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1. 发明申请

WO2011082872A1 OPTISCHES ELEMENT MIT EINER MEHRZAHL VON REFLEKTIVEN FACETTENELEMENTEN 审中-公开
标题翻译： WITH ELEMENTS反射面中的几个光学元件
公开(公告)号：WO2011082872A1
公开(公告)日：2011-07-14
申请号：PCT/EP2010/067520
申请日：2010-11-16
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH , KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G02B5/09 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0816 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B7/1822 , G02B27/0927 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage umfassend eine Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen (1) mit jeweils mindestens einer reflektiven Fläche (5). Dabei ist mindestens ein Facettenelement drehbar (1) um eine Drehachse (9) angeordnet, wobei die Drehachse (9) die mindestens eine reflektive Fläche (5) dieses Facettenelementes (1) schneidet. Mit Hilfe eines solchen optischen Elements kann auf einfache Weise die Richtung und/oder die Intensität zumindest eines Teils der Beleuchtungsstrahlung innerhalb der Beleuchtungsoptik verändert werden.
摘要翻译：本发明涉及用于光学元件的EUV微光刻投射曝光设备，包括：（1）多个反射面元件的照明光学部件各自具有至少一个反射表面（5）。至少一个面可旋转地元件（1）被布置成绕旋转轴线（9），其中所述旋转轴线（9）的至少一个反射表面（5）相交此小面元件（1）。利用这样的光学元件的以简单的方式帮助的方向和/或照明辐射的至少一部分的强度可以在照明光学部件内变化。

2. 发明申请

WO2009132756A1 ILLUMINATION OPTICS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY AND ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING AN ILLUMINATION OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用于EUV微结构和照明系统的照明光学和包含这种类型的照明光学的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009132756A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/002584
申请日：2009-04-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70083
摘要： An illumination optics for EUV microlithography serves for guiding an illumination light bundle from a radiation source to an object field with an extension ratio between a longer field dimension (x) and a shorter field dimension (y), the ratio being considerably greater than 1. A field facet mirror (13) has a plurality of field facets (19) for setting defined illumination conditions in the object field. A following optics downstream of the field facet mirror (13) serves for transmitting the illumination light into the object field (5). The following optics comprises a pupil facet mirror (14) with a plurality of pupil facets (27). The field facets (19) are in each case individually allocated to the pupil facets (27) so that portions of the illumination light bundle (10) impinging upon in each case one of the field facets (19) are guided on to the object field (5) via the associated pupil facet (27). The field facet mirror (13) not only comprises a plurality of basic illumination field facets (19 G ) which provide a basic illumination of the object field (5) via associated basic illumination pupil facets (27 G ) but also a plurality of correction illumination field facets (19 K ) which provide for a correction of the illumination of the object field (5) via associated correction illumination pupil facets (27 K ). The result is an illumination optics which allows unwanted variations of illumination parameters, for instance an illumination intensity distribution or an illumination angle distribution, to be corrected across the object field.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学器件用于将照明光束从辐射源引导到物场，其具有在较长场尺寸（x）和较短场尺寸（y）之间的延伸比，该比率远大于1。场面反射镜（13）具有多个场面（19），用于在对象场中设定定义的照明条件。场面反射镜（13）下游的跟随光学器件用于将照明光发射到物场（5）中。以下光学器件包括具有多个光瞳面（27）的光瞳小面镜（14）。场分面（19）在每种情况下分别被分配给光瞳面（27），使得照射光束（10）中的每一个场景面（19）中的一个照射的部分被引导到物场（5）通过相关联的光瞳面（27）。场面反射镜（13）不仅包括通过相关联的基本照明光瞳（27G）提供对象场（5）的基本照明的多个基本照明场面（19G），而且还包括多个校正照明场面（19K），其经由相关联的校正照明光瞳面（27K）提供对物场（5）的照明的校正。结果是照明光学元件允许在整个对象场校正照明参数的不期望的变化，例如照明强度分布或照明角度分布。

