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1. 发明申请

WO2016124399A1 A METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVING MEASUREMENT ACCURACY 审中-公开
标题翻译：一种提高测量精度的方法和装置
公开(公告)号：WO2016124399A1
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：PCT/EP2016/051080
申请日：2016-01-20
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： PANDEY, Nitesh
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01N21/4788 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70641 , G03F7/70941
摘要： An optical system (10) includes an arrangement for splitting a source beam into a measurement beam and a reference beam. The reference beam is reflected off a reflective element (42) which mounted on a delay line (44). A target (35) scatters the radiation from the measurement beam. The scattered radiation and the reference beam are brought to interfere on a detector (40) by calibrating the delay line (44). The detected interference pattern is Fourier-transformed and filtered to select a region of interest around a side-band of the Fourier-transformed interference pattern in order to remove noise caused by stray radiation that hits the detector.
摘要翻译：光学系统（10）包括用于将源光束分成测量光束和参考光束的装置。参考光束从安装在延迟线（44）上的反射元件（42）反射。目标（35）散射来自测量光束的辐射。通过校准延迟线（44）使分散的辐射和参考光束在检测器（40）上产生干涉。检测到的干涉图案被傅立叶变换和滤波，以选择傅立叶变换干涉图案的边带周围的感兴趣区域，以便消除由检测器引起的杂散辐射引起的噪声。

2. 发明申请

WO2015185269A1 METHOD FOR COMPENSATING AN EXPOSURE ERROR IN AN EXPOSURE PROCESS 审中-公开
标题翻译：在曝光过程中补偿曝光错误的方法
公开(公告)号：WO2015185269A1
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：PCT/EP2015/058870
申请日：2015-04-24
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： BERENDSEN, Christianus, Wilhelmus, Johannes , BECKERS, Marcel , CASTELIJNS, Henricus, Jozef , GERAETS, Hubertus, Antonius , KOEVOETS, Adrianus, Hendrik , LEVASIER, Leon, Martin , SCHAAP, Peter , STREEFKERK, Bob , TROMP, Siegfried, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70883 , G03F7/70033 , G03F7/70625 , G03F7/70783 , G03F7/70875 , G03F7/70891 , G03F7/70941
摘要： A method for compensating for an exposure error in an exposure process of a lithographic apparatus that comprises a substrate table, the method comprising: obtaining a dose measurement indicative of a dose of IR radiation that reaches substrate level, wherein the dose measurement can be used to calculate an amount of IR radiation absorbed by an object in the lithographic apparatus during an exposure process; and using the dose measurement to control the exposure process so as to compensate for an exposure error associated with the IR radiation absorbed by the object during the exposure process.
摘要翻译：一种用于补偿包括衬底台的光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，所述方法包括：获得表示达到衬底水平的IR辐射的剂量的剂量测量，其中所述剂量测量可以用于计算在曝光过程中由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量; 并且使用剂量测量来控制曝光过程，以便补偿在曝光过程期间被物体吸收的IR辐射相关的曝光误差。

3. 发明申请

WO2013120839A3 DEVICE FOR THE MAGNETIC-FIELD-COMPENSATED POSITIONING OF A COMPONENT 审中-公开
标题翻译：用于元件的磁场补偿定位的装置
公开(公告)号：WO2013120839A3
公开(公告)日：2013-12-27
申请号：PCT/EP2013052763
申请日：2013-02-12
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH
发明人： STOLZ MICHAEL , GERBER PETER , HEMBACHER STEFAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70941 , G02B7/1828 , G03F7/70825
摘要： A device (26) for the magnetic-field-compensated positioning of a component (25, 30) comprises a holding unit (27) for mounting the component (25, 30) and means (33) for at least partly compensating for an external magnetic field in the region of the holding unit (27).
摘要翻译：用于部件（25,30）的磁场补偿定位的装置（26）包括用于安装部件（25,30）的保持单元（27）和用于至少部分补偿外部的装置（33）在保持单元（27）的区域中的磁场。

