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1. 发明申请

WO0227400A3 ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统特别适用于微晶
公开(公告)号：WO0227400A3
公开(公告)日：2002-07-11
申请号：PCT/EP0111233
申请日：2001-09-28
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
发明人： ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
IPC分类号： F21V5/00 , F21V7/00 , F21V13/04 , G02B13/18 , G02B17/00 , G02B17/08 , G02B19/00 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/04 , H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G03F7/70891 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/064
摘要： The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种照明系统，特别是对于波长为193nm的微光刻技术，包括：初级光源（8201,8401）; 第一光学部件; 第二光学部件（8221,8421）; 图像平面（8229,8429）; 和出生瞳孔（8233,8433）; 其中所述第一光学部件将所述初级光源（8201,8401）转换成由所述出射光瞳（8233,8433）中的所述第二光学部件（8221,8221）成像的多个次级光源，其中所述第一光学部件包括具有多个第一光栅元件（8209,8409）的第一光学元件，其被成像到所述图像平面（8229,8429）中，产生至少部分地叠加在所述图像平面中的场上的多个图像（8229,8409） 8429），其中所述第二光学部件（8221,8421）包括第一光学系统，其包括具有正光焦度的至少第三场反射镜（8225,8425）和包括至少第二场反射镜（8223,8423）的第二光学系统），其中所述第一光学系统在所述第一光学系统和所述第二光学系统之间的平面中对所述多个次级光源进行成像，形成多个第三光源并且其中所述第二图像表示所述出射光瞳中的多个第三光源。

2. 发明申请

WO0109681A3 MULTI MIRROR SYSTEM FOR AN ILLUMINATION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于照明系统的多镜系统
公开(公告)号：WO0109681A3
公开(公告)日：2001-11-08
申请号：PCT/EP0007258
申请日：2000-07-28
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , ANTONI MARTIN , ESCUDERO SANZ ISABEL , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES , SCHULTZ JOERG
发明人： ANTONI MARTIN , ESCUDERO-SANZ ISABEL , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES , SCHULTZ JOERG
IPC分类号： G02B13/18 , G02B13/24 , G02B17/00 , G02B17/06 , G02B19/00 , G02B27/00 , G02B27/09 , G03F7/20 , G03F7/22 , H01L21/027
CPC分类号： G02B27/0983 , G02B17/0621 , G02B19/0023 , G02B19/0028 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G02B27/0905 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70233 , Y10S359/90
摘要： The invention relates to a multi-mirror-system for an illumination system, especially for lithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种用于照明系统的多镜系统，特别是对于包括成像系统的波长<193nm的光刻，其中所述成像系统至少包括第一反射镜（5）和第二反射镜（7） ; 物平面（3）; 图像平面（9），其中所述成像系统形成所述对象的图像; 在所述图像平面（9）中的弧形场，由此所述弧形场的中间的径向方向H限定扫描方向。多镜系统的特征在于，成像系统的至少所述第一反射镜（5）和所述第二反射镜（7）被布置在成像系统的光路中，处于这样的位置并且具有这样的形状，即，图像平面中的弧形场的边缘锐度在扫描方向上小于5mm，优选为2mm，最优选为1mm。

3. 发明申请

WO0227402A3 ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统特别适用于显微照相
公开(公告)号：WO0227402A3
公开(公告)日：2002-07-11
申请号：PCT/EP0111273
申请日：2001-09-28
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
发明人： ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
IPC分类号： F21V5/00 , F21V7/00 , F21V13/04 , G02B13/18 , G02B17/00 , G02B17/08 , G02B19/00 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/04 , H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G03F7/70891 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/064
摘要： The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种照明系统，特别是用于具有波长≤193nm的微光刻的照明系统，包括：主光源; 第一光学部件; 第二光学; 图像平面组件; 和出瞳; 其中所述第一光学部件将所述主光源变换成由所述出瞳中的所述第二光学部件成像的多个次光源; 其中所述第一光学部件包括具有多个第一光栅元件的第一光学元件，所述第一光学元件被成像到所述图像平面中，从而产生多个图像，所述多个图像至少部分地叠加在所述图像平面中的场上，其中所述多个第一光栅元件具有负光功率。