3. 发明申请

WO2012038112A1 BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM BEWEGLICHEN FILTERELEMENT 审中-公开
标题翻译：与移动过滤元件照明光学
公开(公告)号：WO2012038112A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：PCT/EP2011/061631
申请日：2011-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： F21V9/10 , F21V9/40 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70833 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik, zur Ausleuchtung eines Objektfeldes mit Strahlung einer ersten Wellenlänge. Dabei umfasst die Beleuchtungsoptik ein Filterelement zur Unterdrückung von Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge. Das Filterelement mindestens eine obskurierend wirkende Komponente, so dass sich während des Betriebs der Beleuchtungsoptik aufgrund der obskurierend wirkenden Komponente mindestens einen Bereich (469, 471) reduzierter Intensität von Strahlung mit der ersten Wellenlänge auf einem in Lichtrichtung nach dem Filterelement angeordneten ersten optischen Element (407) der Beleuchtungsoptik ergeben. Hierbei kann das Filterelement eine Mehrzahl von Positionen einnehmen, die zu unterschiedlichen Bereichen (469, 471) reduzierter Intensität fuhren, wobei es zu jedem Punkt auf einer optischen Nutzfläche (441) des ersten optischen Elements (407) mindestens eine Position gibt, so dass der Punkt nicht in einem Bereich (469, 471) reduzierter Intensität liegt.
摘要翻译：本发明涉及的照明光学部件用于与第一波长的辐射照明物场。照明光学系统包括：用于在第二波长抑制辐射的过滤元件。该过滤器元件的至少一个obskurierend作用的组分，以使至少一个减少的辐射（的强度的照明光学部件的操作过程中，由于具有在过滤器元件的第一光学元件的布置在光方向的下游侧的第一波长的obskurierend作用的组分部分（469，471）407 ）照明光学产率。在这里，过滤器元件可以假设的减小的强度引线多个在不同的区域的位置的（469，471），其中，存在于在所述第一光学元件（407）的至少一个位置的光的区域（441）的任何位置，从而使的区域（469，471）的减小的强度是不指向。

4. 发明申请

WO2011091900A2 FACETTENSPIEGEL ZUM EINSATZ IN DER MIKROLITHOGRAFIE 审中-公开
标题翻译：用于微刻法的FACET MIRRORS
公开(公告)号：WO2011091900A2
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：PCT/EP2010/069456
申请日：2010-12-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
摘要： Ein Facettenspiegel (6; 10) dient zum Einsatz in der Mikrolithografie. Der Facettenspiegel (6; 10) hat eine Mehrzahl von Facetten (7; 11), die Ausleuchtungskanäle zur Führung von Teilbündeln von EUV-Beleuchtungslicht (3) vorgeben. Zumindest einige der Facetten (7; 11) sind mittels einer einen Aktor (31; 35) aufweisenden Verstelleinrichtung (30; 34) mit einer Bewegungskomponente (32; dz'; dz") senkrecht zu einer Facetten-Reflexionsebene (xy; x'y'; x"y") verlagerbar. Es resultiert ein Facettenspiegel, mit dem gegebene Anforderungen an das Einhalten von Soll-Beleuchtungsvorgaben, die beim Einsatz des Facettenspiegels zu erreichen sind, mit im Vergleich zum Stand der Technik geringerem Herstellungsaufwand erreicht werden.
摘要翻译：小面镜（6; 10）用于微光刻。分面镜（6; 10）具有多个小面（7; 11），其提供用于实现EUV照明光（3）的局部束的照明通道。至少一些小面（7; 11）由致动器的装置（31; 35）具有调节装置（30; 34）与一个运动分量（32; DZ“; DZ＆QUOT）垂直于端面反射平面（xy; X'Y '; x“y”）可重定位。结果是一个分面反射镜，其具有满足目标照明规格的特定要求，这可以在使用分面镜时实现，相对于现有技术的较低制造成本而言实现了

5. 发明申请

WO2012126830A1 OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：光学元件
公开(公告)号：WO2012126830A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/EP2012/054664
申请日：2012-03-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HARTJES, Joachim , FIOLKA, Damian , PNINI-MITTLER, Boaz
发明人： HARTJES, Joachim , FIOLKA, Damian , PNINI-MITTLER, Boaz
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/195
CPC分类号： G02B7/1815 , G02B5/0891 , G02B5/208 , G03F7/70891
摘要： The invention relates to an optical element for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising an optically active surface (9) and at least one cooling component for cooling the optical element, wherein the cooling component is connected to at least two separate cooling circuits and embodied in such a way that the optically active surface (9) can be cooled to a greater extent in at least one partial region than in a further partial region. The invention furthermore relates to a projection exposure apparatus comprising an optical element according to the invention.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光设备的光学元件，其包括光学活性表面（9）和用于冷却光学元件的至少一个冷却部件，其中冷却部件连接到至少两个分开的冷却回路，以使光学活性表面（9）能够在至少一个部分区域中比在另外的部分区域中更大程度地冷却。本发明还涉及包括根据本发明的光学元件的投影曝光装置。