4. 发明申请

WO2011137917A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2011137917A1
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：PCT/EP2010/002780
申请日：2010-05-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DEGÜNTHER, Markus , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm
发明人： DEGÜNTHER, Markus , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0892 , G03F7/70116 , G03F7/70941
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a spatial light modulator (58) which varies an intensity distribution in a pupil surface (38). The modulator (58) comprises an array (62) of mirrors (64) that reflect impinging projection light (34) into directions that depend on control signals applied to the mirrors. A prism (60), which directs the projection light (34) towards the spatial light modulator (58), has a double pass surface (76) on which the projection light (34) impinges twice, namely a first time when leaving the prism (60) and before it is reflected by the mirrors (64), and a second time when entering the prism (60) and after it has been reflected by the mirrors (64). Pupil perturbation suppressing means are provided that reduce reflections of projection light (34) when it impinges the first time on the double pass surface (76), and/or prevent that light portions (78) being a result of such reflections contribute to the intensity distribution in the pupil surface (38).
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的照明系统包括改变瞳孔表面（38）中的强度分布的空间光调制器（58）。调制器（58）包括将入射投影光（34）反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向上的反射镜（64）的阵列（62）。将投射光（34）引向空间光调制器（58）的棱镜（60）具有双重表面（76），投影光（34）撞击两次，即离开棱镜时第一次（60）反射之前并且在被反射镜（64）反射之前，以及第二次当进入棱镜（60）并且被反射镜（64）反射之后。提供了瞳孔扰动抑制装置，当第一次冲击双重表面（76）时减少投影光（34）的反射，和/或防止由于这种反射而导致的光部分（78）有助于强度分布在瞳孔表面（38）。

5. 发明申请

WO2011039061A1 REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR OPERATING AN EUV LITHOGRAPHY APPARATUS 审中-公开
标题翻译：反射光学元件和操作EUV光刻设备的方法
公开(公告)号：WO2011039061A1
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/EP2010/063694
申请日：2010-09-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , EHM, Dirk, Heinrich , DOCHNAHL, Axel , VON BLANCKENHAGEN, Gisela
发明人： EHM, Dirk, Heinrich , DOCHNAHL, Axel , VON BLANCKENHAGEN, Gisela
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B5/0825 , G02B5/0891 , G03F1/24 , G03F7/70316 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70941 , G03F7/70983 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/067
摘要： In order to reduce the adverse influence of contamination composed of silicon dioxide, hydrocarbons and/or metals within an EUV lithography apparatus on the reflectivity, a reflective optical element (50) for the extreme ultraviolet wavelength range having a reflective surface (59) is proposed, wherein the multilayer coating of the reflective surface (59) has a topmost layer (56) composed of a fluoride. The contaminations mentioned, which deposit on the reflective optical element (50) during the operation of the EUV lithography apparatus, are converted into volatile compounds by the addition of at least one of the substances mentioned hereinafter: atomic hydrogen, molecular hydrogen, perfluorinated alkanes such as e.g. tetrafluoromethane, oxygen, nitrogen and/or helium.
摘要翻译：为了减少由EUV光刻设备内的二氧化硅，碳氢化合物和/或金属构成的污染物对反射率的不利影响，提出了一种具有反射表面（59）的用于极紫外波长范围的反射光学元件（50），其中所述反射表面（59）的多层涂层具有由氟化物构成的最顶层（56）。在EUV光刻设备的操作期间沉积在反射光学元件（50）上的污染物通过添加至少一种以下提及的物质转化为挥发性化合物：原子氢，分子氢，全氟化烷烃例如四氟甲烷，氧，氮和/或氦。

6. 发明申请

WO2011016254A1 移動体装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：移动身体装置，曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2011016254A1
公开(公告)日：2011-02-10
申请号：PCT/JP2010/004971
申请日：2010-08-06
申请人：株式会社ニコン , 柴崎祐一
发明人：柴崎　祐一
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70133 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/70933 , G03F7/70941 , Y10T74/20354
摘要：　ステージ（ＲＳＴ）を駆動する４つＹリニアモータ（３６～３９）が、４つの固定子部（３６～３９）と６つの可動子部（２４～２９）とを含む。ここで、可動子部（２５）はＹリニアモータ（３６，３７）に、可動子部（２８）はＹリニアモータ（３８，３９）により共用されている。このため、レチクルステージ装置の可動部（レチルクステージＲＳＴ）が軽量化され、その高加速度化が可能となる。また、可動子（３０Ａ，３０Ｂ）それぞれのＺ軸方向中央に位置する可動子部（２５、２８）は、レチクルステージ（ＲＳＴ）の中立面に一致している。
摘要翻译：用于驱动载物台（RST）的四个Y线性马达（36-39）包括四个定子部分（36-39）和六个可移动元件部分（24-29）。可动元件部分（25）由Y线性马达（36,37）共用，可动元件部分（28）由Y线性马达（38,39）共用。该配置减小了标线片平台装置的可移动部分（标线片平台（RST））的重量，以增强标线片平台装置的加速度。分别位于可移动元件（30A，30B）的Z轴方向的中心的可动元件部（25,28）与标线片台（RST）的中立平面对准。

