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    • 3. 发明申请
    • MICROLITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF CHANGING AN OPTICAL WAVEFRONT IN SUCH AN APPARATUS
    • 微电脑设备及其在这种设备中改变光波形的方法
    • WO2013156145A1
    • 2013-10-24
    • PCT/EP2013/001122
    • 2013-04-16
    • CARL ZEISS SMT GMBH
    • GORKHOVER, Leonid
    • G03F7/20
    • G03F7/706G03F7/70266G03F7/70883G03F7/70891
    • A microlithographic apparatus (10) comprises an optical wavefront manipulator (42). The latter includes an optical element (44) and a gas-tight cavity (50) that is partly confined by the optical element (44) or contains it. A gas inlet device (58) directs a gas jet (86a, 86b) towards the optical element (44). The location, where the gas jet impinges on the optical element after it has passed through the cavity, is variable in response to a control signal supplied by a control unit (84). A gas outlet (64, 66) is in fluid connection with the vacuum pump (60, 62) so that, upon operation of the vacuum pump, the pressure within the cavity is less than 10 mbar even if the gas jet (86a, 86b) passes through the cavity (50).
    • 微光刻设备(10)包括光波前机械手(42)。 后者包括被光学元件(44)局部限制或包含光学元件(44)的光学元件(44)和气密腔(50)。 气体入口装置(58)将气体射流(86a,86b)引向光学元件(44)。 气体射流在光学元件通过腔体之后入射的位置可响应于由控制单元(84)提供的控制信号而变化。 气体出口(64,66)与真空泵(60,62)流体连接,使得在真空泵操作时,腔内的压力小于10毫巴,即使气体射流(86a,86b )通过空腔(50)。
    • 4. 发明申请
    • OPTISCHE ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN DER OPTISCHEN ANORDNUNG
    • 光学装置和操作光学装置的方法
    • WO2017216007A1
    • 2017-12-21
    • PCT/EP2017/063830
    • 2017-06-07
    • CARL ZEISS SMT GMBH
    • GORKHOVER, LeonidKULITZKI, Viktor
    • G03F7/20
    • G03F7/70916G03F7/702G03F7/70841
    • Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung (1 ), insbesondere für die EUV- Lithographie, umfassend: mindestens ein Gehäuse (4a), in dem mindestens ein reflektierendes optisches Element (13, 14, 15) angeordnet ist, welches einen Grundkörper (13b, 14b, 15b) aufweist, an dem eine reflektierende Oberfläche (13a, 14a, 15a) gebildet ist, sowie mindestens einen Halter (21a, 21 b; 22a, 22b; 23a, 23b), an dem der Grundkörper (13b, 14b, 15b) des reflektierenden optischen Elements (13, 14, 15) bevorzugt beweglich gelagert ist. Die optische Anordnung (1) umfasst mindestens eine Hülle (16), die zumindest den mindestens einen Halter (21a, 21 b, 22a, 22b, 23a, 23b) und bevorzugt den Grundkörper (13b, 14b, 15b) des reflektierenden optischen Elements (13, 14, 15) zumindest teilweise umhüllt und die einen Umgebungsraum (20), in dem zumindest ein von der Hülle (16) umhüllter Abschnitt des Halters, insbesondere der gesamte Halter (21a, 21b, 22a, 22b, 23a, 23b) angeordnet ist, gegen einen Innenraum (19) des Gehäuses (4a) abdichtet, in dem sich die reflektierende Oberfläche (13a, 14a, 15a) des reflektierenden optischen Elements (13, 14, 15) befindet, wobei die Hülle (16) mindestens einen flexiblen Abschnitt (16a) zur Ermöglichung einer Bewegungsmanipulation des optischen Elements (13, 14, 15) aufweist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Betreiben einer solchen optischen Anordnung (1).
    • 本发明涉及一种光学装置(1),特别是用于导航用途řEUV光刻,包括:至少一个壳体BEAR使用(图4A),其中至少一个反射光学元件(13,14, 15),其具有形成有反射表面(13a,14a,15a)的基体(13b,14b,15b)和至少一个支架(21a,21b; 22a,22b; 15b) 其中反射光学元件(13,14,15)的基体(13b,14b,15b)优选可移动地安装在所述基体(13a,23a,23b)上。 光学组件(1)包括至少一个H导航用途LLE(16),至少所述至少一个保持器(21A,21B,22A,22B,23A,23B),并且优选地,求与OUML;主体(13B,14B,15B)的 反射至少部分包膜导航用途落在光学元件(13,14,15),以及周围空间(20),在将H导航用途LLE中的至少一个(16)包封所述保持器的导航用途llter部分,特别是在整个保持器(21A,21B ,23B)22A,22B,23A,(相对于壳体BEAR用途(4a)的密封的内部空间19),其中,所述反射光学元件(13,14的反射表面BEAR表面(13A,14A,15A) ,15),壳体(16)具有至少一个柔性部分(16a),用于促进光学元件(13,14,15)的移动操纵。 本发明还涉及一种用于操作这种光学装置(1)的方法。

    • 9. 发明申请
