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1. 发明申请

WO2022197145A1 정전 척, 이를 포함하는 정전 척 히터 및 반도체 유지장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2022197145A1
公开(公告)日：2022-09-22
申请号：PCT/KR2022/003810
申请日：2022-03-18
申请人： 주식회사 아모센스
发明人： 이지형 , 우경환 , 진병수 , 안영준
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15 , H01L21/687 , H01L21/67 , H05B3/14 , H05B3/28
摘要： 정전 척이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 의한 정전 척은 질화규소 소결체 및 상기 질화규소 소결체 내부에 매설된 정전전극을 포함하여 구현된다. 이에 의하면, 질화규소인 세라믹스 소결체를 구비함에 따라서 종전 많이 사용되어오던 질화알루미늄 세라믹스 소결체에 대비해 동등 또는 유사 수준의 방열성능을 발현하면서도 내플라즈마성, 내화학성 및 내열충격성이 뛰어남에 따라서 반도체 공정에 널리 이용될 수 있다.

2. 发明申请

WO2022103358A1 AN INTEGRATED TORQUE-ARMED ROTARY KNOB 审中-公开
公开(公告)号：WO2022103358A1
公开(公告)日：2022-05-19
申请号：PCT/TR2021/050766
申请日：2021-08-03
申请人： AK, Ali
发明人： AK, Ali
IPC分类号： B23Q3/15 , H01F7/02
摘要： The present invention relates to a rotary knob (10) comprising at least one rotation mechanism (20) to enable the workpiece to which it is connected to be rotated around an axis in different usage areas. The improvement is that the subject matter rotary knob (10) comprises at least one hidden arm (30) positioned in at least one channel (22) in said rotation mechanism (20) in order to increase the rotation force exerted to the workpiece, Said hidden arm (30) is associated with at least one actuation element (40) for providing actuation of said hidden arm (30) between a closed position (II), where said hidden arm (30) is hidden in the channel (22), and an open position (I) where the diameter of the rotation mechanism (20) is at least partially extended and extends beyond the channel (22)

3. 发明申请

WO2021231127A1 EVAPORATIVE COOLING OF ELECTROSTATIC CHUCKS 审中-公开
公开(公告)号：WO2021231127A1
公开(公告)日：2021-11-18
申请号：PCT/US2021/030558
申请日：2021-05-04
申请人： LAM RESEARCH CORPORATION
发明人： DREWERY, John , FLYNN, Kevin , SMITH, Jeremy George , KAMP, Tom A.
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67 , H02N13/00 , B23Q3/15 , C23C16/458 , C23C16/46
摘要： A baseplate of a substrate support assembly includes a cavity between an upper region, a lower region, and sidewalls of the baseplate, a plurality of pillars arranged in the cavity between the upper and lower regions, an inlet to supply a liquid to the cavity, and an outlet to vent vapor of the liquid. In another implementation, a baseplate of a substrate support assembly includes a first channel arranged in the baseplate, a second channel arranged above the first channel, a plurality of vertical channels connecting the first channel to the second channel, an inlet to supply a liquid to the first channel, and an outlet to vent vapor of the liquid from the second channel.

4. 发明申请

WO2020185467A1 CHUCK FOR PLASMA PROCESSING CHAMBER 审中-公开
公开(公告)号：WO2020185467A1
公开(公告)日：2020-09-17
申请号：PCT/US2020/021003
申请日：2020-03-04
申请人： LAM RESEARCH CORPORATION
发明人： ERICKSON, Ann , EHRLICH, Darrell
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15 , H01J37/32 , H01L21/687 , H01L21/67
摘要： An electrostatic chuck system for a plasma processing chamber is provided. A base plate comprising Al-SiC is provided. A ceramic plate is disposed over the base plate. A bonding layer bonds the ceramic plate to the base plate.

