WO2006137098A1
    • 2006-12-28
    • PCT/IT2006/000461
    • 2006-06-16
    • SIC HOLDING GESCHÄFTSFÜHRUNGS GMBHFRAGIACOMO, Guido
    • FRAGIACOMO, Guido
    • B24B57/00B03B9/06B01D21/00B04C7/00B04B5/10
    • B28D5/007B01D3/00B01D21/0012B01D21/009B01D21/0093B01D21/262B01J39/04B24B55/12B24B57/00Y02P70/179B01J41/04
    • Process for completely recovering the reusable components of an abrasive slurry used in slicing crystalline materials of silicon, quartz or ceramics when it becomes exhausted and enriched with undesired waste matter. The process consists of an initial centrifuge separation of the exhausted slurry as such and of a wet size-sorting treatment of the fraction containing the abrasive grains obtained from the centrifuge, carried out in a battery of hydrocyclones or centrifuges connected in series. The section for the recovery and purification of the abrasive grains comprises a multifunctional apparatus that performs all the required operations within a single pressure vessel. The process enables the complete recovery of the reusable abrasive grains contained in the exhausted slurry as well as of the suspending or cutting liquid of the abrasive slurry, in order to reuse both components in the manufacturing process. The invention also concerns an apparatus for carrying out the treatment of exhausted abrasive slurries according to the process described.
    • 用于在硅,石英或陶瓷的结晶材料切碎并且富含不想要的废物时,用于切割硅晶体材料的磨料浆料的可再利用组分的完全回收的方法。 该方法包括如此进行的排出的浆料的初始离心分离,以及在由串联连接的水力旋流器或离心机的电池中进行的含有从离心机获得的磨料颗粒的级分的湿式尺寸分选处理。 用于回收和净化磨粒的部分包括在单个压力容器内执行所有所需操作的多功能装置。 该方法能够完全回收包含在排出的浆料中的可重复使用的磨料颗粒以及研磨浆料的悬浮或切割液体,以便在制造过程中重新使用两种组分。 本发明还涉及根据所述方法进行处理耗尽的磨料浆料的设备。
    • 8. 发明申请
    • 研磨材の回収方法
    • 用于磨料的恢复方法
    • WO2016147968A1
    • 2016-09-22
    • PCT/JP2016/057293
    • 2016-03-09
    • コニカミノルタ株式会社
    • 乾 智恵前澤 明弘永井 佑樹平山 奈津実
    • B24B57/02B24B37/34
    • B24B57/00B24B37/34B24B57/02
    •  使用済み研磨材を含有する回収スラリーから、簡易な方法で高純度の研磨材を回収することができる研磨材の回収方法を提供する。 本発明の研磨材の回収方法は、ケイ素を主成分として含む被研磨物を研磨した研磨材スラリーから研磨材を回収する研磨材の回収方法であって、pH調整剤を使用しない条件下、少なくとも下記工程1から工程3を経て被研磨物成分を除去し、研磨材を回収することを特徴とする。 工程1:前記研磨材スラリーに溶媒を加える工程 工程2:前記研磨材スラリーに含有されている前記被研磨物成分のうちの被研磨物粒子を溶解する工程 工程3:前記研磨材スラリーを濾過して研磨材を回収する工程
    • 提供了一种用于磨料的回收方法,通过这种方法,可以通过简单的方法从含有使用过的磨料的回收浆料中回收高纯度研磨剂。 用于从研磨含有硅作为主要成分的待抛光对象物所研磨的磨料浆中回收研磨剂的这种回收方法的特征在于去除待抛光的部件并将磨料回收 ,至少在以下步骤1至步骤3中,在不使用pH调节剂的条件下。 步骤1:向研磨浆料中加入溶剂的步骤; 步骤2:将待研磨物体的颗粒从磨料浆料中包含的待抛光成分中溶解的步骤; 步骤3:过滤研磨浆料并回收磨料。
    • 9. 发明申请
    • 比重差のある粒子を分別させる遠心分離装置
    • 分离具有特殊重要性差异的颗粒的分离
    • WO2015198461A1
    • 2015-12-30
    • PCT/JP2014/067093
    • 2014-06-27
    • サイチ工業株式会社不二越機械工業株式会社
    • 松下 一幸中村 由夫
    • B04B7/08B03B5/28B03B5/36B04B1/02B04B11/02B04B11/04B24B57/00
    • B03B5/28B03B5/36B04B1/02B04B7/08B04B11/02B04B11/04B24B57/00
    • 【課題】本発明は、比重の小さい粒子と比重の大きい粒子、例えばSi水和物と砥粒とを分離させるような、比重差のある粒子を分別させる遠心分離装置を提供する。 【解決手段】比重の小さい粒子のSi水和物と比重の大きい粒子の砥粒との混濁液がノズルを介して回転槽1に連続供給され、比重の小さい粒子のSi水和物と比重の大きい粒子の砥粒との混濁液が、遠心力により前記回転槽1の内壁面に沿って上昇し、比重の小さい粒子のSi水和物は比重差により前記回転槽1の内壁面を上昇して回転体フタ2の裏側を通って異形穴からリング5、回転体フタ2の表面を伝わって回転体ホルダー9側へ排出され、比重の大きい粒子の砥粒は比重差により前記回転槽1の内壁面に付着する。
    • 本发明提供一种用于分离比重差异的颗粒的离心机,例如当具有小比重的颗粒和诸如Si水合物和研磨剂的大比重的颗粒被分离时。 [解决方案]通过旋转槽(1)中的喷嘴连续地供给比重小的Si水合物颗粒和比重大的磨料颗粒的混浊溶液,并且将比重小的研磨的Si水合物颗粒的混浊溶液 由于离心力,比重大的颗粒沿旋转罐(1)的内壁面上升。 由于比重差异,比重小的Si水合物颗粒在旋转罐(1)的内壁表面上升高,并且随着环(5)从变形中排出到旋转体保持器(9)侧 通过旋转体盖(2)的后侧和旋转体罩(2)的表面。 由于比重的差异,具有大比重的磨料颗粒粘附到旋转罐(1)的内壁表面。