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1. 发明申请

WO2017167829A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG ROTATIONSSYMMETRISCHER, NICHT ZYLINDRISCHER BOHRUNGEN MIT EINEM HONWERKZEUG UND HONMASCHINE, DIE ZUR KONIFIZIERUNG EINER ZYLINDRISCHEN BOHRUNG AUSGEBILDET UND EINGERICHTET IST 审中-公开
标题翻译： IS METHOD FOR PRODUCING旋转对称的非圆柱形孔，每孔珩磨工具和珩磨机FOR渐缩的圆柱形孔的培训和装备
公开(公告)号：WO2017167829A1
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：PCT/EP2017/057458
申请日：2017-03-29
申请人： GEHRING TECHNOLOGIES GMBH
发明人： LITTY, Klaus , WAGNER, Andreas , WAIBLINGER, Manuel , WIENS, Andreas , SCHAMNE, Niko , PETRASCHEK, Markus
IPC分类号： B24B33/02 , B24B33/08
CPC分类号： B24B33/025 , B24B33/087 , B24B33/088 , B24B49/04
摘要： Es wird ein Verfahren zum Honen konischer Bohrungen vorgeschlagen.
摘要翻译：
建议使用珩磨圆锥孔的方法。

2. 发明申请

WO2017094462A1 板ガラスの製造方法及び製造装置审中-公开
标题翻译：平板玻璃制造方法和设备
公开(公告)号：WO2017094462A1
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：PCT/JP2016/083236
申请日：2016-11-09
申请人：日本電気硝子株式会社
发明人：奥　隼人 , 北嶋　浩市 , 山木　茂
IPC分类号： B24B7/06 , B24B7/24 , B24B9/00 , B24B49/04 , C03B35/00 , H01L21/677
CPC分类号： B24B7/06 , B24B7/24 , B24B9/00 , B24B49/04 , C03B35/00 , H01L21/677
摘要：板ガラスの製造方法は、板ガラス（Ｇ）を所定の搬送方向に搬送する搬送工程を備える。搬送工程は、第１待機位置（ＷＰ１）から加工位置（ＣＰ）へと板ガラス（Ｇ）を移動させるときに、搬送ベルト（６）の一部を昇降装置（８）により上方に移動させる。さらに搬送工程は、端面加工装置（３）によって板ガラス（Ｇ）の端面を加工するときに、上方に移動させた搬送ベルト（６）の一部を昇降装置（８）により加工位置（ＣＰ）よりも下方に移動させる。この下方への移動の後に加工位置（ＣＰ）に配置された板ガラス（Ｇ）の端面を端面加工装置（３）によって加工しながら、搬送ベルト（６）を走行させることにより、他の板ガラス（Ｇ）を第１待機位置（ＷＰ１）に配置する。
摘要翻译：用于生产方法
玻璃板上设置有输送玻璃板（G）是在预定的传送方向的传送步骤。（6）（8）输送工序被操作以从所述第一待机位置（WP1）至（CP）玻璃片和（G）移动至加工位置，通过升降装置向上移动所述传送带的一部分。此外输送步骤中，由部分提升装置（8）的传送带的向上移动（6）（CP）由端面处理装置（3）加工所述玻璃板（G）的端面上时，从所述加工位置也向下方移动。而处理的处理位置（CP）来放置玻璃板通过端面处理装置（3）传送到下（G）后的端面，通过移动的传送带（6），另一方的玻璃板（G ）布置在所述第一待机位置（WP1）。

3. 发明申请

WO2015123000A9 ADJUSTING EDDY CURRENT MEASUREMENTS 审中-公开
标题翻译：调整EDDY当前测量
公开(公告)号：WO2015123000A9
公开(公告)日：2016-09-29
申请号：PCT/US2015012281
申请日：2015-01-21
申请人： APPLIED MATERIALS INC
发明人： XU KUN , CARLSSON INGEMAR , SWEDEK BOGUSLAW A , BENNETT DOYLE E , SHEN SHIH-HAUR , IRAVANI HASSAN G , TU WEN-CHIANG , LIU TZU-YU
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/66
CPC分类号： B24B49/105 , B24B37/013 , B24B49/02 , B24B49/04 , B24B49/14
摘要： Among other things, a method of controlling polishing during a polishing process is described. The method includes receiving a measurement of a thickness, thick(t), of a conductive layer of a substrate undergoing polishing from an in-situ monitoring system at a time t; receiving a measured temperature, T(t), associated with the conductive layer at the time t; calculating resistivity pT of the conductive layer at the measured temperature T(t); adjusting the measurement of the thickness using the calculated resistivity pT to generate an adjusted measured thickness; and detecting a polishing endpoint or an adjustment for a polishing parameter based on the adjusted measured thickness.
摘要翻译：其中，描述了在抛光过程中控制抛光的方法。该方法包括在时间t从原位监测系统接收经历抛光的基底的导电层的厚度（t）的测量; 在时间t接收与导电层相关的测量温度T（t）; 在测量温度T（t）下计算导电层的电阻率pT; 使用所计算的电阻率pT调节厚度的测量值以产生调整的测量厚度; 以及基于所调整的测量厚度检测抛光终点或抛光参数的调整。

