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1. 发明申请

WO2017192345A1 SILSESQUIOXANE RESIN AND OXAAMINE COMPOSITION 审中-公开
标题翻译： SILESQUIOXANE树脂和OXAINE组合物
公开(公告)号：WO2017192345A1
公开(公告)日：2017-11-09
申请号：PCT/US2017/029775
申请日：2017-04-27
申请人： DOW CORNING CORPORATION
发明人： FU, Peng-Fei , JANG, Wonbum
IPC分类号： C07F7/21 , C08K5/04 , C08L83/06
CPC分类号： G03F7/0757 , C07F7/21 , C08G77/045 , C08G77/14 , C08G77/70 , C08K5/04 , C08K5/17 , C08L83/06 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/2037 , G03F7/2039 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/0274
摘要： A silsesquioxane-containing composition comprising a silsesquioxane resin and an oxaamine of formula (II) (see description), products prepared therefrom, photoresist compositions comprising the silsesquioxane-containing composition and a photoacid generator, products prepared therefrom, methods of making and using same, and manufactured articles and semiconductor devices containing same.
摘要翻译：包含倍半硅氧烷树脂和式（II）的氧胺（参见说明书）的含倍半硅氧烷的组合物，由其制备的产物，包含含倍半硅氧烷的组合物和光酸产生剂的光刻胶组合物，由其制备的产物，制造和使用它们的方法，以及包含它们的制造品和半导体器件。

2. 发明申请

WO2017159476A1 硬化膜およびポジ型感光性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：固化膜和正型感光树脂组合物
公开(公告)号：WO2017159476A1
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：PCT/JP2017/009158
申请日：2017-03-08
申请人：東レ株式会社
发明人：首藤　勇太 , 亀本　聡 , 三好　一登
IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/004 , G03F7/20 , H01L51/50 , H05B33/10 , H05B33/22
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/322 , G03F7/40 , H01L23/49894 , H01L27/3246 , H01L27/3258
摘要：発光輝度低下や画素シュリンクを引き起さず、長期信頼性に優れた硬化膜およびポジ型感光性樹脂組成物を提供する。アルカリ可溶性樹脂（ａ）と、光酸発生剤（ｂ）と、環状アミド、環状ウレアおよびそれらの誘導体からなる群より選択される１種以上の化合物（ｃ）と、熱架橋剤（ｄ）を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜であって、前記熱架橋剤（ｄ）が、エポキシ化合物、オキセタニル化合物、イソシアネート化合物、酸性基を有するアルコキシメチル化合物および／または酸性基を有するメチロール化合物を含み、硬化膜中における化合物（ｃ）の総含有量が０．００５質量％以上５質量％以下であることを特徴とする。また前記アルカリ可溶性樹脂（ａ）、光酸発生剤（ｂ）、化合物（ｃ）、熱架橋剤（ｄ）と、有機溶媒（ｅ）を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、アルカリ可溶性樹脂（ａ）１００質量部に対して化合物（ｃ）を０．１質量部以上１５質量部以下、有機溶媒（ｅ）を１００～３０００質量部含有することを特徴とする。
摘要翻译：提供了不会导致发光亮度和像素收缩率降低的长期可靠性优异的固化膜和正型感光性树脂组合物。碱溶性树脂（a）中，光酸产生剂和（b），选自由它们的衍生物和（c），热交联剂（d）组成的组中的环状酰胺，环状脲和一种或多种化合物是其中，热交联剂（d）为环氧化合物，氧杂环丁烷基化合物，异氰酸酯化合物，具有酸性基团的酸性基团和/或羟甲基的烷氧基甲基化合物而且，固化膜中的化合物（c）的总含量为0.005质量％以上且5质量％以下。另外，含有碱溶性树脂（a），光酸产生剂（b），化合物（c），热交联剂（d）和有机溶剂（e）的正型感光性树脂组合物，可溶性树脂（A）按重量计（c）和0.1质量份至15重量份每100份化合物，其特征在于按重量计的有机溶剂（e）的含100-3000份。

