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1. 发明申请

WO2020183707A1 走査光学系及び走査レンズ审中-公开
公开(公告)号：WO2020183707A1
公开(公告)日：2020-09-17
申请号：PCT/JP2019/010570
申请日：2019-03-14
申请人：ナルックス株式会社
发明人：桑垣内　智仁
IPC分类号： G02B26/10 , B41J2/47 , G02B3/00 , G02B13/18 , G02B13/24 , G02B26/12 , H04N1/113
摘要：面上の走査方向をy軸、該面に垂直に入射する主光線をz軸、該主光線の該偏向器の反射点を原点、原点から該面までの距離をL、該面上における走査経路の長さをW、主光線が該走査レンズの出射面を通過する点のy座標の最大値及び最小値をそれぞれｙmax及びｙmin、該点における該出射面の主走査方向の曲率をｃ、材料の屈折率をｎとし、該点における主走査方向のパワーΦ = (1－n)・ｃを定義し、ｙminから0.6ｙmin及び0.6ｙmaxからｙmaxの範囲におけるdΦ/dyの絶対値の最大値を|dΦ/dy|outとし、0.6ｙminから0.6ｙmaxの範囲におけるdΦ/dyの絶対値の最大値を|dΦ/dy |inとして、 0.54 ≦ L／W ≦ 0.64 |dΦ/dy|out／|dΦ/dy |in ≦ 0.5 を満たす走査光学系。

2. 发明申请

WO2017130524A1 内視鏡审中-公开
标题翻译：内镜
公开(公告)号：WO2017130524A1
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：PCT/JP2016/083692
申请日：2016-11-14
申请人：オリンパス株式会社
发明人：曾根伸彦
IPC分类号： A61B1/00 , G02B13/04 , G02B13/24 , G02B23/26
CPC分类号： A61B1/00 , G02B13/04 , G02B13/24 , G02B23/26
摘要：通常観察状態と近接観察状態の両方の状態において、良好に観察が可能な内視鏡を提供する。　少なくとも１つ以上のレンズが可動し、通常観察状態と近接観察状態の切り替えが可能な対物光学系１１と、体内を照射するための複数の照明光学系１２ａ、１２ｂ、１２ｃと、を有する内視鏡１００であって、対物光学系１１は、近接観察状態において、周辺部の光線を制限するための絞りＭＳを有し、かつ、以下の条件式（１）を満たす。　５＜（ｒｄ 2 ／φ Ｌ 2 ）／Ｉｃ＜２０　（１）　ここで、　ｒｄは、照明光学系のうち、最も物体面側のレンズの中心と、対物光学系のうち、最も物体面側のレンズの中心と、の距離、　φ Ｌは、照明光学系のうち、最も物体面側のレンズの直径、　Ｉｃは、対物光学系による、像面の中心部の照度に対する周辺部の照度の比、である。
摘要翻译：提供了在正常观察状态和接近观察状态都能够令人满意地观察的内窥镜。物镜光学系统11，其能够移动至少一个以上的透镜并能够在通常观察状态和近距离观察状态之间切换;以及多个照明光学系统12a，12b，12c，其用于照射身体内部物镜光学系统11具有用于限制近距离观察状态下的周边部的光线的光圈MS，满足以下的条件式（1）。（1）其中，rd是照明光学系统中的照明光学系统，rd是从照明光学系统到照明光学系统的距离，物镜光学系统中最接近物平面的透镜中心与最接近物平面的透镜中心之间的距离φL是从物平面侧 Ic是物镜光学系统中周边部分照度与图像表面中心部分照度之比。