5. 发明申请

WO2020086492A1 GRADED DIMPLE HEIGHT PATTERN ON HEATER FOR LOWER BACKSIDE DAMAGE AND LOW CHUCKING VOLTAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2020086492A1
公开(公告)日：2020-04-30
申请号：PCT/US2019/057288
申请日：2019-10-21
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： SHAH, Vivek, B. , KUMAR, Bhaskar , BALASUBRAMANIAN, Ganesh
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67 , H02N13/00 , B23Q3/15
摘要： Embodiments disclosed herein may include a heater pedestal. In an embodiment, the heater pedestal may comprise a heater pedestal body and a conductive mesh embedded in the heater pedestal. In an embodiment, the conductive mesh is electrically coupled to a voltage source In an embodiment, the heater pedestal may further comprise a support surface on the heater pedestal body. In an embodiment, the support surface comprises a plurality of pillars extending out from the heater pedestal body and arranged in concentric rings. In an embodiment pillars in an outermost concentric ring have a height that is greater than a height of pillars in an innermost concentric ring.

6. 发明申请

WO2019169102A1 ELECTROSTATIC CHUCK WITH MULTIPLE RADIO FREQUENCY MESHES TO CONTROL PLASMA UNIFORMITY 审中-公开
公开(公告)号：WO2019169102A1
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：PCT/US2019/020001
申请日：2019-02-28
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： HAMMOND, IV, Edward P. , BAEK, Jonghoon
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15 , H05H1/46 , H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/02
摘要： The present disclosure relates to a method and apparatus for controlling a plasma sheath near a substrate edge. Changing the voltage/current distribution across the inner electrode and the outer electrode with in the substrate assembly facilitates the spatial distribution of the plasma across the substrate. The method includes providing a first radio frequency power to a central electrode embedded in a substrate support assembly, providing a second radio frequency power to an annular electrode embedded in the substrate support assembly at a location different than the central electrode, wherein the annular electrode circumferentially surrounds the central electrode, monitoring parameters of the first and second radio frequency power, and adjusting one or both of the first and second radio frequency power based on the monitored parameters.

7. 发明申请

WO2018137976A1 REINIGUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2018137976A1
公开(公告)日：2018-08-02
申请号：PCT/EP2018/051035
申请日：2018-01-16
申请人： ELB-SCHLIFF WERKZEUGMASCHINEN GMBH
发明人： STEPHAN, Holger
IPC分类号： B23Q3/15 , B08B1/00 , B08B3/02 , B23Q11/00
CPC分类号： B23Q11/0075 , B08B1/005 , B08B1/008 , B08B3/024 , B23Q1/621 , B23Q3/15 , B24B41/068 , B24B55/12
摘要： Bereit gestellt werden eine Reinigungsvorrichtung und eine Werkstückbearbeitungsvorrichtung mit einer Reinigungs Vorrichtung, wobei die Werkstückbearbeitungsvorrichtung eine Magnetplatte aufweist, wobei die Reinigungsvorrichtung eine Reinigungseinheit und eine Antriebseinheit aufweist, wobei - die Reinigungseinheit in eine erste Richtung relativ zur Magnetplatte verfahrbar ist, - die Antriebseinheit angepasst ist, die Reinigungseinheit in die erste Richtung zu verfahren, und - die Reinigungseinheit angepasst ist, beim Verfahren relativ zur Magnetplatte eine Oberfläche der Magnetplatte zu reinigen.

8. 发明申请

WO2016114399A1 静電チャック审中-公开
标题翻译：静电卡
公开(公告)号：WO2016114399A1
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：PCT/JP2016/051182
申请日：2016-01-15
申请人： TOTO株式会社
发明人：前畑　健吾 , 近藤　俊平 , 佐々木　均 , 山口　康介 , 吉井　雄一
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
CPC分类号： H01L21/683 , B23Q3/15 , H02N13/00
摘要：　処理対象物を載置する第１主面と、第１主面とは反対側の第２主面と、を有し、セラミック誘電体基板と、セラミック誘電体基板とは離れた位置に設けられセラミック誘電体基板を支持するベースプレートと、セラミック誘電体基板とベースプレートとの間に設けられたヒータプレートと、を備え、ヒータプレートは、金属を含む第１の支持板と、金属を含む第２の支持板と、第１の支持板と第２の支持板との間に設けられ電流が流れることにより発熱するヒータエレメントと、第１の支持板とヒータエレメントとの間に設けられた第１の樹脂層と、第２の支持板とヒータエレメントとの間に設けられた第２の樹脂層と、を有することを特徴とする静電チャックが提供される。
摘要翻译：本发明提供一种静电卡盘，其具有安装有被加工物的第一主表面和与第一主表面相对的第二主表面，其特征在于，设置有：陶瓷电介质基板; 基板，其与所述陶瓷电介质基板隔开并且支撑所述陶瓷电介质基板; 以及设置在所述陶瓷电介质基板和所述基板之间的加热板，其中所述加热板具有：包括金属的第一支撑板; 包括金属的第二支撑板; 加热器元件，设置在第一支撑板和第二支撑板之间，并通过电流流动产生热量; 设置在第一支撑板和加热元件之间的第一树脂层; 以及设置在所述第二支撑板和所述加热器元件之间的第二树脂层。

