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1. 发明申请

WO2011157684A1 OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：光学系统
公开(公告)号：WO2011157684A1
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：PCT/EP2011/059793
申请日：2011-06-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , EHM, Dirk Heinrich , WEISS, Markus , ZACZEK, Christoph , HACKL, Tobias , SEITZ, Wolfgang
发明人： EHM, Dirk Heinrich , WEISS, Markus , ZACZEK, Christoph , HACKL, Tobias , SEITZ, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G21K5/04 , G03F7/70233 , G03F7/70916
摘要： To prevent reflective optical elements (2) for EUV lithography from getting electrically charged as they are irradiated with EUV radiation (4), an optical system for EUV lithography is proposed, comprising a reflective optical element (2), including a substrate (21) with a highly reflective coating (22) emitting secondary electrons when irradiated with EUV radiation (4), and a source (3) of electrically charged particles, which is arranged in such a manner that electrically charged particles can be applied to the reflective optical element (2), wherein the source (3) is a flood gun applying electrons to the reflective optical element (2) as only means for charge carrier compensation.
摘要翻译：为了防止用于EUV光刻的反射光学元件（2）在用EUV辐射（4）照射时被充电，提出了一种用于EUV光刻的光学系统，包括反射光学元件（2），包括基板（21）具有当用EUV辐射（4）照射时发射二次电子的高反射涂层（22）和带电粒子的源（3），其被布置成使得带电粒子可以被施加到反射光学元件（2），其中源（3）是向反射光学元件（2）施加电子的泛洪枪，仅作为电荷载体补偿的装置。

2. 发明申请

WO2010031754A1 VIBRATION DAMPING IN PROJECTION EXPOSURE APPARATUSES FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY的投影曝光装置中的振动阻尼
公开(公告)号：WO2010031754A1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：PCT/EP2009/061917
申请日：2009-09-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KLOESCH, Peter , RINGEL, Michael , WEISS, Markus
发明人： KLOESCH, Peter , RINGEL, Michael , WEISS, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70825 , G03F7/7085
摘要： The invention relates to a changeable assembly (1) for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography (310), which contains at least one damping element (2). Furthermore, the invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography (310) and to a measuring assembly for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising at least one sensor for detecting parameters and vibrations of the projection exposure apparatus, wherein the measuring assembly is embodied in such a way that it can be inserted into an exchange opening, provided for an optical element, in the projection exposure apparatus (310).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻（310）的投影曝光装置的可变组件（1），其包含至少一个阻尼元件（2）。此外，本发明涉及用于半导体光刻（310）的投影曝光装置和用于半导体光刻的投影曝光装置的测量组件，其包括用于检测投影曝光装置的参数和振动的至少一个传感器，其中测量组件具体实施方式是在投影曝光装置（310）中插入光学元件的交换开口。

3. 发明申请

WO2007062162A1 AUTO-INFLATION CUFFS 审中-公开
标题翻译：自动充气罐
公开(公告)号：WO2007062162A1
公开(公告)日：2007-05-31
申请号：PCT/US2006/045278
申请日：2006-11-21
申请人： NELLCOR PURITAN BENNETT INCORPORATED , WEISS, Markus , DENMAN, William, T.
发明人： WEISS, Markus , DENMAN, William, T.
IPC分类号： A61M16/04
CPC分类号： A61M16/044 , A61M16/0434 , A61M16/0443 , A61M16/0452 , A61M16/0841 , A61M16/0858 , A61M2016/0413
摘要： A medical ventilation device comprising a cannula (102) having proximal (104) and distal ends (106); an inflatable cuff (110) adapted to be inflated to an inspiratory pressure, the cuff (110) attached to and surrounding a portion of the cannula (102) toward the distal end thereof ; an inspiratory pressure inflation tube (118) having first and second ends, the first end in communication with an interior of the inflatable cuff (110), the second end adapted to communicate with an inspiratory pressure source; and a pressure valve (330) in communication with the inspiratory pressure inflation tube (118).
摘要翻译：一种医用通气装置，包括具有近端（104）和远端（106）的套管（102）。适于充气到吸气压力的可充气袖带（110），所述袖带（110）附接到所述套管（102）的一部分并朝向其远端附近; 具有第一和第二端的吸气压力充气管（118），所述第一端与所述可充气袖带（110）的内部连通，所述第二端适于与吸气压力源连通; 以及与吸气压力充气管（118）连通的压力阀（330）。

