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1. 发明申请

WO2011082872A1 OPTISCHES ELEMENT MIT EINER MEHRZAHL VON REFLEKTIVEN FACETTENELEMENTEN 审中-公开
标题翻译： WITH ELEMENTS反射面中的几个光学元件
公开(公告)号：WO2011082872A1
公开(公告)日：2011-07-14
申请号：PCT/EP2010/067520
申请日：2010-11-16
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH , KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G02B5/09 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0816 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B7/1822 , G02B27/0927 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage umfassend eine Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen (1) mit jeweils mindestens einer reflektiven Fläche (5). Dabei ist mindestens ein Facettenelement drehbar (1) um eine Drehachse (9) angeordnet, wobei die Drehachse (9) die mindestens eine reflektive Fläche (5) dieses Facettenelementes (1) schneidet. Mit Hilfe eines solchen optischen Elements kann auf einfache Weise die Richtung und/oder die Intensität zumindest eines Teils der Beleuchtungsstrahlung innerhalb der Beleuchtungsoptik verändert werden.
摘要翻译：本发明涉及用于光学元件的EUV微光刻投射曝光设备，包括：（1）多个反射面元件的照明光学部件各自具有至少一个反射表面（5）。至少一个面可旋转地元件（1）被布置成绕旋转轴线（9），其中所述旋转轴线（9）的至少一个反射表面（5）相交此小面元件（1）。利用这样的光学元件的以简单的方式帮助的方向和/或照明辐射的至少一部分的强度可以在照明光学部件内变化。

2. 发明申请

WO2009132756A1 ILLUMINATION OPTICS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY AND ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING AN ILLUMINATION OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用于EUV微结构和照明系统的照明光学和包含这种类型的照明光学的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009132756A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/002584
申请日：2009-04-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70083
摘要： An illumination optics for EUV microlithography serves for guiding an illumination light bundle from a radiation source to an object field with an extension ratio between a longer field dimension (x) and a shorter field dimension (y), the ratio being considerably greater than 1. A field facet mirror (13) has a plurality of field facets (19) for setting defined illumination conditions in the object field. A following optics downstream of the field facet mirror (13) serves for transmitting the illumination light into the object field (5). The following optics comprises a pupil facet mirror (14) with a plurality of pupil facets (27). The field facets (19) are in each case individually allocated to the pupil facets (27) so that portions of the illumination light bundle (10) impinging upon in each case one of the field facets (19) are guided on to the object field (5) via the associated pupil facet (27). The field facet mirror (13) not only comprises a plurality of basic illumination field facets (19 G ) which provide a basic illumination of the object field (5) via associated basic illumination pupil facets (27 G ) but also a plurality of correction illumination field facets (19 K ) which provide for a correction of the illumination of the object field (5) via associated correction illumination pupil facets (27 K ). The result is an illumination optics which allows unwanted variations of illumination parameters, for instance an illumination intensity distribution or an illumination angle distribution, to be corrected across the object field.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学器件用于将照明光束从辐射源引导到物场，其具有在较长场尺寸（x）和较短场尺寸（y）之间的延伸比，该比率远大于1。场面反射镜（13）具有多个场面（19），用于在对象场中设定定义的照明条件。场面反射镜（13）下游的跟随光学器件用于将照明光发射到物场（5）中。以下光学器件包括具有多个光瞳面（27）的光瞳小面镜（14）。场分面（19）在每种情况下分别被分配给光瞳面（27），使得照射光束（10）中的每一个场景面（19）中的一个照射的部分被引导到物场（5）通过相关联的光瞳面（27）。场面反射镜（13）不仅包括通过相关联的基本照明光瞳（27G）提供对象场（5）的基本照明的多个基本照明场面（19G），而且还包括多个校正照明场面（19K），其经由相关联的校正照明光瞳面（27K）提供对物场（5）的照明的校正。结果是照明光学元件允许在整个对象场校正照明参数的不期望的变化，例如照明强度分布或照明角度分布。