9. 发明申请

WO2016080262A1 静電チャック装置审中-公开
标题翻译：静电切割装置
公开(公告)号：WO2016080262A1
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：PCT/JP2015/081732
申请日：2015-11-11
申请人：住友大阪セメント株式会社
发明人：小坂井　守
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
CPC分类号： H01L21/6833 , B23Q3/15 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/6831 , H02N13/00
摘要：耐熱性の高い静電チャック装置を提供する。本発明の静電チャック装置は、基板を載置できる第１の面とその反対側の第２の面を有し、静電吸着用内部電極を内蔵してなる第１のセラミックプレートと、前記第２の面に固定された加熱部材と、前記第１のセラミックプレート及び加熱部材に、第１の接着層を介して接着された第２のセラミックプレートと、前記第２のセラミックプレートと第２の接着層を介して接着し、少なくとも前記第２のセラミックプレートを冷却する冷却ベース部とを有し、前記第１の接着層が前記第２の接着層より高い耐熱性を有し、前記第２の接着層のヤング率が、前記第１の接着層のヤング率よりも高い。
摘要翻译：具有耐热性高的静电吸盘装置。根据本发明的静电吸盘装置包括：第一陶瓷板，其内部包括用于静电吸引的内部电极，并且具有可以放置基板的第一表面和位于第一表面的相反侧的第二表面 ; 加热构件，固定到第二表面; 第二陶瓷板，其与第一陶瓷板和加热构件接合，第一粘合剂层插入其间; 以及冷却基部，其与第二陶瓷板接合，其间插入有第二粘合剂层，并且至少冷却第二陶瓷板。第一粘合剂层具有比第二粘合剂层更高的耐热性，而第二粘合剂层具有比第一粘合剂层更高的杨氏模量。

10. 发明申请

WO2016005929A1 MAGNETIC TOOL STAND 审中-公开
标题翻译：磁性工具架
公开(公告)号：WO2016005929A1
公开(公告)日：2016-01-14
申请号：PCT/IB2015/055186
申请日：2015-07-09
申请人： MAGSWITCH TECHNOLOGY INC.
发明人： MORTON, David H
IPC分类号： B23Q3/02 , B23Q3/15 , B25H1/00 , B23B45/14 , B25B11/00
CPC分类号： B25H1/0071 , B23Q9/0042
摘要： A magnetic base for supporting a tool having a work piece engagement component relative to a ferromagnetic body, comprising: at least two magnet units having a working face, each unit adapted to be magnetically attached to the ferromagnetic body; and a support structure coupled to the at least two magnet units and including a mounting structure adapted to secure the tool to the support structure, the support structure having a window in or a cut-out extending into an about centric location of the support structure such that the work piece engagement component of the tool may extend from a first side of the support structure to engage the ferromagnetic body located proximate a second side of the support structure, the second side being opposite the first side, the at least two magnet units being positionable so that they can fit onto a flat surface or a curved surface.
摘要翻译：一种用于支撑具有相对于铁磁体的工件接合部件的工具的磁性基座，包括：具有工作面的至少两个磁体单元，每个单元适于磁性地连接到铁磁体; 以及支撑结构，其耦合到所述至少两个磁体单元并且包括适于将所述工具固定到所述支撑结构的安装结构，所述支撑结构具有延伸到所述支撑结构的大致中心位置的窗口或切口，工具的工件接合部件可以从支撑结构的第一侧延伸以接合位于支撑结构的第二侧附近的铁磁体，第二侧与第一侧相对，所述至少两个磁体单元是可定位，使得它们可以适合于平坦的表面或曲面。

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