专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2013156278A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的光学系统
公开(公告)号：WO2013156278A1
公开(公告)日：2013-10-24
申请号：PCT/EP2013/056442
申请日：2013-03-26
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SÄNGER, Ingo , SCHLESENER, Frank
发明人： SÄNGER, Ingo , SCHLESENER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/3066 , G02B5/3075 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, in particular for operation in the EUV, comprising at least one polarization-influencing arrangement (100, 200,...) having a first reflection surface (110, 210,...) and a second reflection surface (120, 220,...), wherein the first reflection surface (110, 210,...) and the second reflection surface (120, 220,...) are arranged at an angle of 0°±10° or at an angle of 90°±10° relative to one another, wherein light incident on the first reflection surface (110, 210,...) during the operation of the optical system forms an angle of 45°±5° with said first reflection surface, and wherein the polarization-influencing arrangement (100, 200,...) is rotatable about a rotation axis (A) running parallel to the light propagation direction of light incident on the first reflection surface (110, 210,...) during the operation of the optical system.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的光学系统，特别是用于在EUV中操作的光学系统，包括至少一个具有第一反射表面（110,210，...）的偏振影响装置（100,200，...） ...）和第二反射表面（120,220，...），其中所述第一反射表面（110,210，...）和所述第二反射表面（120,220，...）角度为0°±10°或相对于彼此为90°±10°的角度，其中在光学系统的操作期间入射在第一反射表面（110,210，...）上的光形成角度 45°±5°，并且其中所述偏振影响装置（100,200，...）能够围绕与入射在所述第一反射面上的光的光传播方向平行的旋转轴线（A）旋转在光学系统的操作期间的表面（110,210，...）。

2. 发明申请

WO2013013947A2 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置的光学系统及微型曝光方法
公开(公告)号：WO2013013947A2
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：PCT/EP2012/063102
申请日：2012-07-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank , HENNERKES, Christoph
发明人： SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank , HENNERKES, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/10 , G02B27/28 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B27/283 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： The disclosure relates to optical systems of a microlithographic projection exposure apparatus, and to a microlithographic exposure method. According to an aspect of the disclosure, an optical system has a light source, a ray-splitting optical element (110, 310, 410, 510, 706), which splits a light ray incident on this element when the projection exposure apparatus is in operation into a first partial ray (S101, S301, S401, S501, S701) and a second partial ray (S102, S302, S402, S502, S702), with the first and the second partial ray having mutually orthogonal polarization directions, and at least one ray-deflecting optical element (205, 206, 330, 340, 350, 360, 370, 470, 530, 540, 710, 720, 730, 810, 820, 830) for generating a desired polarized illumination setting from the first partial ray (S101, S301, S401, S501, S701) and the second partial ray (S102, S302, S402, S502, S702), wherein the ray-splitting optical element (110, 310, 410, 510, 706) is arranged such that light incident on this ray-splitting optical element when the projection exposure apparatus is in operation has a degree of polarization of less than one.
摘要翻译：本公开涉及微光刻投影曝光设备的光学系统，并且涉及微光刻曝光方法。根据本公开的一个方面，光学系统具有光源，当投影曝光设备处于入射时将入射在该元件上的光线分开的光线分离光学元件（110,310,410,510,706）在第一和第二部分光线具有相互正交的偏振方向的情况下将第一部分光线（S101，S301，S401，S501，S701）和第二部分光线（S102，S302，S402，S502，S702）至少一个用于从第一个偏振照明装置产生期望的偏振照明设置的光线偏转光学元件（205,206,330,340,350,360,370,470,530,540,710,720,730,810,820,830）（110,310,410,510,706）排列的部分光线（S101，S301，S401，S501，S701）和第二部分光线（S102，S302，S402，S502，S702）使得当投影曝光装置在操作中时入射到该光线分离光学元件上的光具有小于1的偏振度。