3. 发明申请

WO2017108778A1 NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITIONS FOR LASER ABLATION AND PROCESSES USING THEM 审中-公开
标题翻译：用于激光烧蚀的负性光刻胶组合物和使用它们的工艺
公开(公告)号：WO2017108778A1
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：PCT/EP2016/081903
申请日：2016-12-20
申请人： AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.À.R.L.
发明人： CHEN, Chunwei , LIU, Weihong , LU, PingHung
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/36 , G03F7/38 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0035 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0382 , G03F7/095 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2022 , G03F7/2024 , G03F7/2053 , G03F7/322
摘要： A composition crosslinkable by broad band UV radiation, which after cross- linking is capable of cold ablation by a UV Excimer Laser emitting between 222 nm and 308 nm, where the composition is comprised of a negative tone resist developable in aqueous base comprising and is also comprised of a conjugated aryl additive absorbing ultraviolet radiation strongly in a range between from about 220 nm to about 310 nm. The present invention also encompasses a process comprising steps a), b) and c) a) coating the composition of claim 1 on a substrate; b) cross-linking the entire coating by irradiation with broadband UV exposure; c) forming a pattern in the cross-linked coating by cold laser ablating with a UV excimer laser emitting between 222 nm and 308 nm. Finally the present invention also encompasses The present invention also encompasses a process comprising steps a'), b') c') and d') a) coating the composition of claim 1 on a substrate; b) cross-linking part of the coating by irradiation with broadband UV exposure through a mask; c) developing the coating with aqueous base removing the unexposed areas of the film, thereby forming a first pattern; d) forming a second pattern in the first pattern by laser cold laser ablating of the first pattern with a UV excimer laser emitting between 222 nm and 308 nm.
摘要翻译：通过宽带UV辐射可交联的组合物，其在交联后能够通过在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光进行冷烧蚀，其中组合物由负性抗蚀剂组成其在水性基质中是可展开的，其包含并且还包含吸收强度在约220nm至约310nm范围内的紫外辐射的共轭芳基添加剂。本发明还包括包含步骤a），b）和c）的方法a）将权利要求1的组合物涂布在基材上; b）通过辐照宽带紫外线照射使整个涂层交联; c）通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光器的冷激光烧蚀在交联涂层中形成图案。最后，本发明还包括本发明还包括包含步骤a'），b'）c'）和d'）的方法a）将权利要求1的组合物涂布在基材上; b）通过掩模通过用宽带紫外线照射的辐照交联部分涂层; c）用水性基底显影除去膜的未曝光区域的涂层，由此形成第一图案; d）通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光器的激光冷激光烧蚀第一图案，在第一图案中形成第二图案。

4. 发明申请

WO2017102299A1 OPTICAL METROLOGY OF LITHOGRAPHIC PROCESSES USING ASYMMETRIC SUB-RESOLUTION FEATURES TO ENHANCE MEASUREMENT 审中-公开
标题翻译：用不对称子分辨率特征增强测量的光刻工艺光学计量
公开(公告)号：WO2017102299A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/079063
申请日：2016-11-29
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： SOCHA, Robert, John , WALLOW, Thomas, I.
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G06F17/5009 , G01N21/4785 , G01N2201/127 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/70616 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G06F17/18 , G06F2217/16 , G06N7/005 , G06N99/005
摘要： Provided is a process of calibrating a model, the process including: obtaining training data including: scattered radiation information from a plurality of structures, individual portions of the scattered radiation information being associated with respective process conditions being characteristics of a patterning process of the individual structures; and calibrating, using one or more processors, a model with the training data by determining a first ratio relating a change in one of the process characteristics to a corresponding change in scattered radiation information.
摘要翻译：提供了校准模型的过程，所述过程包括：获得训练数据，所述训练数据包括：来自多个结构的散射辐射信息，散射辐射信息的各个部分与作为特征的各个过程条件相关联各个结构的图案化过程; 以及使用一个或多个处理器通过确定将一个处理特性中的变化与散射辐射信息中的对应变化相关联的第一比率来校准具有训练数据的模型。

5. 发明申请

WO2017096647A1 光刻胶组合物及彩色滤光片的制作方法审中-公开
公开(公告)号：WO2017096647A1
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：PCT/CN2015/098863
申请日：2015-12-25
申请人：深圳市华星光电技术有限公司
发明人：张岳妍
IPC分类号： G03F7/004 , G02B5/20 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/0007 , G02B5/20 , G02B5/223 , G02F1/133516 , G03F7/0048 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/36 , G03F7/40
摘要：一种光刻胶组合物及彩色滤光片的制作方法。光刻胶组合物包括第一溶剂（21）、第二溶剂（22）、光起始剂（10）、单体、多聚物、添加剂、及染料，在加热后，其中的第一溶剂（21）与第二溶剂（22）会发生相分离，相分离后，所述第一溶剂（21）位于第二溶剂（22）的上层，所述光起始剂（10）、单体、多聚物、添加剂中至少一种在所述第二溶剂（22）中的溶解度高于在所述第一溶剂（21）中的溶解度，从而能够用于改善彩色滤光片制作过程中因光刻胶上下层固化程度不均而形成的褶皱问题。

