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1. 发明申请

WO2018010887A1 VERFAHREN ZUR MIKROLITHOGRAPHISCHEN HERSTELLUNG MIKROSTRUKTURIERTER BAUELEMENTE, SOWIE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法微光刻生产结构的单元和微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2018010887A1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：PCT/EP2017/063001
申请日：2017-05-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KORB, Thomas , DEGÜNTHER, Markus , ZIMMERMANN, Jörg , FENGLER, Stephanus
发明人： KORB, Thomas , DEGÜNTHER, Markus , ZIMMERMANN, Jörg , FENGLER, Stephanus
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70125 , G03F7/706 , G03F9/7046
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente sowie eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Bei einem Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente werden auf einer Maske befindliche Nutzstrukturen und auf der Maske befindliche Markerstrukturen mit einer Beleuchtungseinrichtung beleuchtet und mit einem Projektionsobjektiv auf einen mit einem Photoresist versehenen Wafer unter Erzeugung entsprechender Markerstrukturbilder und Nutzstrukturbilder abgebildet. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Ermitteln einer Mehrzahl von jeweils unterschiedlichen Zeitpunkten zugeordneten Versatzwerten, wobei jeder dieser Versatzwerte jeweils einen zu dem betreffenden Zeitpunkt durch das Projektionsobjektiv erzeugten Versatz zwischen einem Markerstrukturbild und einem Nutzstrukturbild charakterisiert, und Positionieren der Nutzstrukturbilder in aufeinanderfolgenden Lithographieschritten relativ zueinander auf Basis dieser Versatzwerte.
摘要翻译：
本发明涉及一种用于微光刻生产微结构元件的和微光刻投射曝光系统的方法。在用于微光刻生产微结构元件的方法有用的结构和位于所述掩模位于标记结构用照明装置照射并且通过投影透镜上设置有光刻胶的晶片一个成像以形成在掩模上相应标记结构的图像和Nutzstrukturbilder。的发明＆AUML;道路有方法包括以下步骤：确定多个从时间偏移值的各自的不同的点，其中在该时间表征值是由投影透镜的标记结构图像和Nutzstrukturbild，和定位Nutzstrukturbilder在之间的偏移产生的每个各自的这些偏移分配基于这些偏移值相对于彼此的连续光刻步骤。

2. 发明申请

WO2015185374A1 OPTISCHES SYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：的微光刻投射曝光设备的光学系统
公开(公告)号：WO2015185374A1
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：PCT/EP2015/061364
申请日：2015-05-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DEGÜNTHER, Markus , KORB, Thomas
发明人： DEGÜNTHER, Markus , KORB, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G02B27/0905 , G02B27/0944 , G02B27/0961 , G03F7/2006 , G03F7/2008 , G03F7/70025 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70241
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, welches für eine Arbeitswellenlänge von wenigstens 150 nm ausgelegt ist. Gemäß einem Aspekt weist das optische System ein eine Winkelverteilung für im Betrieb des optischen Systems auftreffendes Licht erzeugendes Element (11, 21) und einen Wabenkondensor (200, 400, 500) auf, welcher zwei in Lichtausbreitungsrichtung aufeinanderfolgende Anordnungen (210, 220, 410, 420, 510, 520) aus strahlablenkenden optischen Elementen (211-213, 221-223, 411-413, 421-423, 511-513, 521-523) zur Erzeugung einer Vielzahl optischer Kanäle aufweist, wobei im Strahlengang zwischen dem eine Winkelverteilung erzeugenden Element (11, 21) und dem Wabenkondensor (200, 400, 500) kein Brechkraft aufweisendes optisches Element angeordnet ist.
摘要翻译：本发明涉及微光刻投射曝光设备，其被设计用于至少150纳米的工作波长的光学系统。根据一个方面，所述光学系统具有光学系统中的光束产生元件（11，21）和一个蜂巢式聚光器（200，400，500），操作期间入射的角度分布，其中两个（在光传播方向上连续组件210，220，410， 420，510，520）光束偏转光学元件（211-213，221-223，411-413，421-423，511-513的，521-523有），用于产生多个光信道，其中，在所述光束路径的角分布之间 - 产生元件（11，21）和所述蜂巢式聚光器（200，400，500）不具有折射力被设置呈现出光学元件。