3. 发明申请

WO2014013856A1 EXPOSURE APPARATUS, METHOD OF OBTAINING AMOUNT OF REGULATION OF OBJECT TO BE REGULATED, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE 审中-公开
标题翻译：曝光装置，获取对象的规制量的方法，程序和制造方法
公开(公告)号：WO2014013856A1
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/JP2013/067963
申请日：2013-06-25
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： FUKAGAWA, Youzou , TAKANO, Yoshimi , KUBO, Satoshi
IPC分类号： H01L21/027 , G02B7/02 , G02B13/24 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B7/005 , G02B27/0012 , G03F7/70258
摘要： The present invention provides an exposure apparatus including a projection device including an object whose at least one of a position, an attitude and a shape is regulatable, and configured to project light from a reticle onto a substrate, a regulating device configured to regulate the at least one of the position, the attitude and the shape of the object, and a controller configured to obtain an amount of regulation of the object by the regulating device, the amount of regulation being used for regulating a first optical characteristic value of the projection device expressed by a square root of a weighted square sum of wavefront aberration coefficients of light projected by the projection device, and to control the regulating device based on the amount of regulation.
摘要翻译：本发明提供了一种曝光装置，包括：投影装置，其包括位置，姿态和形状可调节的至少一个物体，并且被配置为将光从标线投影到基板上;调节装置，物体的位置，姿态和形状中的至少一个以及被配置为通过调节装置获得物体的调节量的控制器，用于调节投影装置的第一光学特性值的调节量由投影装置投射的光的波前像差系数的加权平方和的平方根表示，并且基于调节量来控制调节装置。

4. 发明申请

WO2014010274A1 基板処理装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：基板处理装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2014010274A1
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：PCT/JP2013/058704
申请日：2013-03-26
申请人：株式会社ニコン
发明人：熊澤　雅人
IPC分类号： G03F7/24 , G02B13/24 , G02B17/08 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/24
摘要：　基板処理装置（ＥＸ）は、照明領域（ＩＲ）から発生する反射光束（Ｌ２）を基板に向けて投射させて、マスクパターンの像を基板に結像する投影光学系（ＰＬ）と、照明領域に向かう照明光と照明領域から発生する結像光束とのうち、一方を通過させて他方を反射させる光分離部（１０）と、一次光源像を形成し、一次光源像からの照明光を照明領域に照射すると共に、一次光源像と光学的に共役な第１共役面を中心線と円筒面の間に形成する照明光学系（ＩＬ）と、を備える。
摘要翻译：该基板处理装置（EX）配备有：通过投射从照明区域（IR）产生的反射光束（L2）在基板上形成掩模图案的图像的投影光系统（PL）朝向基材; 允许朝向照明区域发射的照明光或从照明区域产生的成像光束通过并反射另一个的光分离部分（10）; 以及形成初级光源图像的照明光系统（IL）将从该一次光源像向照明区域照射的光发射，并且在中心线之间形成与该照明区域光学共轭的第一共轭面和圆柱形表面。

5. 发明申请

WO2013190035A1 AN OPTICAL DEVICE INCLUDING A CAMERA, A DIAPHRAGM AND ILLUMINATION MEANS 审中-公开
标题翻译：包括摄像机，透镜和照明装置的光学装置
公开(公告)号：WO2013190035A1
公开(公告)日：2013-12-27
申请号：PCT/EP2013/062868
申请日：2013-06-20
申请人： BIOMÉRIEUX
发明人： SALVI, Guido , SANESI, Antonio
IPC分类号： G03B9/02 , G02B13/24 , G02B15/02 , G02B13/18 , G06K7/10 , G01N15/14
CPC分类号： H04N5/23212 , G02B13/24 , G02B27/0075 , G03B9/02 , G03B13/18 , G03B15/02 , G06K7/10732 , G06K7/10811 , G06K7/10831 , H04N5/2256
摘要： An optical device (1) including a fixed focus camera having a predetermined depth of field with an optical axis (55), wherein the optical device (1) comprises a diaphragm (5) positioned in the optical axis (55) of the camera and comprising a light passing aperture (53) for increasing the predetermined depth of field of said camera to provide an increased depth of field, wherein the diaphragm is attached to the camera, wherein the light passing aperture (53) of the diaphragm (5) is circular shaped within an opaque screen and positioned to have its centre point coincide with the optical axis (55) of the camera and wherein the optical device (1) further comprises illumination means evenly positioned around the optical axis (55)for evenly illuminating an object positioned within the increased depth of field of the camera.
摘要翻译：一种光学装置（1），包括具有预定景深的具有光轴（55）的固定焦距照相机，其中所述光学装置（1）包括位于所述照相机的光轴（55）中的光阑（5）包括用于增加所述相机的预定景深以提供增加的景深的光通过孔（53），其中所述隔膜附接到所述照相机，其中所述隔膜（5）的光通过孔（53）为圆形在不透明屏幕内并且定位成使其中心点与照相机的光轴（55）重合，并且其中光学装置（1）还包括围绕光轴（55）均匀定位的照明装置，用于均匀地照射物体位于相机增加的景深范围内。