3. 发明申请

WO2013007731A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影光刻照明光学单元
公开(公告)号：WO2013007731A1
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：PCT/EP2012/063520
申请日：2012-07-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HENNERKES, Christoph , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank
发明人： HENNERKES, Christoph , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B7/1815 , G02B17/06 , G02B26/0816 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70891
摘要： An illumination optical unit for projection lithography has a first polarization mirror device (16) for the reflection and polarization of illumination light (3). A second mirror device (22), which is disposed downstream of the polarization mirror device (16), serves for the reflection of an illumination light beam (25). At least one drive device (21; 27) is operatively connected to at least one of the two mirror devices (16; 22). The two mirror devices (16; 22) are displaceable relative to one another with the aid of the drive device (21; 27) between a first relative position, which leads to a first beam geometry of the illumination light beam (25) after reflection at the second mirror device (22), and a second relative position, which leads to a second beam geometry of the illumination light beam (25) after reflection at the second mirror device (22), which is different from the first beam geometry. This results in a flexible predefinition of different illumination geometries, in particular of different illumination geometries with rotationally symmetrical illumination.
摘要翻译：用于投影光刻的照明光学单元具有用于照明光（3）的反射和偏振的第一偏振镜装置（16）。设置在偏振镜装置（16）下游的第二镜装置（22）用于照明光束（25）的反射。至少一个驱动装置（21; 27）可操作地连接到两个反射镜装置（16; 22）中的至少一个。借助于驱动装置（21; 27），两个反射镜装置（16; 22）可相对于彼此移动，该第一相对位置在第一相对位置之间，该第一相对位置在反射之后导致照明光束（25）的第一光束几何形状在第二反射镜装置（22）和第二相对位置，其在第二反射镜装置（22）反射之后导致照明光束（25）的第二光束几何形状，其与第一光束几何形状不同。这导致不同照明几何形状的灵活预定义，特别是具有旋转对称照明的不同照明几何形状。

4. 发明申请

WO2012166204A1 FLY'S EYE OPTICAL MIRROR WITH A PLURALITY OF OPTICAL ELEMENTS ROTATIONALLY ALIGNED ALONG TWO AXES 审中-公开
标题翻译：具有多个光学元件的FLY'S EYE光学镜像在两个轴上旋转对齐
公开(公告)号：WO2012166204A1
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/US2011/065614
申请日：2011-12-16
申请人： NIKON CORPORATION , PHILLIPS, Alton H.
发明人： PHILLIPS, Alton H.
IPC分类号： G02B26/12
CPC分类号： G02B7/1822 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B7/1815 , G02B27/0905 , G02B27/0977 , G03F7/70008 , G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要： A fly's eye mirror including first and second complementary M x N arrays, each including a plurality of faceted reflective surfaces arranged along both the first and the second axes. When assembled, the two complementary arrays are integrated together and mounted onto a common base plate. With the increased lineal length of each array along both axes, the faceted reflective surfaces of each array are in rotational or tilt alignment with a base plate along both axes.
摘要翻译：飞眼镜包括第一和第二互补M×N阵列，每个阵列包括沿着第一和第二轴线布置的多个刻面反射表面。组装时，两个互补阵列集成在一起并安装在公共基板上。随着沿着两个轴的每个阵列的线性长度增加，每个阵列的刻面反射表面沿着两个轴线与基板旋转或倾斜对准。

5. 发明申请

WO2011012148A1 OPTICAL BEAM DEFLECTING ELEMENT AND METHOD OF ADJUSTMENT 审中-公开
标题翻译：光束偏移元件和调整方法
公开(公告)号：WO2011012148A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2009/005555
申请日：2009-07-31
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUNDE, Daniel , DOLL, Florian , VÖLKEL, Reinhard , WEIBLE, Kenneth, J. , WEISS, Gundula , GERHARD, Michael
发明人： RUNDE, Daniel , DOLL, Florian , VÖLKEL, Reinhard , WEIBLE, Kenneth, J. , WEISS, Gundula , GERHARD, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70108 , G03F7/70158
摘要： An optical beam deflecting element (BDE) for generating a radiation beam having rays according to a predefined angular distribution by changing an angular distribution of rays in a radiation beam incident on the beam deflecting arrangement comprises first deflecting structures arranged in a first deflecting region (DR1) generating a first bundle of first rays, each of the first rays having a propagation direction corresponding to a ray angle within a predefined distribution of ray angles, the first rays having first intensities according to a first intensity distribution; and second deflecting structures arranged in a second deflecting region (DR2), laterally offset relative to the first deflecting region, generating a second bundle of second rays, each second ray having a propagation direction corresponding to a ray angle within the predefined distribution of ray angles, the second rays having second intensities according to a second intensity distribution, which differs from the first intensity distribution. The beam deflecting element may be used effectively as an energy distribution manipulator in an illumination system to vary the energy distribution within a given spatial intensity distribution in a pupil plane (PILL) of the illumination system substantially without changing the shape and size and position of illuminated areas in the pupil plane.
摘要翻译：一种光束偏转元件（BDE），用于通过改变入射在光束偏转装置上的辐射束中的光线的角度分布来产生具有根据预定角度分布的射线的辐射束，包括布置在第一偏转区域（DR1）中的第一偏转结构）产生第一束第一射线，所述第一射线中的每一个具有对应于预定射线角度分布内的射线角度的传播方向，所述第一射线具有根据第一强度分布的第一强度; 和布置在第二偏转区域（DR2）中的第二偏转结构，相对于第一偏转区域横向偏移，产生第二束第二射线，每个第二射线具有对应于预定分布的射线角度内的射线角度的传播方向所述第二光线具有与第一强度分布不同的第二强度分布的第二强度。光束偏转元件可以有效地用作照明系统中的能量分配操纵器，以在照明系统的光瞳平面（PILL）内的给定空间强度分布内改变能量分布，基本上不改变照明的形状，尺寸和位置瞳孔中的区域。