7. 发明申请

WO2010095719A1 着色セラミック真空チャックおよびその製造方法审中-公开
标题翻译：彩色陶瓷真空泵及其制造方法
公开(公告)号：WO2010095719A1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：PCT/JP2010/052553
申请日：2010-02-19
申请人：株式会社ソディック , 鈴木茂美 , 石見嘉治 , 元矢秀和
发明人：鈴木茂美 , 石見嘉治 , 元矢秀和
IPC分类号： H01L21/683 , B65G49/06 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6838 , B65G49/061 , B65G2249/045 , C04B35/117 , C04B2235/3206 , C04B2235/3208 , C04B2235/3222 , C04B2235/3232 , C04B2235/3234 , C04B2235/3241 , C04B2235/3262 , C04B2235/3272 , C04B2235/3277 , C04B2235/3418 , C04B2235/3481 , C04B2235/72 , C04B2235/80 , C04B2235/94 , C04B2235/945 , C04B2235/96 , C04B2235/963 , C04B2235/9661 , G03F7/707 , G03F7/70941 , G03F7/7095 , H01L21/6875 , Y10T279/11
摘要：本発明において、載置面に基板を吸着する着色セラミック真空チャック２は、５５～７５重量％以上のアルミナ（Ａｌ 2 Ｏ 3 ）と、酸化物（ＳｉＯ 2 ）に換算して少なくとも３重量％のＳｉと、酸化物（ＣａＯ）に換算して少なくとも０．４重量％のＣａと、酸化物（ＭｇＯ）に換算して少なくとも０．４重量％のＭｇと、着色剤と、１％以下の不純物を含む着色セラミック焼結体から成り、基板を支持する多数のピン４とリム６が砥粒によるショットブラストにより載置面に形成され、球形粒子によるショットピーニングが載置面全体に施される。
摘要翻译：用于将基材吸附在安装表面上的彩色陶瓷真空吸盘（2）由着色陶瓷烧结体制成，该陶瓷烧结体含有55-75重量％或更多的氧化铝（Al 2 O 3），至少3重量％的Si 氧化物（SiO 2），至少0.4重量％的以氧化物（CaO）计的Ca，至少0.4重量％的Mg项氧化物（MgO），着色剂和1质量％以下的杂质。通过使用研磨颗粒的喷丸，在安装表面上形成用于支撑基板的许多销（4）和边缘（6），并且使用球形颗粒将喷丸硬化施加到整个安装表面。

8. 发明申请

WO2009085094A2 EUV LIGHT SOURCE COMPONENTS AND METHODS FOR PRODUCING, USING AND REFURBISHING SAME 审中-公开
标题翻译： EUV光源组件及其生产，使用和修复方法
公开(公告)号：WO2009085094A2
公开(公告)日：2009-07-09
申请号：PCT/US2008/013416
申请日：2008-12-05
申请人： CYMER, INC. , BOWERING, Norbert, R. , BYKANOV, Alexander, N. , KHODYKIN, Oleh, V. , FOMENKOV, Igor, V
发明人： BOWERING, Norbert, R. , BYKANOV, Alexander, N. , KHODYKIN, Oleh, V. , FOMENKOV, Igor, V
IPC分类号： G01J1/42 , C23C16/22
CPC分类号： G02B5/0891 , B82Y10/00 , G01J1/429 , G03F7/70941 , G03F7/70958 , G03F7/70975 , G21K2201/061 , G21K2201/067 , H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： A method is disclosed for in-situ monitoring of an EUV mirror to determine a degree of optical degradation. The method may comprise the steps / acts of irradiating at least a portion of the mirror with light having a wavelength outside the EUV spectrum, measuring at least a portion of the light after the light has reflected from the mirror, and using the measurement and a pre-determined relationship between mirror degradation and light reflectivity to estimate a degree of multi-layer mirror degradation. Also disclosed is a method for preparing a near-normal incidence, EUV mirror which may comprise the steps / acts of providing a metallic substrate, diamond turning a surface of the substrate, depositing at least one intermediate material overlying the surface using a physical vapor deposition technique, and depositing a multi-layer mirror coating overlying the intermediate material.
摘要翻译：公开了一种用于EUV反射镜的原位监测以确定光学降解程度的方法。该方法可以包括用具有波长在EUV谱以外的波长的光照射反射镜的至少一部分的步骤/动作，在光已经从反射镜反射之后测量光的至少一部分，并且使用该测量和镜面退化和光反射率之间的预定关系，以估计多层镜面退化的程度。还公开了一种用于制备近似法线入射的EUV反射镜的方法，该反射镜可以包括提供金属基底的步骤/动作，转动基底的表面的金刚石，使用物理气相沉积沉积覆盖表面的至少一种中间材料技术，并沉积覆盖中间材料的多层镜面涂层。