6. 发明申请

WO2009107744A1 投影光学系および投影装置审中-公开
标题翻译：投影光学系统和投影设备
公开(公告)号：WO2009107744A1
公开(公告)日：2009-09-03
申请号：PCT/JP2009/053595
申请日：2009-02-26
申请人：国立大学法人東北大学 , HOYA株式会社 , 内田龍男 , 川上徹 , 阿部哲也
发明人：内田龍男 , 川上徹 , 阿部哲也
IPC分类号： G02B17/08 , G02B13/18 , G02B13/24 , G03B21/10
CPC分类号： G03B21/10
摘要：　表示素子から射出される光の像をスクリーンに投影する投影光学系であって、表示素子側から順に、正のパワーを持つ第１光学系と、正もしくは負のパワーを持つ反射面を有する第２光学系と、正のパワーを持つ反射面を有する第３光学系とを有する構成とし、該第１光学系、第２光学系、および第３光学系の各光学系を所定の条件を満たすように配置した。
摘要翻译：一种用于将从显示元件发射的光的图像投影在屏幕上的投影光学系统。投影光学系统从显示元件侧依次配备具有正光焦度的第一光学系统，具有正或负光焦度的反射面的第二光学系统，以及具有反射面的第三光学系统，积极的力量第一光学系统，第二光学系统和第三光学系统被布置成满足特定条件。

7. 发明申请

WO2005124419A1 プロジェクターレンズ及びこのプロジェクターレンズを用いたプロジェクター装置审中-公开
标题翻译：投影机镜头和投影机使用这样的投影机镜头
公开(公告)号：WO2005124419A1
公开(公告)日：2005-12-29
申请号：PCT/JP2005/010296
申请日：2005-05-31
申请人：株式会社ニコン , 鈴木憲三郎
发明人：鈴木憲三郎
IPC分类号： G02B13/24
CPC分类号： G02B15/163 , G02B13/22
摘要：　本発明のプロジェクターレンズは、投射面側から順に、前記投射面側に凸面を向けた少なくとも２枚の負メニスカスレンズを有し、正の屈折力を有する第1レンズ群と、正の屈折力を有する第２レンズ群と、前記第１レンズ群と前記第２レンズ群との間に配置される開口絞りとを備え、前記第１レンズ群は、少なくとも１枚の非球面レンズを含み、空気換算バックフォーカスをＢＦとし、最大物体高をＹとしたとき、次式５．５＜ＢＦ／Ｙ＜１５．０を満足して構成される。
摘要翻译：一种投影透镜，其从所述投影面侧依次依次包括第一透镜组，所述第一透镜组包括具有正折光力的至少两个负弯月形透镜，所述凸面朝向所述投影表面侧，所述第二透镜组具有正折光力以及设置在第一透镜组和第二透镜组之间的孔径光阑，其中第一透镜组包括至少一个非球面透镜，并且具有以下公式：5.5

8. 发明申请

WO2004019077A3 STRUCTURES AND METHODS FOR REDUCING RETARDANCE 审中-公开
标题翻译：减少阻力的结构和方法
公开(公告)号：WO2004019077A3
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/US0326164
申请日：2003-08-21
申请人： OPTICAL RES ASSOCIATES
发明人： MCGUIRE JAMES P JR
IPC分类号： G02B5/18 , G02B20060101 , G02B3/00 , G02B5/30 , G02B9/00 , G02B13/14 , G02B13/18 , G02B13/24 , G02B17/08 , G02B27/28 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , Y10S359/90
摘要： An optical system (100 in Fig. 2) includes multiple cubic crystalline optical elements (e.g., A1, A3-5, A8-A20) and one or more uniaxial birefringent elements (id.) in which the crystal lattices of the cubic crystalline optical elements are oriented with respect to each other to reduce the effects of intrinsic birefringence and produce a system with reduced retardance. The net retardance of the system is reduced by the cancellation of retardance contributions from the multiple cubic crystalline optical elements and the uniaxial birefringent element. The optical system may be used in a photolithography tool to pattern substrates such as semiconductor substrates and thereby produce semiconductor devices.
摘要翻译：光学系统（图2中的100）包括多个立方晶体光学元件（例如，A1，A3-5，A8-A20）和一个或多个单轴双折射元件（id。），其中立方晶体光学晶体元件相对于彼此定向以减少固有双折射的影响并产生具有减小的延迟的系统。通过消除来自多个立方晶体光学元件和单轴双折射元件的延迟贡献来减小系统的净延迟。光学系统可以用于光刻工具中以对诸如半导体衬底的衬底进行图案化，从而制造半导体器件。