3. 发明申请

WO2011147658A1 OPTICAL SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于微晶投影装置的光学系统
公开(公告)号：WO2011147658A1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：PCT/EP2011/056830
申请日：2011-04-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SÄNGER, Ingo , SCHARNWEBER, Ralf , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , WEIß, Gundula , MAJOR, András G. , VOGT, Martin , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes , KORB, Thomas , WALDIS, Severin
发明人： SÄNGER, Ingo , SCHARNWEBER, Ralf , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , WEIß, Gundula , MAJOR, András G. , VOGT, Martin , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes , KORB, Thomas , WALDIS, Severin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and a microlithographic exposure method. In an embodiment an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus includes at least one mirror arrangement (200, 720, 730, 920) having a plurality of mirror elements (200a, 200b, 200c, 721, 722, 733, 731, 732, 733,...) which are displaceable independently of each other for altering an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement (200, 720, 730, 920), and at least one manipulator (300, 720, 910) which is arranged downstream of said mirror arrangement (200, 720, 730, 920) in the light propagation direction and has a raster arrangement of manipulator elements (301, 302,..., 600, 721, 722, 723,... ) in such a way that light incident on the manipulator (300, 600, 720, 910) in operation of the optical system is influenced differently in its polarisation state and/or in its intensity in dependence on the incidence location, wherein at least two mutually different illumination settings (420, 520) are adjustable by the variation in an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement (200), wherein said illumination settings (420, 520) differ from each other in that identical regions of a pupil plane of the illumination system (10) are illuminated with light of a different polarisation state.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光装置和微光刻曝光方法的光学系统。在一个实施例中，用于微光刻投影曝光装置的光学系统包括具有多个反射镜元件（200a，200b，200c，721,722,733,731,732,920）的至少一个反射镜装置（200,720,730,920） 733，...），其可彼此独立地移位，以改变由反射镜装置（200,720,730,920）反射的光的角分布，以及至少一个操纵器（300,720,910），其是在光传播方向上布置在所述反射镜装置（200,720,730,920）的下游，并且具有光栅装置，其中所述操纵元件（301,302，...，600,721,722,723，...）入射在光学系统操作的操纵器（300,600,720,910）上的光的偏振状态和/或其强度根据入射位置受到不同的影响，其中至少两个相互不同照明设置（420,520）可通过角度dist的变化进行调节由反射镜装置（200）反射的光的贡献，其中所述照明设置（420,520）彼此不同，因为照明系统（10）的光瞳平面的相同区域被不同偏振态的光照射。

4. 发明申请

WO2013097897A1 MASK AND SCANNING PROJECTION EXPOSURE METHOD FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：掩模和扫描投影曝光方法
公开(公告)号：WO2013097897A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/EP2011/074186
申请日：2011-12-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
发明人： PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F1/38 , G03F1/42 , G03F1/68 , G03F7/70058 , G03F7/70475
摘要： A mask for microlithography comprises a substrate (SUB); a first pattern area (PA1) on the substrate, the first pattern area comprising a first pattern (PAT1) extending over a first length (L1) in a mask scanning direction and a first width (W1) in a direction perpendicular to the mask scan direction; and a second pattern area (PA2) on the substrate adjacent to the first pattern area in the mask scanning direction, the second pattern area comprising a second pattern (PAT2) extending over a second length (L2) in the mask scanning direction and a second width (W2) identical to the first width in the direction perpendicular to the mask scan direction. The second length (L2) is smaller than the first length (L1) and the second pattern is identical to a corresponding portion of the first pattern, where the corresponding portion is offset relative to the second pattern by the first length (L1) in the mask scan direction and has a length (CPL) identical to the second length (L2). Scanning exposure methods with increased throughput are possible when this type of mask is used.
摘要翻译：用于微光刻的掩模包括基底（SUB）; 在基板上的第一图案区域（PA1），第一图案区域包括在掩模扫描方向上在第一长度（L1）上延伸的第一图案（PAT1）和在垂直于掩模扫描的方向上的第一宽度（W1）方向; 和与掩模扫描方向上与第一图形区域相邻的第二图案区域（PA2），第二图案区域包括在掩模扫描方向上在第二长度（L2）上延伸的第二图案（PAT2），第二图案区域宽度（W2）与垂直于掩模扫描方向的方向上的第一宽度相同。第二长度（L2）小于第一长度（L1），第二图案与第一图案的对应部分相同，其中对应部分相对于第二图案偏移第一长度（L1）掩模扫描方向并具有与第二长度（L2）相同的长度（CPL）。当使用这种类型的掩模时，可以提高吞吐量的扫描曝光方法。