6. 发明申请

WO2011039261A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：显微照相系统
公开(公告)号：WO2011039261A2
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/EP2010/064467
申请日：2010-09-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KIRCH, Marc , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , DEGÜNTHER, Markus , SCHWAB, Markus
发明人： KIRCH, Marc , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , DEGÜNTHER, Markus , SCHWAB, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B27/0905 , G02B27/0961 , G03F7/70066
摘要： Microlithographic projection exposure apparatus comprising an illumination device and ex projection objective), wherein, during the operation of the projection exposure apparatus, the illumination device an least partly illuminates a reticle in an object plane or the projection objective and the projection objective images this illuminated part of this object plane with a scale M onto at least one part of the wafer in the image plane, and wherein the wafer can be moved synchronously with the reticle perpendicular to the optical axis and providing a fly' s eye condenser for illuminating a plane.
摘要翻译：包括照明装置和前投影物镜的微光投影曝光装置，其中，在投影曝光装置的操作期间，照明装置至少部分地照亮物平面中的标线或投影物镜并且投影物镜将该物体平面的该被照射部分以标尺M成像到像平面中的晶片的至少一部分上，并且其中晶片可以与垂直于光轴的标线同步地移动，用于照亮飞机的聚光镜。

7. 发明申请

WO2011137917A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2011137917A1
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：PCT/EP2010/002780
申请日：2010-05-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DEGÜNTHER, Markus , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm
发明人： DEGÜNTHER, Markus , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0892 , G03F7/70116 , G03F7/70941
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a spatial light modulator (58) which varies an intensity distribution in a pupil surface (38). The modulator (58) comprises an array (62) of mirrors (64) that reflect impinging projection light (34) into directions that depend on control signals applied to the mirrors. A prism (60), which directs the projection light (34) towards the spatial light modulator (58), has a double pass surface (76) on which the projection light (34) impinges twice, namely a first time when leaving the prism (60) and before it is reflected by the mirrors (64), and a second time when entering the prism (60) and after it has been reflected by the mirrors (64). Pupil perturbation suppressing means are provided that reduce reflections of projection light (34) when it impinges the first time on the double pass surface (76), and/or prevent that light portions (78) being a result of such reflections contribute to the intensity distribution in the pupil surface (38).
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的照明系统包括改变瞳孔表面（38）中的强度分布的空间光调制器（58）。调制器（58）包括将入射投影光（34）反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向上的反射镜（64）的阵列（62）。将投射光（34）引向空间光调制器（58）的棱镜（60）具有双重表面（76），投影光（34）撞击两次，即离开棱镜时第一次（60）反射之前并且在被反射镜（64）反射之前，以及第二次当进入棱镜（60）并且被反射镜（64）反射之后。提供了瞳孔扰动抑制装置，当第一次冲击双重表面（76）时减少投影光（34）的反射，和/或防止由于这种反射而导致的光部分（78）有助于强度分布在瞳孔表面（38）。

8. 发明申请

WO2011095209A1 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2011095209A1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：PCT/EP2010/051303
申请日：2010-02-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
发明人： GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70233 , G03F7/70566
摘要： Die Erfindung betrifft eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (600) mit einer Beleuchtungseinrichtung (601) und einem Projektionsobjektiv (602), wobei die Beleuchtungseinrichtung (601) im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage (602) eine Objektebene OP des Projektionsobjektivs beleuchtet und das Projektionsobjektiv diese Objektebene auf eine Bildebene (W) abbildet, wobei die Beleuchtung der Objektebene mit linear polarisiertem Licht erfolgt, dessen Wellenlänge kleiner als 15 Nanometer (nm) ist, und wobei das Projektionsobjektiv wenigstens eine Pupille (110, 210, 310, 410, 510) aufweist, wobei wenigstens eine Begrenzungslinie dieser Pupille eine von einer Kreisform abweichende Geometrie aufweist.
摘要翻译：本发明涉及具有照明装置（601）以及投影透镜（602），其中所述照明装置（601）照射所述投射物镜的物平面OP中的投影曝光装置（602）的操作的微光刻投射曝光设备（600）和在该对象平面上的投影透镜（图像平面 W）映射，其中，所述物体面的照明与直线偏振光的波长是小于15纳米（nm），并且其中，所述投射物镜中，至少一个光瞳（110，210，310，410，510），所述进行至少一个边界线此光瞳的形状从圆形形状的几何形状偏离。