6. 发明申请

WO2016175031A1 チャンバ装置、ターゲット生成方法および極端紫外光生成システム审中-公开
标题翻译：室内设备，目标产生方法和极端超紫外光发生系统
公开(公告)号：WO2016175031A1
公开(公告)日：2016-11-03
申请号：PCT/JP2016/061946
申请日：2016-04-13
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：石原　孝信 , 堀　司 , 斎藤　隆志 , 白石　裕
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , G03F7/2004 , G03F7/2008 , H05G2/008
摘要：本開示の一態様によるチャンバ装置は、チャンバ（２）と、チャンバに組み付けられ、チャンバ内の所定領域へターゲット材料を供給するターゲット生成装置であって、ターゲット材料を貯蔵するタンク部（２６０）、タンク部内の前記ターゲット材料の温度を変化させる温度可変装置（１４１）、および、液体状のターゲット材料を出力するノズル孔を含むノズル部（２６２）を備えるターゲット生成装置と、ガスの導入口がノズル部へ向くように配置されたガスノズル（３０３）と、少なくともノズル部の周辺に水素を含むガスが供給されるようにガスノズルに水素を含むガスを供給するガス供給源（３０１）と、チャンバ内における少なくともノズル部周辺の水分を除去する水分除去装置と、を備えてもよい。
摘要翻译：根据本发明的一个实施例，腔室装置可以设置有：腔室（2）; 目标产生装置，其被组装到所述室并且将目标材料供应到所述室中的预定区域，所述目标产生装置设置有用于存储所述目标材料的罐单元（260），温度可变装置（141）改变罐单元中的目标材料的温度和包括用于输出液态目标材料的喷嘴孔的喷嘴单元（262）; 气体喷嘴（303），其设置成使得气体导入口面对喷嘴单元; 气体供给源（301），其向所述气体喷嘴供给含氢气体，使得所述含氢气体至少供给到所述喷嘴单元的周围; 以及除水装置，其至少在所述室中的所述喷嘴单元的周围除去水。

7. 发明申请

WO2016152656A1 感光性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：WO2016152656A1
公开(公告)日：2016-09-29
申请号：PCT/JP2016/058175
申请日：2016-03-15
申请人：東レ株式会社
发明人：池田　芳史
IPC分类号： G03F7/023 , C08G8/10 , C08G73/14 , C08G73/22 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/039 , C08G8/10 , C08G8/24 , C08G73/14 , C08G73/22 , G03F7/0046 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0757 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/322 , G03F7/40 , H01L23/53228 , H01L23/5329 , H01L51/0035 , H01L51/0043 , H01L51/52
摘要：半導体装置のパターン硬化膜において、高感度でありながらリフロー処理後のパターン硬化膜と金属配線との密着性を向上させることができる感光性樹脂組成物を提供する。感光性樹脂組成物は（ａ－１）一般式（１）で表される構造を主成分とする樹脂、（ａ－２）ポリイミド、およびそれらの共重合体、から選ばれる少なくとも１種類を含むアルカリ可溶性樹脂、および、（ｃ）一般式（２）で表される構造を主成分とする化合物とを含有することを特徴とする。
摘要翻译：提供尽管具有高灵敏度的感光性树脂组合物能够提高半导体器件的图案固化膜中的图案固化膜与回流处理后的金属配线之间的凝聚力。该感光性树脂组合物的特征在于含有：主要含有通式（1）表示的结构的（a-1）树脂，（a-2）聚酰亚胺和它们的共聚物的至少一种碱溶性树脂; 和（c）主要含有由通式（2）表示的结构的化合物。

8. 发明申请

WO2016151141A1 METAL-POLYMER COMPOSITE MATERIAL 审中-公开
标题翻译：金属聚合物复合材料
公开(公告)号：WO2016151141A1
公开(公告)日：2016-09-29
申请号：PCT/EP2016/056726
申请日：2016-03-25
申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE , UNIVERSITE DE HAUTE ALSACE
发明人： BALAN, Lavinia Maria
IPC分类号： G03F7/004 , C09D11/52 , B22F9/24
CPC分类号： C09D11/52 , B05D3/067 , B05D5/063 , B05D7/542 , B32B27/12 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/308 , B32B2250/02 , B32B2255/10 , B32B2255/205 , B32B2264/105 , B32B2307/202 , B32B2307/302 , B32B2307/416 , B32B2457/00 , C08K3/08 , C08K2003/0806 , C08K2003/0831 , C08K2003/085 , C08K2003/0893 , C08K2201/001 , C09D4/00 , C09D5/004 , C09D5/24 , C09D7/61 , C09D11/101 , C09D11/107 , C09D11/322 , G03F7/0047 , G03F7/2004 , H01B1/22
摘要： The present invention relates to composite material (1, 101) comprising a matrix (50, 150) and a metallic layer (25, 125) located at at least one surface (8) of said composite material (1, 101), said matrix (50, 150) comprising at least one polymer (55, 155) and a first population (10, 110) of particles of at least one electronically conducting metal, said layer (25, 125) comprising a second population of particles (20, 120) of at least one electronically conducting metal, a method for preparing such composite material and applications thereof.
摘要翻译：本发明涉及包含基质（50,150）和位于所述复合材料（1,101）的至少一个表面（8））上的金属层（25,125）的复合材料（1,101），所述基体（50,150）包括至少一种电子导电金属的至少一种聚合物（55,155）和第一群体（10,110），所述层（25,125）包含第二群粒子（20， 120）的至少一种电子导电金属，制备这种复合材料的方法及其应用。

