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    • 9. 发明申请
    • GALLIUMNITRID-BASIERTE LED UND IHR HERSTELLUNGSVERFAHREN
    • 氮化镓基于LED及其制造方法
    • WO2003009399A1
    • 2003-01-30
    • PCT/DE2002/002677
    • 2002-07-19
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHHAHN, BertholdHANGLEITER, AndreasHÄRLE, Volker
    • HAHN, BertholdHANGLEITER, AndreasHÄRLE, Volker
    • H01L33/00
    • H01L33/007H01L33/02H01L33/32
    • Es wird ein Verfahren zum Herstellen einer lichtemittierenden Vorrichtung auf Basis eines Galliumnitrid-basierten Verbindungshalbleiters vorgeschlagen, mit einer lichtemittierenden Schicht (2) mit einer ersten und einer zweiten Hauptfläche, die aus einem Verbindungshalbleiter auf Galliumnitridbasis gebildet ist; einer ersten Überzugsschicht (3), die mit der ersten Hauptfläche der lichtemittierenden Schicht (2) verbunden und aus einem n-Typ-Verbindungshalbleiter auf Galliumnitridbasis gebildet ist, dessen Zusammensetzung sich von derjenigen des Verbindungshalbleiters der lichtemittierenden Schicht unterscheidet; und einer zweiten Überzugsschicht (4), die mit der zweiten Hauptfläche der lichtemittierenden Schicht (2) verbunden und aus einem p-Typ-Verbindungshalbleiter auf Galliumnitridbasis gebildet ist, dessen Zusammensetzung sich von derjenigen des Verbindungshalbleiters der lichtemittierenden Schicht unterscheidet. Zur Verbesserung der Lumineszenzausbeute der Vorrichtung (1) ist die Dicke der lichtemittierenden Schicht (2) in der Nähe von Versetzungen (10) geringer als im übrigen Be-reich ausgebildet.
    • 所以建议制造光基于一个氮化镓基化合物半导体发光器件的方法,用(2),具有第一和被氮化镓系化合物半导体形成的第二主表面上的发光层; 的第一涂层(3),其连接到所述发光层(2)的第一主表面和n型化合物半导体氮化镓其组成不同于所述发光层的化合物半导体的不同的形成; 并且连接到所述发光层(2)的所述第二主表面和p型化合物半导体氮化镓其组成不同于所述发光层的化合物半导体的不同所形成的第二涂层(4)。 为了提高所述设备(1)的发光层的厚度(2)大于富处于另一位错的附近(10)少的发光效率。