9. 发明申请

WO2012038239A1 EUV MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH A HEAT LIGHT SOURCE 审中-公开
标题翻译： EUV微电子投影曝光装置与光源
公开(公告)号：WO2012038239A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：PCT/EP2011/065175
申请日：2011-09-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/2004 , G03F7/70158 , G03F7/70891
摘要： The invention relates to an EUV microlithography projection exposure apparatus having an exposure light source for producing radiation in a first spectral range from 5 nm - 15 nm a heat light source for producing radiation in a second spectral range from 1 -50 μm. The apparatus furthermore comprises an optical system having a first group of mirrors for guiding radiation from the first spectral range along a light path such that each mirror in the first group can have a first associated intensity distribution applied to it in the first spectral range during operation of the exposure light source. In this case, the heat light source is arranged such that at least one mirror in the first group can have a second associated intensity distribution in the second spectral range applied to it during operation of the heat light source, wherein the first intensity distribution differs from the second intensity distribution essentially by a position-independent factor.
摘要翻译：本发明涉及一种具有曝光光源的EUV微光刻投影曝光装置，该曝光光源用于在5nm-15nm的第一光谱范围内产生用于在1〜50μm的第二光谱范围内产生辐射的热光源。该装置还包括具有第一组反射镜的光学系统，用于沿着光路引导来自第一光谱范围的辐射，使得第一组中的每个反射镜可以在操作期间在第一光谱范围内施加到其上的第一相关强度分布的曝光光源。在这种情况下，热光源被布置成使得第一组中的至少一个反射镜可以在加热光源的操作期间在施加到其的第二光谱范围内具有第二相关联的强度分布，其中第一强度分布不同于第二强度分布基本上是通过位置无关因子。

10. 发明申请

WO2011069881A1 EUV LIGHT SOURCE FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统的EUV光源
公开(公告)号：WO2011069881A1
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：PCT/EP2010/068699
申请日：2010-12-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： The invention concerns an EUV light source for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus. According to an aspect of the invention, an EUV light source has a radiation source unit (105), at least one target source (135) for feeding target material (132) into the beam path of the radiation source unit (105) in such a way that said target material can be excited at at least one plasma ignition position (130) by the radiation (106) produced by the radiation source unit (105) into a plasma state with the emission of EUV radiation (138), a primary mirror which forms a collector mirror (110) and which at least partially reflects EUV radiation (138) emitted by the target material (132) in such a way that the reflected EUV radiation passes into the illumination system, and a secondary mirror (120) which reflects a beam produced by the radiation source unit (105) and focuses it on to the plasma ignition position (130), wherein the beam reflected at the secondary mirror (120) after reflection at the secondary mirror (120) has a numerical aperture greater than the numerical aperture of said beam prior to reflection at the secondary mirror (120) and wherein radiation (137) reflected at the target material (132) in the plasma ignition position after focusing by the secondary mirror (120) is at least predominantly not incident on the collector mirror (110).
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光装置的照明系统的EUV光源。根据本发明的一个方面，EUV光源具有辐射源单元（105），至少一个目标光源（135），用于将目标材料（132）馈送到辐射源单元（105）的光束路径中一种方法，其中所述目标材料可以通过所述辐射源单元（105）产生的辐射（106）在至少一个等离子体点火位置（130）处被激发成具有EUV辐射（138）的发射的等离子体状态，主要反射镜，其形成收集器反射镜（110）并且以使得反射的EUV辐射进入照明系统的方式至少部分地反射由目标材料（132）发射的EUV辐射（138），以及次级反射镜（120）其反射由辐射源单元（105）产生的光束并将其聚焦到等离子体点火位置（130），其中在次级反射镜（120）反射之后在次级反射镜（120）反射的光束具有数值孔径大于数值孔径所述光束在次级反射镜（120）之前的反射之前，并且其中在由次级反射镜（120）聚焦后在等离子体点火位置处在目标材料（132）处反射的辐射（137）至少主要不会入射在收集器反射镜（110）。

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