4. 发明申请

WO2004106211A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR WARTUNG EINER AUFZUGS- ODER FAHRTREPPENANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法和设备维护电梯或自动扶梯设备
公开(公告)号：WO2004106211A1
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/CH2004/000307
申请日：2004-05-21
申请人： INVENTIO AG , ENGEL, Werner , WEISS, Markus
发明人： ENGEL, Werner , WEISS, Markus
IPC分类号： B66B5/00
CPC分类号： B66B5/0087 , B66B25/006
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Wartung einer Aufzugs- oder Fahrtreppenanlage (12), die eine Schnittstelle (14) zur Verbindung mit einer Steuerung (19) der Anlage (12) und eine Anzeigen- und Bedieneirichtung (11) zur Anzeige von Betriebsparametern oder zur Eingabe von Steuerungsbefehlen und eine Datenverbindungseinrichtung (15, 17) zum Aufbau einer Datenverbindung (16) zu einer Wartungszentrale (13) aufweist. Über die Datenverbindung (16) sind nach einer Identifikationsüberprüfung in der Wartungszentrale (13) gespeicherte Daten und Parameter der Anlage (12) zur Anzeigen- und Bedieneinheit (11) übertragbar. In Abhängigkeit eines Vergleichs zwischen Betriebsparametern und übertragenen Daten und Parametern ist ein Fehlerprotokoll mit einer Spezifikation von Betriebsfehlern und/oder einer Spezifikation der zur Behebung der Betriebsfehler infrage kommenden Ersatzteile erzeugbar, das über die Datenverbindung (16) zur Wartungszentrale (13) übertragen wird, beispielsweise um eine Bestellung von fehlenden Ersatzteilen zu veranlassen.
摘要翻译：本发明涉及一种用于显示的方法和用于维护的电梯或自动扶梯设备（12）的装置具有用于连接到所述设备（12）的控制器（19）的接口（14）以及显示器和控制爱立许东（11）操作参数或用于控制命令和用于建立数据连接（16）到维护中心（13）的数据连接的装置（15，17）的输入。经由数据链路（16）存储的数据和所述设备（12），用于显示和控制单元（11）的参数是可转移到在维护中心（13）一个认证。在操作参数之间的比较的函数，并转移数据和参数，故障日志，操作错误和/或问题的规范的规范来解决操作错误通过数据链路（16）被发送到维护中心（13）来部分可以被制造，例如导致缺少备件的顺序。

5. 发明申请

WO2004099878A2 VERFAHREN ZUR VERMEIDUNG VON KONTAMINATION UND EUV-LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：程序以防止污染和EUV光刻设备
公开(公告)号：WO2004099878A2
公开(公告)日：2004-11-18
申请号：PCT/EP2004/004824
申请日：2004-05-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEISS, Markus , WEDOWSKI, Marco , MERTENS, Bas, M. , WOLSCHRIJN, Bas, T. , VAN MIERLO, Bart, H., A., M. , KOSTER, Norbert, B. , VAN ELP, Jan , DUISTERWINKEL, Anton, E. , VAN DE RUNSTRAAT, Annemieke
发明人： WEISS, Markus , WEDOWSKI, Marco , MERTENS, Bas, M. , WOLSCHRIJN, Bas, T. , VAN MIERLO, Bart, H., A., M. , KOSTER, Norbert, B. , VAN ELP, Jan , DUISTERWINKEL, Anton, E. , VAN DE RUNSTRAAT, Annemieke
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F7/70916 , G21K1/06
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vermeidung von Kontamination der Oberflächen reflektiver optischer Elemente für den weichen Röntgen- und EUV-Wellenlängenbereich mit einer Deckschicht aus mindestens einem Übergangmetall während ihrer Bestrahlung bei Betriebswellenlänge in einem evakuierten, eine Restgasatmosphäre aufweisenden geschlossenen System, bei dem eine bestimmte Restgasatmosphäre eingestellt wird. Um eine Degradation der Oberfläche durch sowohl Ablagerungen von Kohlenstoff als auch Oberflächenoxidation zu vermeiden, wird erfindungsgemäss vorgeschlagen, dass sowohl ein reduzierendes Gas oder Gasgemisch sowie ein Sauerstoffatome aufweisendes Gas oder Gasgemisch eingeleitet werden. In Verbindung mit der Deckschicht des reflektiven optischen Elementes aus einem Übergangsmetall wird eine Degradation der Oberfläche wirksam unterbunden.
摘要翻译：本发明涉及在具有一个封闭系统中，工作波长在真空中，残余气体环境的照射期间防止了软X射线和极紫外波长范围内的至少一种过渡金属的覆盖层的反射光学元件的表面受到污染的方法，其中一定的残余气体气氛设置。由碳和表面氧化的两个存款可以避免表面的降解，本发明提出，这两个还原气体或气体混合物和表现出的气体或气体混合物的氧原子可被启动。在与反射光学元件的顶层连接由过渡金属的，表面的劣化有效地防止。