4. 发明申请

WO0227405A3 ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统特别适用于显微照相
公开(公告)号：WO0227405A3
公开(公告)日：2002-07-18
申请号：PCT/EP0111224
申请日：2001-09-28
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
发明人： ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
IPC分类号： G02B19/00 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/04 , H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/70891
摘要： The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种照明系统，特别是用于波长≤193nm的微光刻的照明系统，包括：主光源; 第一光学部件; 第二光学部件; 一个图像平面; 其中所述第一光学部件将所述主光源变换成由所述出射光瞳中的所述第二光学部件成像的多个副光源，其中所述第一光学部件包括具有多个第一光学元件和第二光学元件的第一光学元件，被成像到所述图像平面中的光栅元件，产生至少部分地叠加在所述图像平面中的场上的多个图像，其中所述第一光学元件包括收集器单元和具有多个第二栅格的第二光学元件所述照明系统还包括：在所述收集器单元和所述第一光学元件之间的第一光轴，其中所述第一光学元件是反射性的; 在所述第一光学元件和所述第二光学元件之间的第二光轴，其中所述第二光学元件是反射性的; 以及在所述第二光学元件和所述第二光学元件之间的第三光轴，其中所述第一光轴的方向矢量和所述第二光轴的方向矢量限定平面，并且其中所述第一和第二光学元件倾斜以引起将所述第三光轴的投影穿过所述平面和所述第一光轴。

5. 发明申请

WO0227406A3 ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统特别适用于微晶
公开(公告)号：WO0227406A3
公开(公告)日：2002-07-04
申请号：PCT/EP0111232
申请日：2001-09-28
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
发明人： ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
IPC分类号： F21V5/00 , F21V7/00 , F21V13/04 , G02B13/18 , G02B17/00 , G02B17/08 , G02B19/00 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/04 , H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G03F7/70891 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/064
摘要： The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths ≤ 93 nm, comprising: a primary light source; a first optical component; a second optical component; an image plane; and an exit pupil; wherein said first optical component transforms said primary light source into a plurality of secondary light sources that are imaged by said second optical component in said exit pupil, wherein said first optical component includes a first optical element having a plurality of first raster elements, that are imaged into said image plane, producing a plurality of images being superimposed at least partially on a field in said image plane, wherein said plurality of first raster elements are rectangular, wherein said filed is a segment of an annulus, and wherein said second optical component includes a first field mirror with negative optical power for shaping said field to said segment of said annulus and a second field mirror with positive optical power, wherein each of a plurality of rays intersects said first field mirror with an incidence angel greater than 70 DEG and wherein each of a plurality of rays intersects said second field mirror with an incidence angle of less than 25 DEG .
摘要翻译：本发明涉及一种照明系统，特别是对于波长≤93nm的微光刻技术，包括：初级光源; 第一光学部件; 第二光学部件; 图像平面; 和退学生; 其中所述第一光学部件将所述初级光源转换成由所述出射光瞳中的所述第二光学部件成像的多个次级光源，其中所述第一光学部件包括具有多个第一光栅元件的第一光学元件，成像到所述图像平面中，产生至少部分地叠加在所述图像平面中的场上的多个图像，其中所述多个第一光栅元素是矩形的，其中所述场是环的一段，并且其中所述第二光学部件包括具有负光焦度的第一场反射镜，用于将所述场成形为所述环带的所述段，以及具有正光焦度的第二场反射镜，其中多个光线中的每一个与所述第一场反射镜相交，入射角大于70°，其中多个光线中的每一个与所述第二场反射镜相交，入射角小于25° 。

6. 发明申请

WO0227401A3 ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统特别适用于显微照相
公开(公告)号：WO0227401A3
公开(公告)日：2002-07-04
申请号：PCT/EP0111248
申请日：2001-09-28
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
发明人： ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
IPC分类号： F21V5/00 , F21V7/00 , F21V13/04 , G02B13/18 , G02B17/00 , G02B17/08 , G02B19/00 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/04 , H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G03F7/70891 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/064
摘要： The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种照明系统，特别是用于波长<193nm的微光刻的照明系统，包括：主光源; 第一光学部件; 第二光学部件; 一个图像平面; 和出瞳; 其中所述第一光学部件将所述主光源变换成由所述出射光瞳中的所述第二光学部件成像的多个副光源，其中所述第一光学部件包括具有多个第一光栅元件的第一光学元件，所述第一光学元件是成像到所述图像平面中，产生多个图像，所述多个图像至少部分地叠加在所述图像平面中的场上，其中作为图像到图像平面中的所述第一光栅元件几乎完全被照射。