6. 发明申请

WO2010032585A1 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：照明光学系统，光刻设备和制造设备的方法
公开(公告)号：WO2010032585A1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：PCT/JP2009/064652
申请日：2009-08-21
申请人：株式会社ニコン , 田中裕久 , 水野恭志 , 谷津修 , 山本雅也
发明人：田中　裕久 , 水野　恭志 , 谷津　修 , 山本　雅也
IPC分类号： H01L21/027 , G02B5/00 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70108
摘要：　光源（１）からの光で被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ（８）を有し、このオプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系（３，４，７，８）と、照明瞳の直前または直後の位置に配置されて、被照射面上の１点に向かう光を減光する減光部材（９；９１，９２）とを備えている。減光部材は、被照射面の所定方向（Ｙ方向）に沿った一方の周辺における１点に向かう光の減光部材による減光率よりも他方の周辺における１点に向かう光の減光部材による減光率の方が大きいような姿勢で配置されている。
摘要翻译：一种用于利用来自光源（1）的光照射照射平面（M; W）的照明光学系统设置有光学积分器（8），形成光束的分布形成光学系统（3,4,7,8）在比光学积分器更远的背侧的照明光瞳处的光瞳强度分布以及设置在照明光瞳正前方或之后的位置处的减光部件（9; 91,92）减少了到达点在照射的平面上。减光部件的姿态被布置成使得减少沿着照射平面的预定方向（Y方向）的一侧附近的光的减光部件的减光率小于减光组件的光减少率减少了到另一个附近的光。

7. 发明申请

WO2009152867A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：微观投影曝光装置和微观曝光方法的光学系统
公开(公告)号：WO2009152867A1
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：PCT/EP2008/057900
申请日：2008-06-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael
发明人： TOTZECK, Michael
IPC分类号： G02B27/18 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B27/642 , G03F7/70108 , G03F7/70125 , G03F7/70341 , G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and to a microlithographic exposure method. An optical system of amicrolithographic projection exposure apparatus comprises an image rotator (50, 50), which is arranged in said optical system such that light impinging on the image rotator (50, 50) is at least partially polarized, wherein the image rotator (50, 50) rotates, for light impinging on the image rotator (50, 50), both the intensity distribution and the polarization distribution of through a given angle of rotation.
摘要翻译：本发明涉及微光刻投影曝光装置和微光刻曝光方法的光学系统。微光刻投影曝光装置的光学系统包括：图像旋转器（50,50），其布置在所述光学系统中，使得入射到图像旋转器（50,50）上的光至少部分地偏振，其中图像旋转器（50,50），50）旋转，用于通过给定旋转角度的光照射在图像旋转器（50,50）上的光强度分布和偏振分布。

8. 发明申请

WO2009128293A1 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：空调光调制装置，照明光学系统，曝光装置及制造装置的方法
公开(公告)号：WO2009128293A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/JP2009/053630
申请日：2009-02-27
申请人：株式会社ニコン , 谷津修 , 田中裕久 , 大和壮一
发明人：谷津修 , 田中裕久 , 大和壮一
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70108
摘要：　所要の機能を所要期間に亘って安定的に発揮することのできる空間光変調ユニット。光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系と共に用いられ、照明光学系の瞳面に所望の光強度分布を形成するための空間光変調ユニット（３）は、二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、入射した光に空間的な光変調を付与して射出する第１空間光変調器（３ａ）および第２空間光変調器（３ｂ）と、入射光を複数の光に分割し、該複数の光のうちの第１の光を第１空間光変調器へ導き且つ複数の光のうちの第２の光を第２空間光変調器へ導く分割導光部材（３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆ）とを備えている。
摘要翻译：公开了一种能够在所需时间内稳定地施加所需功能的空间光调制单元。空间光调制单元（3）与照明光学系统一起使用，以照射来自光源的光照射被照射物体表面，并在照明光学系统的光瞳表面上形成期望的光强度分布。空间光调制单元（3）由对入射光施加空间光调制并投影具有二维排列和独立控制的多个光学元件的调制入射光的第一和第二空间光调制器（3a，3b）组成; 以及将入射光分为多个光分量的分光导向构件（3c，3d，3e，3f），将多个光分量中的第一光分量引导到第一空间光调制器，同时将多个光中的第二光分量分量到第二空间光调制器。