5. 发明申请

WO2012089224A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2012089224A1
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：PCT/EP2010/007953
申请日：2010-12-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , BIELING, Stig , DEGÜNTHER, Markus , SCHLESENER, Frank , SCHWAB, Markus
发明人： PATRA, Michael , BIELING, Stig , DEGÜNTHER, Markus , SCHLESENER, Frank , SCHWAB, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/70058
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a light source (30), which is configured to produce a projection light beam (34), and a first and a second diffractive optical element (42, 44; 242, 244) arranged between the light source (30) and a pupil plane (84). The diffractive effect produced by each diffractive optical element depends on the position of a light field (110) that is irradiated by the projection light beam (34) on the diffractive optical elements (42, 44; 242, 244). A displacement mechanism (54, 64) changes the mutual spatial arrangement of the diffractive optical elements. In at least one of the mutual spatial arrangements, which can be obtained with the help of the displacement mechanism (54, 64), the light field (110) extends both over the first and the second diffractive optical element (42, 44; 242, 244). This makes it possible to produce in a simple manner continuously variable illumination settings.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括被配置为产生投影光束（34）的光源（30）和第一和第二衍射光学元件（42,44; 242,244））布置在光源（30）和光瞳平面（84）之间。由每个衍射光学元件产生的衍射效应取决于由投影光束（34）照射在衍射光学元件（42,44; 242,244）上的光场（110）的位置。位移机构（54,64）改变衍射光学元件的相互空间布置。在借助位移机构（54,64）可获得的相互空间布置中的至少一个中，光场（110）在第一和第二衍射光学元件（42,44; 242）之上延伸，244）。这使得可以以简单的方式生产连续可变的照明设置。

6. 发明申请

WO2018001652A1 MICROLITHOGRAPHIC ILLUMINATION UNIT 审中-公开
标题翻译：微光刻照明装置
公开(公告)号：WO2018001652A1
公开(公告)日：2018-01-04
申请号：PCT/EP2017/062748
申请日：2017-05-26
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DEGÜNTHER, Markus , BIELING, Stig
发明人： DEGÜNTHER, Markus , BIELING, Stig
IPC分类号： G03F7/20 , G02B6/00
摘要： The invention relates to a microlithographic illumination unit for post-exposure of a photoresist provided on a wafer in a microlithography process, having at least one light source (121, 321, 421, 521 ) and a light-guiding and light-mixing element (1 10, 310, 410, 510) for coupling the electromagnetic radiation generated by the light source into the photoresist, wherein this light-guiding and light-mixing element has a first pair of mutually opposite side faces, the maximum spacing of which has a first value, wherein multiple reflections of the electromagnetic radiation on these side faces take place, wherein the light-guiding and light-mixing element has a second pair of mutually opposite side faces, the maximum spacing of which has a second value, and wherein the maximum ex- tent of the light-guiding and light-mixing element in the light propagation direction of the electromagnetic radiation has a third value, wherein this third value is greater than the first value and is smaller than the second value.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻照明单元，用于在微光刻过程中对设置在晶片上的光致抗蚀剂进行后曝光，具有至少一个光源（121,321,421,521）和一个光源 - 导光和光混合元件（110,310,410,510），用于将光源产生的电磁辐射耦合到光刻胶中，其中该光导和光混合元件具有第一对彼此相对的侧面，其最大间距具有第一值，其中在这些侧面上发生电磁辐射的多次反射，其中光导和光混合元件具有第二对彼此相对的侧面，其最大间距具有第二值，并且其中导光和光混合元件在电磁辐射的光传播方向上的最大值具有第三值，其中该第三值大于第一值和 d小于第二个值。