4. 发明申请

WO2016091864A1 MESS-LÜNETTE ZUM ABSTÜTZEN UND VERMESSEN VON ZENTRISCHEN WERKSTÜCKBEREICHEN, SCHLEIFMASCHINE MIT EINER DERARTIGEN MESS-LÜNETTE SOWIE VERFAHREN ZUM ABSTÜTZEN UND VERMESSEN VON ZENTRISCHEN WERKSTÜCKBEREICHEN 审中-公开
标题翻译： MESS屏幕菜单，用于支撑和测量中心的办公区，这样一个烂摊子 - 前圈和方法研磨支持和测量中心的工作区
公开(公告)号：WO2016091864A1
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：PCT/EP2015/078949
申请日：2015-12-08
申请人： ERWIN JUNKER MASCHINENFABRIK GMBH
发明人： JUNKER, Erwin
IPC分类号： B24B5/42 , B24B49/04
CPC分类号： B24B5/421 , B23Q1/76 , B23Q17/225 , B24B5/307 , B24B41/065 , B24B47/206 , B24B49/04
摘要： Es wird eine Mess-Lünette beschrieben, welche eine Einrichtung zum Abstützen von zentrischen Werkstückbereichen, insbesondere von Lagerstellen an Wellenteilen, insbesondere Kurbelwellen, und eine darin integrierte Messeinrichtung zum direkten Einstellen an das Vermessen der Werkstückbereiche vor und/oder während der Bearbeitung der Wellenteile aufweist. Die Mess-Lünette ist vorzugsweise als Prisma angeordnet, wobei die Messeinrichtung am Boden des Prismas zwischen dessen Seitenflanken angeordnet ist. Des Weiteren sind eine Schleifmaschine mit einer derartigen Mess-Lünette sowie ein Verfahren zum Abstützen und Vermessen von zentrischen Werkstückbereichen auf eine derartige Schleifmaschine mit einer derartigen Mess-Lünette beschrieben.
摘要翻译：中描述了一种测量表圈，其同时具有用于支撑中心的工件区域，特别是支承在轴部分，特别是曲轴，以及一个内置的和/或轴部件的加工前直接设定到工件区域的测量测量装置。测量挡板优选地被布置为棱镜，其特征在于，所述测量装置在棱镜的底部设置在所述侧边缘之间。此外，研磨机具有这样的测量表圈和与所描述这样的测量表圈支撑并测量中心的工件区域这样的研磨机的方法。

5. 发明申请

WO2015123000A1 ADJUSTING EDDY CURRENT MEASUREMENTS 审中-公开
标题翻译：调整EDDY当前测量
公开(公告)号：WO2015123000A1
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：PCT/US2015/012281
申请日：2015-01-21
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： XU, Kun , CARLSSON, Ingemar , SWEDEK, Boguslaw A. , BENNETT, Doyle E. , SHEN, Shih-Haur , IRAVANI, Hassan G. , TU, Wen-Chiang , LIU, Tzu-Yu
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/66
CPC分类号： B24B49/105 , B24B37/013 , B24B49/02 , B24B49/04 , B24B49/14
摘要： Among other things, a method of controlling polishing during a polishing process is described. The method includes receiving a measurement of a thickness, thick (t), of a conductive layer of a substrate undergoing polishing from an in-situ monitoring system at a time t ; receiving a measured temperature, T (t), associated with the conductive layer at the time t ; calculating resistivity pT of the conductive layer at the measured temperature T (t); adjusting the measurement of the thickness using the calculated resistivity pT to generate an adjusted measured thickness; and detecting a polishing endpoint or an adjustment for a polishing parameter based on the adjusted measured thickness.
摘要翻译：其中，描述了在抛光过程中控制抛光的方法。该方法包括在时间t从原位监测系统接收经历抛光的基底的导电层的厚度（t）的测量; 在时间t接收与导电层相关的测量温度T（t）; 在测量温度T（t）下计算导电层的电阻率pT; 使用所计算的电阻率pT调节厚度的测量值以产生调整的测量厚度; 以及基于所调整的测量厚度检测抛光终点或抛光参数的调整。