7. 发明申请

WO02065482A2 COLLECTOR WITH AN UNUSED AREA FOR LIGHTING SYSTEMS HAVING A WAVELENGTH OF 审中-公开
标题翻译：收集器照明系统尚未开发AREA具有波长
公开(公告)号：WO02065482A2
公开(公告)日：2002-08-22
申请号：PCT/EP0200608
申请日：2002-01-23
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , SINGER WOLFGANG , EGLE WILHELM , WEISS MARKUS , HAINZ JOACHIM , WIETZORREK JOCHEN , MELZER FRANK , WANGLER JOHANNES
发明人： SINGER WOLFGANG , EGLE WILHELM , WEISS MARKUS , HAINZ JOACHIM , WIETZORREK JOCHEN , MELZER FRANK , WANGLER JOHANNES
IPC分类号： G02B5/10 , G02B5/09 , G02B17/06 , G02B19/00 , G03F1/16 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/04 , H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G02B5/09 , G02B17/006 , G02B19/0014 , G02B19/0019 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70825 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a collector for lighting systems having a wavelength
摘要翻译：本发明涉及一种用于照明系统的收集器的波长

8. 发明申请

WO2004034146A3 LIGHTING SYSTEM COMPRISING A DEVICE FOR ADJUSTING THE LIGHT INTENSITY 审中-公开
标题翻译：带有用于调整光强度的装置的照明系统
公开(公告)号：WO2004034146A3
公开(公告)日：2004-08-05
申请号：PCT/EP0309370
申请日：2003-08-23
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , MELZER FRANK , WANGLER JOHANNES , HAINZ JOACHIM , WIETZORREK JOACHIM , MAUL MANFRED , WEISS MARKUS
发明人： SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , MELZER FRANK , WANGLER JOHANNES , HAINZ JOACHIM , WIETZORREK JOACHIM , MAUL MANFRED , WEISS MARKUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/7085
摘要： The invention relates to a lighting system for microlithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及的照明系统用于与波长微光刻<= 157纳米，尤其用于EUV光刻用于照明物平面，其包括辐射源，其提供的光线的光束是可用的，其中光束的束，在所涉及的光路中的照明系统从辐射源到物体平面的方向具有光强度; 第一光学部件，其至少包括具有多个光栅元件的第一光学元件，其中所述第一光学元件布置在所述辐射源与所述物平面之间的所述光束路径中; 其特征在于，提供用于调节<= 157nm波长的光强度的装置，其被设置在从辐射源到辐射源与第一光学元件之间的物平面的光路中。

9. 发明申请

WO2004031854A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR A WAVELENGTH = 193 NM, COMPRISING SENSORS FOR DETERMINING THE ILLUMINATION 审中-公开
标题翻译：照明系统用于波长<= 193 nm的传感器，用于确定所述照明
公开(公告)号：WO2004031854A2
公开(公告)日：2004-04-15
申请号：PCT/EP0310605
申请日：2003-09-24
申请人： ZEISS CARL SMT AG , ASML NETHERLANDS BV , SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , WANGLER JOHANNES , WEISS MARKUS , BANINE VADIM YEVGENYEVICH , DIERICHS MARCEL , MOORS ROEL , SCHUSTER KARL-HEINZ
发明人： SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , WANGLER JOHANNES , WEISS MARKUS , BANINE VADIM YEVGENYEVICH , DIERICHS MARCEL , MOORS ROEL , SCHUSTER KARL-HEINZ
IPC分类号： G03F7/20 , G03F
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/70558
摘要： The invention relates to an illumination system for wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种用于波长的照明系统<= 193纳米，其中所述照明系统包括一个光源，其提供可用的预定照明在一个平面和a）用第一光栅元件，其特征在于，所述第一光栅元件被布置在支撑元件上和第一光学部件所述第一光学部件被布置在或在其上提供照明的平面附近。本发明的特征在于：i）中设置在第一光学元件的至少一个传感器，用于在承载元件上的检测入射光的支撑元件上。 ⅱ）的照明系统的反射镜由传感器信号，使得Beleuctung的位置和强度被保持恒定的评价提供。

10. 发明申请

WO9957732A9 LIGHTING SYSTEM, ESPECIALLY FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统，包括EUV光刻
公开(公告)号：WO9957732A9
公开(公告)日：2000-02-24
申请号：PCT/EP9902999
申请日：1999-05-04
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , SCHULTZ JOERG , WANGLER JOHANNES
发明人： SCHULTZ JOERG , WANGLER JOHANNES
IPC分类号： F21V5/00 , F21V7/00 , F21V13/04 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02 , H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G02B27/0905 , G02B27/0961 , G02B27/0983 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G21K2201/06
摘要： The invention relates to a lighting system for wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种用于波长的照明系统

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