9. 发明申请

WO2005001543A1 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：投影光学系统，曝光系统和设备生产方法
公开(公告)号：WO2005001543A1
公开(公告)日：2005-01-06
申请号：PCT/JP2004/008732
申请日：2004-06-22
申请人：株式会社ニコン , 大村泰弘
发明人：大村泰弘
IPC分类号： G02B13/24
CPC分类号： G03F7/70241 , G02B9/64 , G02B13/24
摘要：　十分に大きな像側開口数および十分に広い実効結像領域を確保しつつ、諸収差が良好に補正された小型で高解像の投影光学系。正屈折力の第１レンズ群Ｇ１と、負屈折力の第２レンズ群Ｇ２と、正屈折力の第３レンズ群Ｇ３と、負屈折力の第４レンズ群Ｇ４と、正屈折力の第５レンズ群Ｇ５と、負屈折力の第６レンズ群Ｇ６とを備えている。各レンズ群の間には第１リレー系Ｒ１２～第５リレー系Ｒ５６が配置され、各リレー系は少なくとも１つの非球面形状の光学面を含む。
摘要翻译：一种小型，高分辨率的投影光学系统，其确保足够大的图像侧数值孔径和足够大的有效成像区域，其具有有利地校正的各种像差，并且包括正折射率第一透镜组（G1），负正折射率第二透镜组（G2），正折射光焦度第三透镜组（G3），负折射光焦度第四透镜组（G4），正折射光焦度第五透镜组（G5）和负折射力第六透镜组（G6）。通过第五中继系统（R56）的第一继电器系统（R12）分别设置在相应的透镜组之间，每个中继系统包括至少一个非球面光学平面。

10. 发明申请

WO2003023481A1 光学系、投影光学系、この投影光学系を備えた露光装置、及びこの露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：光学系统，投影光学系统，具有投影光学系统的曝光装置以及使用曝光装置制造微型装置的方法
公开(公告)号：WO2003023481A1
公开(公告)日：2003-03-20
申请号：PCT/JP2002/008726
申请日：2002-08-29
申请人：株式会社ニコン , 大村泰弘
发明人：大村泰弘
IPC分类号： G02B13/24
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B1/02 , G02B3/06 , G02B13/143 , G02B17/08 , G03F7/70258
摘要： An optical system capable of adjusting the rotation-asymmetric optical characteristics for example, rotation-asymmetric astigmatism and magnification error component with respect to the optical axis of the optical system without degrading the focusing performance by the effect of double refraction. In this optical system, a toric lens formed of fluorite and having rotation-asymmetric power and a corrected lens formed of fluorite form a pair, and the corrected lens is disposed so that the crystal axis thereof is in a predetermined positional relationship with respect to the crystal axis of the toric lens. The toric lens and the corrected lens are rotatable around the optical axis, and movable across the optical axis, and the predetermined positional relationship can be maintained even when the toric lens is rotated and moved.
摘要翻译：一种光学系统，其能够相对于光学系统的光轴调节旋转非对称光学特性，例如旋转对称散光和放大误差分量，而不会因双折射的影响而降低聚焦性能。在该光学系统中，由萤石形成并具有旋转非对称力的复曲面透镜和由萤石形成的校正透镜形成一对，并且校正透镜被设置为使得其晶轴相对于复曲面透镜的晶轴。复曲面透镜和经修正的透镜可围绕光轴旋转并且可跨越光轴移动，并且即使当复曲面镜片旋转和移动时也可以保持预定的位置关系。

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