7. 发明申请

WO2012116710A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2012116710A1
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：PCT/EP2011/000960
申请日：2011-02-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
发明人： PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70158
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a light source (30) which is configured to produce projection light (PL), a pupil plane (84) and a diffractive optical element (48) that is arranged between the light source (30) and the pupil plane (84) such that an irradiance distribution of projection light (PL) in the pupil plane (84) depends on the position of a field (96a, 96b, 96c) that is illuminated by the projection light (PL) on the diffractive optical element (48). The illumination system further comprises an optical imaging system (34; 134; 234; 334) that is arranged between the light source (30) and the diffractive optical element (48). The optical imaging system ensures that changes of the direction and divergence of the projection light (PL) emitted by the light source (30) have no substantial effect on the position and size of the field which is illuminated on the diffractive optical element (48) by the projection light (PL).
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括被配置为产生投影光（PL）的光源（30），配置在光的光瞳平面（84）和衍射光学元件（48）之间，源极（30）和光瞳面（84），使得投影光（PL）在光瞳平面（84）中的辐照度分布取决于由投影光照射的场（96a，96b，96c）的位置（PL）在衍射光学元件（48）上。照明系统还包括布置在光源（30）和衍射光学元件（48）之间的光学成像系统（34; 134; 234; 334）。光学成像系统确保由光源（30）发射的投射光（PL）的方向和发散的变化对于在衍射光学元件（48）上照射的场的位置和尺寸没有实质影响，通过投影光（PL）。

8. 发明申请

WO2011157601A2 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：具有这种类型的照明光学系统的微结构和投影曝光系统的照明光学系统
公开(公告)号：WO2011157601A2
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：PCT/EP2011/059427
申请日：2011-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
发明人： PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70091 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
摘要： An illumination optical system (7) for microlithography is used to guide illumination light (8) from a primary light source (6) to an object field (3). A mirror array (10) of the illumination optical system (7) has a plurality of individual mirrors (11), which can be tilted independently of one another by actuators and are connected to associated tilting actuators (12).A controller (14) is used to activate the actuators (12).A raster module (19) of the illumination optical system (7) has a plurality of raster elements (28, 30) to produce a spatially distributed arrangement of secondary light sources. The raster module (19) is arranged in the region of a plane (20) of the illumination optical system (7), in which an emergent angle (AR x ), at which an illumination light part bundle (15) leaves one of the raster elements (30), is precisely allocated to a location region in the object field (3), on which the illumination light part bundle (15) impinges on the object field (3).The controller (14) is configured in such a way that a specification of a tilting angle for each individual mirror (11) is allocated to a predetermined desired course of illumination angle intensity distributions, with which object field points distributed over the object field (3) are impinged upon. The raster module (19), depending on the respective actual angle of incidence, produces another intensity course in the object field (3). The result is an illumination optical system, in which an illumination intensity over the object field can be influenced in a targeted manner with respect to the total illumination intensity and/or with respect to the intensity contributions from different illumination directions.
摘要翻译：用于微光刻的照明光学系统（7）用于将照明光（8）从初级光源（6）引导到物场（3）。照明光学系统（7）的反射镜阵列（10）具有多个独立的反射镜（11），可以通过致动器彼此独立地倾斜，并且连接到相关联的倾斜致动器（12）。用于激活致动器（12）。照明光学系统（7）的光栅模块（19）具有多个光栅元件（28,30），以产生二次光源的空间分布布置。光栅模块（19）布置在照明光学系统（7）的平面（20）的区域中，其中照射光束（15）离开光栅之一元件（30）被精确地分配给对象场（3）中的照明光束（15）照射在物场（3）上的位置区域。控制器（14）以这种方式配置将每个单独的反射镜（11）的倾斜角度的规格分配给预定的所需的照明角度强度分布过程，通过该预定路线分布在物场（3）上的物体场点被撞击。光栅模块（19）根据相应的实际入射角度在物场（3）中产生另一强度光程。结果是照明光学系统，其中相对于总照明强度和/或相对于来自不同照明方向的强度贡献，可以以目标方式影响物体场上的照明强度。