9. 发明申请

WO2009043790A3 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影目标的微观算法
公开(公告)号：WO2009043790A3
公开(公告)日：2009-06-25
申请号：PCT/EP2008062835
申请日：2008-09-25
申请人： ZEISS CARL SMT AG , BEIERL HELMUT , FELDMANN HEIKO , HETZLER JOCHEN , TOTZECK MICHAEL
发明人： BEIERL HELMUT , FELDMANN HEIKO , HETZLER JOCHEN , TOTZECK MICHAEL
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B1/02 , G02B21/33 , G03F7/70941
摘要： An assembly 11 of a projection objective for microlithography comprises a number of optical elements and an aperture 14. The optical element of the assembly 11 before the last optical element oriented towards the image is a planar convex lens 12, whose convex surface 2b is oriented towards the object, and whose planar surface 2a is oriented towards the image. As a last optical element of the assembly 11 oriented towards the image, an optical terminal element 17 is provided which comprises a planar plate 19. Between the planar surface 2b of the lens 12 and the planar plate 19 of the optical terminal element 17, thus at the object oriented surface of the planar plate, and also on the image oriented surface of the planar plate of the terminal element 17 a respective immersion liquid 13b or 13a is provided. The planar plate is thus in contact with the immersion liquids 13a and 13b on both sides. By this configuration it is assured that contaminations within the immersion liquid 13a disposed on the image oriented side do not impair the planar convex lens 12. Replacing the terminal element 17 or the planar plate 19 of the terminal element 17, however, is easily possible, as soon as their imaging properties become insufficient through contamination or other impairments.
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜的组件11包括多个光学元件和孔14.在朝向图像定向的最后一个光学元件之前的组件11的光学元件是平面凸透镜12，其凸面2b朝向物体，其平面2a朝向图像。作为朝向图像的组件11的最后一个光学元件，提供了一个光学端子元件17，其包括平面板19.在透镜12的平面2b和光学端子元件17的平面板19之间，因此在平面板的物体取向表面以及端子元件17的平面板的图像取向表面上设置相应的浸液13b或13a。因此，平板与两侧的浸液13a，13b接触。通过这种结构，确保设置在图像取向侧的浸没液体13a内的污染物不会损害平面凸透镜12.然而，更换终端元件17的端子元件17或平板19是容易的，一旦它们的成像性质通过污染或其他损伤变得不足。

10. 发明申请

WO2009043790A2 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：微压印技术的投影目标
公开(公告)号：WO2009043790A2
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/EP2008/062835
申请日：2008-09-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEIERL, Helmut , FELDMANN, Heiko , HETZLER, Jochen , TOTZECK, Michael
发明人： BEIERL, Helmut , FELDMANN, Heiko , HETZLER, Jochen , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B1/02 , G02B21/33 , G03F7/70941
摘要： An assembly 11 of a projection objective for microlithography comprises a number of optical elements and an aperture 14. The optical element of the assembly 11 before the last optical element oriented towards the image is a planar convex lens 12, whose convex surface 2b is oriented towards the object, and whose planar surface 2a is oriented towards the image. As a last optical element of the assembly 11 oriented towards the image, an optical terminal element 17 is provided which comprises a planar plate 19. Between the planar surface 2b of the lens 12 and the planar plate 19 of the optical terminal element 17, thus at the object oriented surface of the planar plate, and also on the image oriented surface of the planar plate of the terminal element 17 a respective immersion liquid 13b or 13a is provided. The planar plate is thus in contact with the immersion liquids 13a and 13b on both sides. By this configuration it is assured that contaminations within the immersion liquid 13a disposed on the image oriented side do not impair the planar convex lens 12. Replacing the terminal element 17 or the planar plate 19 of the terminal element 17, however, is easily possible, as soon as their imaging properties become insufficient through contamination or other impairments.
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜的组件11包括多个光学元件和孔14.在朝向图像定向的最后一个光学元件之前的组件11的光学元件是平面凸透镜12 ，其凸面2b朝向物体取向，并且其平面表面2a朝向图像取向。作为朝向图像定向的组件11的最后一个光学元件，提供包括平面板19的光学终端元件17.因此，在透镜12的平面表面2b和光学终端元件17的平面平板19之间在平面板的物体定向表面上以及在终端元件17的平面板的图像定向表面上提供相应的浸没液体13b或13a。因此平面板在两侧与浸液13a和13b接触。通过这种配置，可以确保设置在图像取向侧的浸液13a内的污染不会损害平面凸透镜12.然而，更换端子元件17或端子元件17的平板19是容易的，只要其成像特性因污染或其他损伤而变得不足。

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