    • DRUCKREDUZIERUNGSEINRICHTUNG, VORRICHTUNG ZUR MASSENSPEKTROMETRISCHEN ANALYSE EINES GASES UND REINIGUNGSVERFAHREN
    • 减压装置,装置的燃气质谱分析,清洗等
    • WO2016096233A1
    • 2016-06-23
    • PCT/EP2015/075589
    • 2015-11-03
    • CARL ZEISS SMT GMBHCARL ZEISS MICROSCOPY GMBH
    • CHUNG, Hin Yiu AnthonyALIMAN, MichelFEDOSENKO, GennadyREUTER, RüdigerGORKHOVER, LeonidAWAKOWICZ, PeterBÖKE, MarcKEUDELL, Achim vonWINTER, JörgLAUE, AlexanderBENEDIKT, Jan
    • H01J49/24
    • H01J49/24
    • Die Erfindung betrifft eine Druckreduzierungseinrichtung (3), umfassend: ein Vakuum-Gehäuse (4), welches eine Einlassöffnung (5) für den Einlass eines zu untersuchenden Gases (2) bei einem Umgebungsdruck (P U ) sowie einen Analyseraum (7) für die massenspektrometrische Untersuchung des zu untersuchenden Gases (2) bei einem Arbeitsdruck (P A ) aufweist, wobei die Einlassöffnung (5) und eine Eintrittsöffnung (10) des Analyseraums (7) entlang einer gemeinsamen Sichtlinie (11) angeordnet sind. Das Vakuum-Gehäuse (4) weist eine Mehrzahl von modular miteinander verbindbaren und entlang der Sichtlinie (11) hintereinander anordenbaren Vakuum-Bauteilen (21, 26) auf und durch mindestens eines der Vakuum-Bauteile (23, 27), durch die der Analyseraum (7) verläuft, verläuft auch mindestens ein von dem Analyseraum (7) gasdicht getrennter Druckreduzierungsraum (12). Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur massenspektrometrischen Untersuchung eines Gases (2), welche eine solche Druckreduzierungseinrichtung (3) aufweist, sowie ein Verfahren zum Reinigen einer solchen Druckreduzierungseinrichtung (7).
    • 本发明涉及一种减压装置(3),包括:真空外壳(4),其质谱的入口开口(5),用于一个给气体所研究的入口(2)在环境压力(PU)和一个分析室(7)的 包括下调查到气体检查在工作压力(PA),其特征在于,所述进入口(5)和所述分析空间(7)的沿视线(11)的公共线的入口开口(10)被布置成(2)。 真空外壳(4)包括多个模块化互连的视线的和沿(11)一个在另一个可布置真空组件后面(21,26)和通过真空装置中的至少一个(23,27),通过该分析腔室 (7),还延伸分析空间(7)独立的气密减压空间(12)中的至少一个。 本发明还涉及一种用于气体(2)的质谱分析的装置,具有这样的减压装置(3),以及用于清洁这种减压装置的方法(7)。
    • 10. 发明申请
    • MASSENSPEKTROMETER, DESSEN VERWENDUNG, SOWIE VERFAHREN ZUR MASSENSPEKTROMETRISCHEN UNTERSUCHUNG EINES GASGEMISCHES
    • 质谱仪其用途,和方法的混合气体质谱分析
    • WO2015003819A1
    • 2015-01-15
    • PCT/EP2014/053361
    • 2014-02-20
    • CARL ZEISS SMT GMBHCARL ZEISS MICROSCOPY GMBH
    • FEDOSENKO, GennadyALIMAN, MichelCHUNG, Hin Yiu AnthonyRANCK, AlbrechtGORKHOVER, Leonid
    • H01J49/14
    • H01J49/04H01J49/0027H01J49/105H01J49/14H01J49/145H01J49/147
    • Die Erfindung betrifft ein Massenspektrometer (1) zur massenspektrometrischen Untersuchung von Gasgemischen (2), umfassend: eine lonisierungseinrichtung (12) sowie eine lonenfalle (10) zur Speicherung und zur massenspektrometrischen Untersuchung des Gasgemischs (2). Bei einem Aspekt der Erfindung ist die lonisierungseinrichtung (12) zur Zuführung von Ionen (13a) und/oder von metastabilen Teilchen (13b) eines lonisierungsgases (13) und/oder von Elektronen (20a) zu der lonenfalle (10) für die Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs (2) ausgebildet und das Massenspektrometer (1) ist ausgebildet, vor der Untersuchung des Gasgemischs (2) die in der lonenfalle (10) vorhandene Anzahl von Ionen (13a) und/oder metastabilen Teilchen (13b) des lonisierungsgases (13) und/oder die Anzahl von Ionen (14a) eines in der lonenfalle (10) vorhandenen Restgases (14) zu ermitteln. Die Erfindung betrifft auch die Verwendung eines solchen Massenspektrometers (1) sowie ein Verfahren zur massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemischs (2).
    • 本发明涉及一种质量分析装置(1)的气体混合物(2)的质谱分析,其包括:一个电离装置(12)和用于存储离子阱(10)和所述混合物(2)的气体的质谱分析。 在本发明中,离子化装置(12)用于供给离子(13A)和/或亚稳粒子的一个方面(13B)是一个lonisierungsgases(13)和/或电子(20A),为的电离离子阱(10) 要被检查的气体混合物(2)被形成和质谱仪(1)被设计,气体混合物的调查(2)之前的lonisierungsgases的离子(13A)和/或亚稳粒子(13B)的存在于离子阱(10)号(13 )和/或确定)的存在于离子阱(10离子(14a)的数目,所述残余气体(14)。 本发明还涉及使用这样的质谱仪(1)和用于混合物(2)气体的质谱分析的方法的。