6. 发明申请

WO2015086190A1 LÜNETTE ZUM ABSTÜTZEN VON ZENTRISCHEN WERKSTÜCKBEREICHEN WÄHREND DER BEARBEITUNG VON ZENTRISCHEN UND/ODER EXZENTRISCHEN WERKSTÜCKBEREICHEN INSBESONDERE LAGERSTELLEN AN KURBELWELLEN SOWIE SCHLEIFMASCHINE MIT EINER DERARTIGEN LÜNETTE 审中-公开
标题翻译： BEZEL FOR中心和/或偏心的工作领域包括储存设定键曲轴的加工过程中中心工作领域的支持和这样的表圈磨
公开(公告)号：WO2015086190A1
公开(公告)日：2015-06-18
申请号：PCT/EP2014/071650
申请日：2014-10-09
申请人： ERWIN JUNKER MASCHINENFABRIK GMBH
发明人： JUNKER, Erwin
IPC分类号： B24B41/06 , B23Q1/76 , B24B5/42
CPC分类号： B24B5/421 , B23Q17/20 , B24B41/065 , B24B49/04
摘要： Es wird eine Lünette zum Abstützen von zentrischen Werkstückbereichen (9), insbesondere Lagerstellen an Wellenteilen (6) von insbesondere Kurbelwellen, während der Schleifbearbeitung von zentrischen und/oder exzentrischen Werkstückbereichen beschrieben. Die Lünette (7) wird zum Schleifen aus einer zurückgezogenen in eine Abstützposition an den abzustützenden Werkstückbereich gebracht, wobei die Lünette (2) an den Werkstückbereich zustellbare Stützteile aufweist, welche den Werkstückbereich an jeweiligen voneinander beabstandeten Umfangsbereichen abstützen. Das abzustützende Werkstück wird an seinem Werkstückbereich in der Abstützposition abgestützt. Erfindungsgemäß sind die Stützteile unter Bildung eines Öffnungswinkels zueinander an je einer Seitenflanke eines gabelartig sich öffnenden Prismas an einem Lünettenarm in fester Position zueinander und zum Lünettenarm angeordnet. Gleichzeitig sind die Stützteile so angeordnet, dass sie in der Abstützposition untermittig zur Längsachse des Werkstückbereiches derart angeordnet sind, dass eine zwischen beiden Stützteilen gebildete Winkelhalbierende einen festen Spitzenwinkel zur durch die Längsachse des Werkstückbereiches verlaufenden Senkrechten aufweist und die CNC-gesteuerte Zustellung entlang dieser Winkelhalbierenden erfolgt. In einem weiteren Aspekt der Erfindung wird eine Schleifmaschine beschrieben, welche eine vorstehend beschriebene Lünette, eine Steuer- und vorzugsweise eine Messvorrichtung aufweist, mittels welcher während des Schleifens der Lagerstelle mittels einer Schleifscheibe die Lünette an den Werkstückbereich anstellbar und die Schleifscheibe bis zum Fertigmaß der Lagerstelle zustellbar sind.
摘要翻译：存在用于在轴部件支承为中心的工件区域（9），特别是支承点固定支架（6），特别是曲轴，所述的中心和/或偏心的工件区域的研磨过程中。用于从缩回磨削挡板（7）带入的支承位置到所述被支撑的工件区域，其中，所述挡板（2）具有在该支撑工件区域在各自的间隔开的周向部分的工件区域交付支撑部。工件是在支撑位置其支持的工件区域被支持。根据本发明，支撑部件被布置成彼此并Lünettenarm上形成在棱镜Lünettenarm在一个固定位置上的叉状开口的任一侧边缘的开口角度到彼此。同时，支撑构件被布置成使得它们被下居中地布置在所述支撑位置到工件区域的纵轴线，使得具有固定顶角穿过工件区域立柱的纵向轴线和沿着该平分线的CNC控制的输送平面两个支撑部分之间形成的角平分线发生，在研磨机描述了本发明，其具有所描述的先前的表圈，由装置的控制，优选的测量装置的进一步的方面中，其中可调节期间由砂轮装置的挡板向工件区域和所述砂轮磨削支承点与所述支承点的最终尺寸无法交付。