6. 发明申请

WO2003014833A3 KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003014833A3
公开(公告)日：2003-02-20
申请号：PCT/EP2002/008193
申请日：2002-07-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für eine Projektionsbelichtungsanlage, die in einem Scan-Modus entlang einer Scanrichtung mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen betrieben wird, wobei der Kollektor Licht einer Lichtquelle objektseitig aufnimmt und einen Bereich in einer bildseitigen Ebene, die von einem lokalen Koordinatensystem aufgespannt wird, wobei die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems parallel zur Scanrichtung und die x-Richtung senkrecht zur Scanrichtung ist, ausleuchtet, wobei der Kollektor aufweist: eine Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment, umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind; Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, und die Befestigungseinrichtungen Stützspeichen aufweisen, die sich in radialer Richtung der rotationssymmetrischen Spiegelschalen erstrecken. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Stützspeichen derart angeordnet sind, dass, wenn sie in die bildseitige auszuleuchtende Ebene projiziert werden, gegenüber der y-Richtung des lokalen Koordinatensystems in der bildseitigen Ebene geneigt sind.

7. 发明申请

WO2003014833A2 KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN 审中-公开
标题翻译：具有固定装置的收集器用于固定镜罩
公开(公告)号：WO2003014833A2
公开(公告)日：2003-02-20
申请号：PCT/EP2002/008193
申请日：2002-07-23
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B5/09 , G02B7/182 , G02B17/006 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/70825 , G21K1/06 , G21K5/04
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für eine Projektionsbelichtungsanlage, die in einem Scan-Modus entlang einer Scanrichtung mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen betrieben wird, wobei der Kollektor Licht einer Lichtquelle objektseitig aufnimmt und einen Bereich in einer bildseitigen Ebene, die von einem lokalen Koordinatensystem aufgespannt wird, wobei die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems parallel zur Scanrichtung und die x-Richtung senkrecht zur Scanrichtung ist, ausleuchtet, wobei der Kollektor aufweist: eine Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment, umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind; Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, und die Befestigungseinrichtungen Stützspeichen aufweisen, die sich in radialer Richtung der rotationssymmetrischen Spiegelschalen erstrecken. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Stützspeichen derart angeordnet sind, dass, wenn sie in die bildseitige auszuleuchtende Ebene projiziert werden, gegenüber der y-Richtung des lokalen Koordinatensystems in der bildseitigen Ebene geneigt sind.
摘要翻译：本发明涉及一种用于投射曝光设备的集光器，其以沿着扫描方向以≤193nm，优选地≤126nm的波长的扫描模式操作，特别优选地EUV波长是，其中，所述收集器从在物体侧的光源和一个区域，其中由本地跨越坐标系统的图像侧平面占用光，局部的y方向的坐标系平行于该扫描方向和垂直于扫描方向的X方向，照亮，其特征在于所述收集器包括：多个旋转对称的镜壳，每个镜壳包括至少第一镜部分，所述第一镜部分包括第一光学表面，其中所述镜壳围绕共同的旋转轴线彼此布置; 用于固定多个旋转对称镜壳的紧固装置，并且紧固装置具有在旋转对称镜壳的径向方向上延伸的辐条。本发明的特征在于，辐条被布置成当投影到要被照明的像侧平面中时，它们朝向图像侧平面中的局部坐标系的y方向倾斜

8. 发明申请

WO2003005332A3 INFORMATIONSTRÄGER 审中-公开
公开(公告)号：WO2003005332A3
公开(公告)日：2003-01-16
申请号：PCT/EP2002/007509
申请日：2002-07-05
申请人： WEISS, Markus
发明人： WEISS, Markus
IPC分类号： G09F15/00
摘要： Die Erfindung betrifft einen Informationsträger für Masten von Baukränen, Stromleitungen oder dergleichen, mit einer Hülle, die zur partiellen oder vollständigen Ummantelung eines Mastes in Erstreckungs- und/oder Umfangsrichtung und zur Aufnahme einer gewünschten Information oder Werbung ausgebildet ist. Aufgabe der Erfindung ist es, einen Informationsträger der genannten Art zu schaffen, bei welchem einerseits eine Fixierbarkeit des Informationsträger gegenüber einem Mast und andererseits eine Variierbarkeit von Position und/oder Geometrie des Informationsträgers mit besonders einfachen Mitteln erreicht wird. Diese Aufgabe wird durch einen gattungsgemäßen Informationsträger gelöst, der dadurch gekennzeichnet ist, dass die Hülle zur Fixierung am Mast mindestens einen volumenveränderlichen Bereich aufweist, dass die Hülle durch Vergrößerung des volumenveränderlichen Bereichs auf ein erstes, größeres Volumen kraft- und/oder formschlüssig am Mast fixierbar ist und dass die Hülle bei einem zweiten, kleineren Volumen des volumenveränderlichen Bereichs relativ zum Mast beweglich ist.

