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    • 3. 发明申请
    • VORRICHTUNG ZUM BEARBEITEN EINES ENDLOSBANDES MIT EINEM BANDKÖRPER AUS METALL
    • 设备用于处理接头带用带金属机身
    • WO2015070271A1
    • 2015-05-21
    • PCT/AT2014/050271
    • 2014-11-12
    • BERNDORF BAND GMBH
    • SCHUSTER, Roland
    • B21L15/00
    • B24B41/068B24B27/033B24B29/06
    • Ein Vorrichtung (1) zum Bearbeiten eines Endlosbandes (2), welches einen Bandkörper aus Metall aufweist, wobei die Vorrichtung (1) eine Spannstation (3) mit einer Spannrolle (4) für das Endlosband (2) und eine Antriebs Station (5) mit einer Antriebsrolle (6) für das Endlosband (2) oder eine zum Spannen und Antreiben dienende Antriebs-/Spannstation umfasst, wobei die Vorrichtung (1) parallel zueinander verlaufende Führungen umfasst auf welchen die Antriebstation (5) und/oder die Spannstation (3) oder die Antriebs-/Spannstation und/oder eine der Antriebs-/Spannstation in Längsrichtung des Endlosbandes (2) gegenüberliegende Umlenkrolle verfahrbar ist bzw. sind, um einen Abstand zwischen der Spannstation (3) und der Antriebsstation (5) oder zwischen der Antriebs-/Spannstation und der Umlenkrolle zu verändern.
    • 的装置(1),用于处理的连续条带(2),其具有一个带体由金属制成,其特征在于,所述装置(1)是一个张紧站(3)配有一个张紧辊(4),用于在环形带(2)和驱动器站(5) 与驱动辊(6)的环形带(2)或用于夹紧和驱动输入/钳位站的服务,所述设备(1)相互平行地包括引导件在其上的驱动站(5)和/或所述夹紧台(3 ),或者该驱动/夹紧站和/或在环形带(2)的纵向方向的驱动/夹紧台对面的导向辊可以被移动,并且所述夹持站(3)和所述驱动器站之间的距离(5)或所述致动器之间 - /改变夹紧站和滑轮。
    • 4. 发明申请
    • 半導体ウェーハの製造方法
    • 生产半导体波形的方法
    • WO2011089979A1
    • 2011-07-28
    • PCT/JP2011/050533
    • 2011-01-14
    • 昭和電工株式会社菅野 進
    • 菅野 進
    • H01L21/304B24B7/22
    • B24B37/042B24B37/30B24B41/068H01L33/007H01L33/0079
    • 半導体ウェーハの製造方法であって、基板11と基板11上に成膜された半導体層20とを有するウェーハ10を、ウェーハ10の被研削面10aを上向きにし、固定用ワックス33a,33bを介して研削機のキャリアプレート(固定板)31に載置し、ウェーハ10を載置した31を加熱し固定用ワックス33a,33bを軟化させ、ウェーハ10を被研削面10a側からエアバッグにより圧接し、軟化した固定用ワックス33a,33bの一部がウェーハ10の周縁部にはみ出すように拡げ、ウェーハ10を加圧しつつキャリアプレート31を冷却し、固定用ワックス33a,33bを硬化させることによりウェーハ10をキャリアプレート31に固定し、固定されたウェーハ10の被研削面10aを研削機の研削定盤に圧接しつつ回転させ被研削面10aを研削する。これにより、ウェーハに反りが生じた場合であっても、ウェーハを所定の厚さに研削する。
    • 公开了一种半导体晶片的制造方法,其特征在于,将设置有基板(11)的晶片(10)和形成在基板(11)上的半导体层(20)放置在载板上(固定 通过固定蜡(33a和33b)以使得待研磨的晶片(10)的表面(10a)面向上的方式,研磨机的板(31) 加热其上放置晶片(10)的载体板(31)以软化固定蜡(33a和33b); 将所述晶片(10)从所述表面(10a)的侧面通过气囊压接,以使所述软化固定蜡(33a和33b)的一部分从所述周边边缘 的晶片(10); 在对晶片(10)施加压力的同时冷却载板(31),以使固定蜡(33a和33b)硬化并将晶片(10)固定在载体板(31)上; 以及在将所述表面(10a)压接到所述研磨机的研磨板的同时旋转所述待固定晶片(10)的表面(10a),从而研磨待研磨的所述表面(10a)。 因此,即使晶片翘曲,也可以将晶片研磨成预定的厚度。
    • 9. 发明申请
    • ガラス板の両サイド加工装置
    • 用于加工玻璃片两面的装置
    • WO2013038690A1
    • 2013-03-21
    • PCT/JP2012/005862
    • 2012-09-13
    • 坂東機工株式会社坂東 和明
    • 坂東 和明
    • B24B9/10B24B41/06
    • B24B41/068B24B9/102
    •  ガラス板2の両サイド加工装置1は、ガラス板2の両側内近部を真空吸着する吸盤装置4A、4Bを備えた直線搬送装置5A、5Bを上下に2基、対面して設け、それぞれの直線搬送装置5A、5Bは吸盤装置4A、4Bをガラス板2の進行方向に沿って相手に対して、行き違いの往復直動をさせ、かつそれぞれ吸盤装置4A、4Bを上下に昇降させ、往動行程においてガラス板を真空吸着して直線搬送し、ガラス板2の両側を研削装置30により研削加工復動行程時は空で復帰するようになっている。
    • 一种用于处理玻璃板(2)两侧的装置(1),其容纳两个相互面对的直线供给装置(5A,5B),上部和下部设置有用于保持真空接触的抽吸装置(4A,4B) 在玻璃板(2)的两侧具有内部区域,每个直线供给装置(5A,5B)使吸引装置(4A,4B)与对置装置 玻璃板(2)的前进方向,并使各吸引装置(4A,4B)上下移动,在向前行程中保持玻璃板上的真空接触,并将玻璃板以直线供给,然后 在通过研磨装置(30)在玻璃板(2)的两面进行研磨处理后返回空白。