9. 发明申请

WO2009060745A1 制御装置、露光方法、及び露光装置审中-公开
标题翻译：控制装置，曝光方法和曝光装置
公开(公告)号：WO2009060745A1
公开(公告)日：2009-05-14
申请号：PCT/JP2008/069455
申请日：2008-10-27
申请人：株式会社ニコン , 大和壮一
发明人：大和壮一
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/20 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70291
摘要：　複数種類のパターンが混在するマスクパターンを高いスループットで、かつそれぞれ照明条件を最適化して露光できる露光方法である。パルス発光される照明光（ＩＬ）でウエハ（Ｗ）を露光する露光方法であって、照明光（ＩＬ）によって照明される複数の第１のミラー要素（３）を含む第１の空間光変調器（１３）からの光を複数の第２のミラー要素（５）を含む第２の空間光変調器（２５）へ導光し、第２の空間光変調器（２５）からの光でウエハ（Ｗ）を露光するとともに、第２の空間光変調器（２５）の変調状態を制御する第１工程と、第１の空間光変調器（１３）と第２の空間光変調器（２５）との間の所定面上における照明光（ＩＬ）の強度分布を制御するために、第１の空間光変調器（１３）の変調状態を制御する第２工程と、を有する。
摘要翻译：提供一种曝光方法，其可以在优化照明条件的同时，以高生产量执行具有多种类型的图案的主图案的曝光。曝光方法用脉冲发射照明光（IL）进行晶片（W）的曝光。该方法包括：第一步骤，用于将具有由照明光（IL）照射的多个第一反射镜元件（3）的第一空间光调制器（13）引入具有多个第一空间光调制器第二反射镜元件（5），以便将晶片（W）暴露于来自第二空间光调制器（25）的光，并控制第二空间光调制器（25）的调制状态。以及第二步骤，用于控制第一空间光调制器（13）的调制状态，以便控制第一空间光调制器（13）和第二空间光之间的预定平面上的照明光（IL）的强度分布调制器（25）。

10. 发明申请

WO2007119840A1 回折光学素子、および該素子を備えた露光装置审中-公开
标题翻译：衍射光学元件，以及配有该元件的对准器
公开(公告)号：WO2007119840A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/058227
申请日：2007-04-10
申请人：大日本印刷株式会社 , 登山伸人 , 堀口竜二
发明人：登山伸人 , 堀口竜二
IPC分类号： H01L21/027 , G02B5/18 , G02B5/32 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/18 , G02B5/1838 , G03F7/70108 , G03F7/70158
摘要：本発明は、半導体用露光装置等の照明光学系で用いられる瞳フィルタを透過する照明光の光量の減少を防ぎ、半導体露光の効率を高め、光近接効果による補正を施す際の負荷を低減し、マスクパターンピッチによりウェーハ上に結像するパターン寸法が変動することがなく、安定した高解像の光学像が得られる瞳フィルタを提供するもので、光源より発した光を照明光学系を介してマスクに照射し、マスク上のパターンを投影光学系を介して被露光基板上へ投影露光する露光装置の照明光学系で用いられる瞳フィルタ形成用の回折光学素子であって、回折光学素子により形成される瞳フィルタが２つの光透過部（１１）を備えた二重極瞳であり、２つの光透過部（１１）は前記瞳フィルタの中心から所定の距離に対称の扇状形状をなし、２つの光透過部（１１）の間が光低透過率領域（１２）からなり、２つの光透過部（１１）および光低透過率領域（１２）の外側が遮光部（１３）であることを特徴とする。
摘要翻译：提供了一种用于诸如半导体对准器的照明光学系统的光瞳滤光器，其中通过防止通过光瞳滤光器的照明光的量减少而增加了半导体的曝光效率，当通过光接近效应进行校正时，负载减小通过掩模图案间距不改变形成在晶片上的图案的尺寸，并且获得稳定的高分辨率光学图像。一种衍射光学元件，用于形成用于对准器的照明光学系统中的光瞳滤光器，用于通过照明光学系统对来自光源的光照射掩模，以及将掩模上的图案曝光到待暴露于基底上的裸片投影光学系统，其特征在于，由衍射光学元件形成的光瞳滤光器是配备有两个透光部分（11）的双极光瞳，两个光透射部分（11）各自具有在距离瞳孔滤光器的中心，在两个透光部分11之间存在低透光率区域（12），两个光透射部分（11）和低透光率区域（12）的外侧是阴影部分（13）。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式