9. 发明申请

WO2002065482A3 KOLLEKTOR MIT UNGENUTZTEM BEREICH FÜR BELEUCHTUNGSSYSTEME MIT EINER WELLENLÄNGE ≤ 193 nm 审中-公开
公开(公告)号：WO2002065482A3
公开(公告)日：2002-08-22
申请号：PCT/EP2002/000608
申请日：2002-01-23
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Jochen , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Jochen , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G21K1/06
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen zur Aufnahme des Lichtes einer Lichtquelle über eine objektseitige Apertur und zur Ausleuchtung eines Bereiches in einer bildseitigen Ebene mit einer Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind, und jeder Spiegelschale ein Ringaperturelement der objektseitigen Apertur zugeordnet ist, wobei der ersten optischen Fläche ein Anfangs- und ein Endpunkt in einer Meridonalebene zugeordnet ist, wobei die Merdionalebene eine Ebene ist, welche die Rotationsachse umfasst und der Anfangspunkt der ersten optischen Fläche in der Meridionalebene einen äusseren Randstrahl und der Endpunkt der ersten optischen Fläche in der Meridonalebene einen inneren Randstrahl definiert und innerer und äusserer Randstrahl rotiert um die Rotationsachse ein Lichtbüschel begrenzen, das mindestens an der ersten optischen Fläche der Spiegelschale reflektiert wird und den Kollktor von der objektseitigen Apertur zur auszuleuchtenden Ebene durchläuft, wobei das Lichtbüschel einen genutzten Bereich zwischen mindestens zwei benachbarten Spiegelschalen definiert. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Flächenparameter und die Position der Spiegelschalen derart gewählt werden, dass mindestens ein ungenutzter Bereich zwischen mindestens zwei benachbarten Spiegelschalen ausgebildet wird.

10. 发明申请

WO2014091388A3 BIOMARKER PREDICTIVE OF RESPONSIVENESS TO ALPHA 7 NICOTINIC ACETYLCHOLINE RECEPTOR ACTIVATOR TREATMENT 审中-公开
标题翻译：生物标志物对阿尔法7烟碱乙酰胆碱受体激活剂治疗反应的预测
公开(公告)号：WO2014091388A3
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：PCT/IB2013060744
申请日：2013-12-09
申请人： NOVARTIS AG , FEUERBACH DOMINIK , GOMEZ-MANCILLA BALTAZAR , HE YUNSHENG , JOHNS DONALD , LOPEZ-LOPEZ CRISTINA , MCALLISTER KEVIN HALL , PEZOUS NICOLE , SANDFORD LISA , WEISS MARKUS
发明人： FEUERBACH DOMINIK , GOMEZ-MANCILLA BALTAZAR , HE YUNSHENG , JOHNS DONALD , LOPEZ-LOPEZ CRISTINA , MCALLISTER KEVIN HALL , PEZOUS NICOLE , SANDFORD LISA , WEISS MARKUS
IPC分类号： A61K45/06 , A61K31/44 , A61K31/4748 , A61P25/28
CPC分类号： C12Q1/6883 , A61K9/1623 , A61K9/1652 , A61K9/2018 , A61K9/2054 , A61K9/2059 , A61K9/2086 , A61K9/4858 , A61K9/4866 , A61K31/439 , A61K31/444 , A61K45/06 , C12Q2600/106 , C12Q2600/156 , C12Q2600/158 , A61K2300/00
摘要： The invention provides methods for predicting therapeutic responsiveness of a subject suffering from cognitive impairments or dysfunctions, psychotic and/or neurodegenerative disorders to an alpha 7 nicotinic acetylcholine receptor activator treatment.
摘要翻译：本发明提供了用于预测患有认知障碍或功能障碍，精神病和/或神经退行性障碍的对象对α7烟碱乙酰胆碱受体激活剂治疗的治疗反应性的方法。

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