9. 发明申请

WO2011137917A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2011137917A1
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：PCT/EP2010/002780
申请日：2010-05-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DEGÜNTHER, Markus , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm
发明人： DEGÜNTHER, Markus , FIOLKA, Damian , ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0892 , G03F7/70116 , G03F7/70941
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a spatial light modulator (58) which varies an intensity distribution in a pupil surface (38). The modulator (58) comprises an array (62) of mirrors (64) that reflect impinging projection light (34) into directions that depend on control signals applied to the mirrors. A prism (60), which directs the projection light (34) towards the spatial light modulator (58), has a double pass surface (76) on which the projection light (34) impinges twice, namely a first time when leaving the prism (60) and before it is reflected by the mirrors (64), and a second time when entering the prism (60) and after it has been reflected by the mirrors (64). Pupil perturbation suppressing means are provided that reduce reflections of projection light (34) when it impinges the first time on the double pass surface (76), and/or prevent that light portions (78) being a result of such reflections contribute to the intensity distribution in the pupil surface (38).
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的照明系统包括改变瞳孔表面（38）中的强度分布的空间光调制器（58）。调制器（58）包括将入射投影光（34）反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向上的反射镜（64）的阵列（62）。将投射光（34）引向空间光调制器（58）的棱镜（60）具有双重表面（76），投影光（34）撞击两次，即离开棱镜时第一次（60）反射之前并且在被反射镜（64）反射之前，以及第二次当进入棱镜（60）并且被反射镜（64）反射之后。提供了瞳孔扰动抑制装置，当第一次冲击双重表面（76）时减少投影光（34）的反射，和/或防止由于这种反射而导致的光部分（78）有助于强度分布在瞳孔表面（38）。

10. 发明申请

WO2019185554A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM ERMITTELN EINES ABSTANDES EINES BEWEGTEN OBJEKTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2019185554A1
公开(公告)日：2019-10-03
申请号：PCT/EP2019/057462
申请日：2019-03-25
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , CARL ZEISS AG , HORN, Jan , BERGER, Lars , RICHTER, Stefan , DEGÜNTHER, Markus
发明人： HORN, Jan , BERGER, Lars , RICHTER, Stefan , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G01S7/481 , G01S17/32 , G01S17/58 , G01S17/66
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Ermitteln eines Abstandes eines bewegten Objekts. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine Laserquelle (510) zum Aussenden eines Laserstrahls mit zeitlich variierender Frequenz, eine Detektoranordnung (100, 560) zur Erzeugung eines Detektor-Signals auf Basis eines aus dem Laserstrahl hervorgegangenen, an dem Objekt (540) reflektierten Teilsignals (521), wobei die Detektoranordnung (100, 560) zur Erzeugung des Detektorsignals aus einer Überlagerung des an dem Objekt (540) reflektierten Teilsignals (521) mit einem weiteren aus dem Laserstrahl hervorgegangenen, nicht an dem Objekt (540) reflektierten Teilsignal (511) ausgestaltet ist, eine Auswerteeinrichtung zur Ermittlung eines Abstandes des Objekts (540) auf Basis dieses Detektorsignals, und einen Nachführungsregler (105) zum Regeln der Nachführung des von der Laserquelle (510) ausgesandten Laserstrahls bei Bewegung des Objekts (540) auf, wobei diese Nachführung auf Basis einer während einer Zitterbewegung des Laserstrahls stattfindenden Variation des Detektorsignals erfolgt.

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