7. 发明申请

WO2015083319A1 面取り加工装置及びノッチレスウェーハの製造方法审中-公开
标题翻译：切割装置和不可忽略的制造方法
公开(公告)号：WO2015083319A1
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：PCT/JP2014/005458
申请日：2014-10-29
申请人：信越半導体株式会社
发明人：加藤　忠弘
IPC分类号： H01L21/304 , B24B9/00 , B24B49/02
CPC分类号： H01L21/02021 , B24B9/065 , B24B49/02 , B24B49/04 , B24B49/12 , H01L21/02052 , H01L23/544 , H01L2223/54493
摘要：　本発明は、ウェーハ（Ｗ）のノッチを除去する面取り加工部（４）と、ウェーハの洗浄及び乾燥を行う洗浄部（５）と、面取り形状の測定を行う面取り形状測定部（７）で構成される面取り加工装置（１）であって、面取り加工部、洗浄部、面取り形状測定部に、ウェーハを保持する回転ステージと、回転ステージとウェーハの回転位置を制御する制御手段をそれぞれ具備し、回転ステージは回転開始時の回転位置の基準位置を有し、該基準位置に対する回転開始時の回転位置が、すべての回転ステージ上で同じ回転位置となるように保持し、制御手段はウェーハの回転開始時の回転位置と回転終了時の回転位置が常に一定の位置となるように制御する面取り加工装置である。これにより、ノッチレスウェーハであっても適切なフィードバック制御ができ、面取り形状寸法のばらつきを抑制でき、所望のウェーハの面取り部の断面形状精度を達成する。
摘要翻译：本发明是一种倒角装置（1），包括：从晶片（W）移除凹口的倒角部分（4）; 洗涤部件（5），其对所述晶片进行清洗和干燥; 以及测量倒角形状的倒角形状测量装置（7）。倒角部分，洗涤部分和倒角形状测量部分都配备有保持晶片的旋转台和控制晶片和旋转台的旋转位置的控制装置。旋转台具有旋转开始时的旋转位置的基准位置，并保持基准位置，使得旋转开始时的旋转位置在所有旋转台上都是相同的旋转位置。控制装置执行控制，使得当旋转开始时和当旋转结束时晶片的旋转位置始终是恒定的。由于这种结构，即使使用无切槽晶片，也可以进行适当的反馈控制，能够抑制倒角形状的波动，能够实现晶片的倒角部的期望的截面精度。

8. 发明申请

WO2014103806A1 金属製環状部材の研削加工方法および装置审中-公开
标题翻译：用于研磨金属环形构件的方法和装置
公开(公告)号：WO2014103806A1
公开(公告)日：2014-07-03
申请号：PCT/JP2013/083786
申请日：2013-12-17
申请人：日本精工株式会社
发明人：海老名　健 , 小澤　光治 , 小笠原　智基
IPC分类号： B24B49/04 , B24B5/35
CPC分类号： B24B5/355 , B24B5/04 , B24B5/35 , B24B49/04 , G05B19/182 , G05B2219/45161
摘要：　砥石４の切れ味変化などに基づく被加工物１の弾性変形量の変化に拘らず、研削加工完了時における被加工物１の外径がばらつくことを防止できる研削方法を提供する。研削加工中の被加工物１の外径Ｄを、測定子５によりインプロセスで計測する。被加工物１の外径Ｄに関して、互いに異なる複数の目標値Ｄｉを定め、これらの目標値Ｄｉごとに、被加工物１の外径Ｄの変化率に関する第１の閾値を定める。そして、被加工物１の外径Ｄが、目標値Ｄｉになった場合に変化率ｖの絶対値が、この目標値Ｄｉに対応する第１の閾値を上回った場合に、スパークアウトを開始する。
摘要翻译：提供一种能够防止磨削结束时工件（1）的外径变化的磨削方法，而不管基于磨石（4）的磨削能力的变化，工件（1）的弹性变形量的变化如何等等。在磨削过程中，工件（1）的外径（D）在测量过程中用量筒头（5）进行测量。关于工件（1）的外径（D）规定多个相互不同的目标值（Di），并且关于工件（1）的外径（D）的变化率的第一阈值）被指定用于每个目标值（Di）。当工件（1）的外径（D）达到目标值（Di）时，当变化率（v）的绝对值超过对应于目标值的第一阈值（Di ）。