9. 发明申请

WO2016114455A1 포토리소그래피 방법 审中-公开
标题翻译：光刻方法
公开(公告)号：WO2016114455A1
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：PCT/KR2015/005768
申请日：2015-06-09
申请人： 한국표준과학연구원
发明人： 유은아
IPC分类号： G03F1/68 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/2004 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F7/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/32
摘要： 본 발명에 따른 포토리소그래피 방법은 a)기판상 D=m*(λ/2n) (D=포토레지스트 막의 두께， n=포토레지스트의 굴절률， λ=노광시 조사되는 광의 파장， m= 1이상의 자연수)을 만족하는 포토레지스트 막을 형성하는 단계;및 b)투명 기재 및 투명 기재의 광의 출사면에 접하여 형성된 평판형 금속 닷 (plate-type metal dot)을 포함하는 광 마스크를 이용하여, 포토레지스트 막을 노광하고，노광된 포토레지스트 막을 현상하여，고리 형상의 포토레지스트 패턴을 제조하는 단계;를 포함한다.
摘要翻译：根据本发明的光刻方法包括以下步骤：a）在基板上形成光致抗蚀剂膜，其满足D = m *（λ/ 2n）（D =光致抗蚀剂膜的厚度，n =折射率光致抗蚀剂，λ=曝光时照射的光的波长，m = 1以上的自然数）。以及b）通过使用包括透明基底的光掩模和与透明基底的发光表面接触的板状金属点来制造环状光致抗蚀剂图案，以将光致抗蚀剂膜曝光以曝光曝光的光致抗蚀剂膜。

10. 发明申请

WO2016114000A1 レジスト永久膜用硬化性組成物及びレジスト永久膜审中-公开
标题翻译：用于永久耐蚀膜和耐久性膜的可固化组合物
公开(公告)号：WO2016114000A1
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：PCT/JP2015/082512
申请日：2015-11-19
申请人： DIC株式会社
发明人：今田　知之
IPC分类号： G03F7/022 , C07C39/14 , C08G8/04
CPC分类号： C08G8/04 , C07C39/17 , C07C2603/92 , G03F7/0125 , G03F7/022 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/322
摘要：　溶剤への溶解性に優れ、しかも、アルカリ現像性、耐熱分解性、光感度及び解像度に優れる塗膜が得られ、特にレジスト永久膜を得るのに好適な硬化性組成物、該硬化性組成物を用いて得られるレジスト永久膜を提供する。具体的には下記構造式（１）（式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基又はアリール基であり、ｎは２～１０の整数である。Ｒ２はアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子の何れかであり、ｍは０～４の整数である。ｍが２以上の場合、複数のＲ２はそれぞれ同一でも良いし異なっていても良く、ナフチレン骨格の２つの芳香環のうちどちらに結合していても良い。）で表される分子構造を有するフェノール性水酸基含有化合物（Ａ）と、感光剤（Ｂ１）または硬化剤（Ｂ２）とを含有するレジスト永久膜用硬化性組成物、該組成物を硬化させてなるレジスト永久膜を提供する。
摘要翻译：提供：特别适用于获得永久性抗蚀剂膜的固化性组合物，在溶剂中表现出优异的溶解性，并且能够获得显示出优异的碱显影性，耐热分解性，光敏感性和分辨率的涂膜; 和使用所述可固化组合物获得的永久抗蚀剂膜。具体提供：永久抗蚀剂膜用固化性组合物，其含有具有由结构式（1）表示的分子结构的酚羟基化合物（A）（结构式（1）中，R 1表示氢，烷基，或芳基，n表示2-10的整数，R 2表示烷基，烷氧基，芳基，芳烷基或卤素，m表示0〜4的整数并且在m为2以上的情况下，多个R 2可以相互相同或相互不同，并且可以键合到萘二甲骨架的两个芳香环中的任一个）和光敏剂（ B1）或固化剂（B2）; 以及通过固化所述组合物获得的永久抗蚀剂膜。

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