3. 发明申请

WO2011039261A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：显微照相系统
公开(公告)号：WO2011039261A2
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/EP2010/064467
申请日：2010-09-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KIRCH, Marc , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , DEGÜNTHER, Markus , SCHWAB, Markus
发明人： KIRCH, Marc , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm , DEGÜNTHER, Markus , SCHWAB, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B27/0905 , G02B27/0961 , G03F7/70066
摘要： Microlithographic projection exposure apparatus comprising an illumination device and ex projection objective), wherein, during the operation of the projection exposure apparatus, the illumination device an least partly illuminates a reticle in an object plane or the projection objective and the projection objective images this illuminated part of this object plane with a scale M onto at least one part of the wafer in the image plane, and wherein the wafer can be moved synchronously with the reticle perpendicular to the optical axis and providing a fly' s eye condenser for illuminating a plane.
摘要翻译：包括照明装置和前投影物镜的微光投影曝光装置，其中，在投影曝光装置的操作期间，照明装置至少部分地照亮物平面中的标线或投影物镜并且投影物镜将该物体平面的该被照射部分以标尺M成像到像平面中的晶片的至少一部分上，并且其中晶片可以与垂直于光轴的标线同步地移动，用于照亮飞机的聚光镜。

4. 发明申请

WO2011154244A1 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于EUV投影光刻的照明光学系统
公开(公告)号：WO2011154244A1
公开(公告)日：2011-12-15
申请号：PCT/EP2011/058418
申请日：2011-05-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DITTMANN, Olaf , KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , WALTER, Markus , BIELING, Stig , DÖRN, Sebastian
发明人： PATRA, Michael , DITTMANN, Olaf , KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , WALTER, Markus , BIELING, Stig , DÖRN, Sebastian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B26/0833 , G03F7/70075
摘要： An illumination optical system for EUV projection lithography for illuminating an illumination field, in which an object field of a following imaging optical system can be arranged, has a first facet mirror with a plurality of first facets (7 1 ) for the reflective guidance of part bundles of a bundle of EUV illumination light (3). A downstream second facet mirror (10) with a plurality of second facets (11) is used for the reflective guidance of the part bundles (3 1 ; 3 1' ) reflected by the first facets (7 1 ), so object field illumination channels, to which, in each case, a first (7 1 ) and a second (11 1 ; 11 1' ) facet is allocated in each case, are predetermined by the first facets (7) and the second facets (11 1 ; 11 1' ) allocated by means of the reflected bundle guidance. The reflection faces of at least some of the first facets (7 1 ) are tiltable in each case between at least one illumination tilting position to guide the part bundle along an object field illumination channel (3 1 ; 3 1' ) in the direction of one of the second facets (11 1 ; 11 1' ) and at least one switch-off tilting position to guide the part bundle in the direction of a switch-off beam path (30) not impinging on the object field. The direction of the switch-off beam path (30) differs from the direction of the object field illumination channel (3 1 ; 3 1' ). In addition, methods for predetermining a set of switch-off tilting positions of the tiltable first facets (7) are disclosed. The result is an illumination optical system, with which a fine adjustment of illumination settings to be predetermined for the illumination of the illumination field is possible.
摘要翻译：一种用于EUV投影光刻的照明光学系统，用于照亮其中可以布置后续成像光学系统的物场的照明场，具有第一刻面镜，其具有多个第一刻面（71），用于部分束的反射引导的一束EUV照明灯（3）。具有多个第二小面（11）的下游第二分面反射镜（10）用于由第一面（71）反射的部分束（31; 31'）的反射引导，因此物场照明通道在每种情况下，在每种情况下分配第一（71）和第二（111; 111'）面是由第一面（7）和第二面（111; 111'）预先分配反映束指导。第一小面（71）中的至少一些的反射面在每种情况下可在至少一个照明倾斜位置之间倾斜，以沿着物场照明通道（31; 31'）沿着物体照明通道第二小面（111; 111'）和至少一个关闭倾斜位置，以沿着不撞击物体场的关闭光束路径（30）的方向引导部分束。关闭光束路径（30）的方向与物场照明通道（31; 31'）的方向不同。此外，公开了用于预先确定可倾斜第一面（7）的一组关闭倾斜位置的方法。结果是照明光学系统，可以对照明场的照明进行预定的照明设置的微调。

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