9. 发明申请

WO2014072314A1 WERKZEUGMASCHINE UND VERFAHREN ZUR VERMESSUNG EINES WERKSTÜCKS 审中-公开
标题翻译：机床及方法用于测量工件
公开(公告)号：WO2014072314A1
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：PCT/EP2013/073111
申请日：2013-11-06
申请人： FRITZ STUDER AG
发明人： SENN, Andreas , FABRIS, Walter , ZWAHLEN, Reto , GAEGAUF, Fred
IPC分类号： B24B5/42 , B24B5/02 , B24B19/12 , B24B49/04 , B23Q17/20 , G01B3/20 , G05B19/18
CPC分类号： G01B5/08 , B23Q17/20 , B24B5/02 , B24B5/42 , B24B19/125 , B24B49/04 , B24B49/045 , G01B5/201
摘要： Die Erfindung betrifft eine Werkzeugmaschine, insbesondere Schleifmaschine, und ein Verfahren zur Vermessung eines Werkstücks in einer Werkzeugmaschine. Die Werkzeugmaschine kann eine Werkstückaufnahme (14), eine Werkzeugeinheit (28), eine Messeinrichtung (48) und eine Steuereinrichtung (56) aufweisen, die mit der Messeinrichtung (48) und der Werkzeugeinheit (28)koppelbar ist, wobei die Messeinrichtung (48) an der Werkzeugeinheit (28) aufgenommen ist und zumindest einen Schaltmesskopf (66; 68) aufweist wobei der zumindest eine Schaltmesskopf (66; 68) an einem Trägerstück (80) aufgenommen ist, das eine Mehrzahl von definierten Soll-Lagen für den zumindest einen Schaltmesskopf (66; 68) bereitstellt, und wobei die Steuereinrichtung (56) dazu ausgebildet ist, durch den zumindest einen Schaltmesskopf (66; 68) beim Antasten eines Werkstücks (96) ausgelöste Signale zu erfassen und anhand einer Ist-Lage der Werkzeugeinheit (28) eine Ist-Position des zumindest einen Schaltmesskopfes (66; 68) zu ermitteln.
摘要翻译：本发明涉及一种机床，特别是研磨机，以及用于在机床的工件的测量的方法。所述的机床，将工件保持件（14），一个工具单元（28），测量装置（48）和控制装置（56），其与所述测量装置（48）和所述工具单元（28）可耦合，其中，所述测量装置（48）在刀具单元（28）被接收和至少一个接触探针（66; 68）;一个支撑件（80）被接收，其包括多个限定的所希望的位置的用于所述至少一个触摸探针，其中所述至少一个接触探针（68 66）（66; 68）提供，并且其中所述控制装置（56）由所述至少一个触摸探针（66; 68），其适于探测工件何时捕捉触发（96）信号和工具单元的实际位置的基础上，（28）来确定，该至少一个开关测量头（68 66）的实际位置。

10. 发明申请

WO2013162832A1 USER-INPUT FUNCTIONS FOR DATA SEQUENCES IN POLISHING ENDPOINT DETECTION 审中-公开
标题翻译：用于在抛光端点检测中的数据序列的用户输入功能
公开(公告)号：WO2013162832A1
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：PCT/US2013/034823
申请日：2013-04-01
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： LEE, Harry Q. , DAVID, Jeffrey Drue , BENVEGNU, Dominic J. , SWEDEK, Boguslaw A.
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/66
CPC分类号： B24B37/013 , B24B49/04 , B24B49/12
摘要： A method of controlling polishing includes receiving user input through a graphical user interface selecting a function, the function including at least one parameter that can be varied, polishing a substrate, monitoring a substrate during polishing with an in-situ monitoring system, generating a sequence of values from measurements from the in-situ monitoring system, fitting the function to the sequence of values, the fitting including determining a value of the at least one parameter that provides a best fit of the function to the sequence of values, determining a projected time at which the function equals a target value, and determining at least one of a polishing endpoint or an adjustment for a polishing rate based on the projected time.
摘要翻译：一种控制抛光的方法包括：通过选择功能的图形用户界面接收用户输入，所述功能包括可以变化的至少一个参数，抛光衬底，在用原位监测系统进行抛光时监测衬底，产生序列来自原位监测系统的测量值，将功能拟合到值序列中，拟合包括确定提供该函数对该值序列的最佳拟合的至少一个参数的值，确定投影功能等于目标值的时间，以及基于投影时间来确定抛光终点或抛光速率的调整中的至少一个。

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