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1. 发明申请

WO2005071299A1 真空断熱バルブ审中-公开
标题翻译：真空热绝缘阀
公开(公告)号：WO2005071299A1
公开(公告)日：2005-08-04
申请号：PCT/JP2005/000265
申请日：2005-01-13
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 皆見幸男 , 坪田憲士 , 篠原努 , 山路道雄 , 池田信一 , 森本明弘 , 川田幸司 , 成相敏朗
发明人：大見忠弘 , 皆見幸男 , 坪田憲士 , 篠原努 , 山路道雄 , 池田信一 , 森本明弘 , 川田幸司 , 成相敏朗
IPC分类号： F16K51/00
CPC分类号： F16K51/02 , Y10T137/6606 , Y10T137/7043 , Y10T137/7062
摘要：　この発明は、ガスの供給系やガスの排気系の中において高温状態で使用することができ、しかも優れた断熱性能によって大幅な小型、コンパクト化を可能とした真空断熱バルブを提供するものである。　バルブ本体とアクチエータとを備えたバルブと、当該バルブを格納する真空断熱箱とから形成した真空断熱バルブに於いて、前記真空断熱箱Ｓを、側面に筒状の真空断熱配管受部Ｊを備え且つ上面を開放した角形の下部真空ジャケットＳ 5 と、当該下部真空ジャケットＳ 5 へ上方より気密に嵌合され且つ下面を開放した角形の上部真空ジャケットＳ 4 とから形成する。
摘要翻译：一种真空隔热阀，可在气体供应系统和气体放电系统的高温条件下使用，由于阀的绝热性能优异，可大大减小尺寸，并且紧凑。一种真空隔热阀，由具有阀体和致动器的阀构成，并由接纳该阀的真空绝热箱构成。真空保温箱（S）由矩形的下部真空套（S5）构成，其中，它的侧面是管状的真空绝热管道接收部分（J），其上表面打开，并且由矩形上部真空套 S4），其从上方气密地配合到下真空套（S5）并且其下表面打开。

2. 发明申请

WO2004036637A1 回転式シリコンウエハ洗浄装置审中-公开
标题翻译：旋转式硅水清洗装置
公开(公告)号：WO2004036637A1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：PCT/JP2003/011667
申请日：2003-09-11
申请人：株式会社フジキン , 株式会社プレテック , 大見忠弘 , 白井泰雪 , 藤田巧 , 皆見幸男 , 池田信一 , 森本明弘 , 川田幸司
发明人：大見忠弘 , 白井泰雪 , 藤田巧 , 皆見幸男 , 池田信一 , 森本明弘 , 川田幸司
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67034 , H01L21/02052
摘要： A rotary silicon wafer cleaning apparatus capable of enhancing the stability of silicon wafer through perfecting of the hydrogen termination for silicon wafer having undergone cleaning operation with the use of chemicals and pure water. The rotary silicon wafer cleaning apparatus comprises a silicon wafer drying equipment, the silicon wafer drying equipment composed of a mixed gas heating unit for heating a mixed gas consisting of a hydrogen gas, the hydrogen gas containing gaseous hydrogen in an amount of 0.05 vol.% or more, and an inert gas and a hydrogen radical generating unit provided with a platinum coating film capable of forming hydrogen radicals at portion in contact with the heated mixed gas, wherein a mixed gas containing hydrogen radicals generated by the hydrogen radical generating unit is jetted on a rotating silicon wafer after cleaning operation so that the drying and hydrogen termination treatment of the external surface of silicon wafer are simultaneously carried out.
摘要翻译：一种旋转硅晶片清洁装置，其能够通过使用化学品和纯水完成已进行清洗操作的硅晶片的氢终端，从而提高硅晶片的稳定性。旋转硅晶片清洁装置包括硅晶片干燥设备，硅晶片干燥设备由用于加热由氢气组成的混合气体的混合气体加热单元，含有0.05体积％的气态氢气的氢气，以上的惰性气体和氢游离基发生单元，其具有能够在与加热的混合气体接触的部分形成氢自由基的铂涂膜，喷射含有由氢根产生单元产生的氢自由基的混合气体在清洁操作之后的旋转硅晶片上，同时进行硅晶片的外表面的干燥和氢终止处理。

3. 发明申请

WO2004035209A1 水分発生用反応炉の白金コーティング触媒層の形成方法审中-公开
标题翻译：用于生成水气的反应炉中形成铂涂层催化剂层的方法
公开(公告)号：WO2004035209A1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：PCT/JP2003/013146
申请日：2003-10-14
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 池田信一 , 森本明弘 , 北野真史 , 皆見幸男 , 川田幸司
发明人：大見忠弘 , 池田信一 , 森本明弘 , 北野真史 , 皆見幸男 , 川田幸司
IPC分类号： B01J37/02
CPC分类号： B01J12/007 , B01J21/04 , B01J23/42 , B01J37/0225 , B01J37/0226 , B01J37/08 , C01B5/00
摘要：　水分発生用反応炉の反応用空間の内壁面に、均一な厚みで母材に対する固着力が高く、しかも白金皮膜の保護機能の高いバリヤー皮膜を安価に且つ簡単に形成できるようにする。　水素と酸素を高温燃焼をさせずに反応させて水分を発生させる水分発生用反応炉に於いて、水分発生用反応炉をアルミニウム含有合金を用いて形成し、当該水分発生用反応炉の内壁面にアルミニウムの選択酸化処理を施して酸化アルミニウム（Ａｌ２　Ｏ３　）を主体とするバリヤー皮膜を形成し、その後当該バリヤー皮膜の上部に白金皮膜を積層固着して白金コーティング触媒層を形成する。
摘要翻译：一种用于在反应炉中形成铂涂层催化剂层的方法，其用于通过使氢和氧在高温下不使其燃烧而产生水气，而不会在高温下燃烧而形成水，所述方法包括通过使用含铝的方法制造用于产生水煤气的反应炉合金，对反应炉内壁的表面进行铝的选择性氧化处理，形成以氧化铝（Al2O3）为主要成分的阻隔涂膜，然后将铂涂膜层合并粘合在阻挡层上涂膜，从而形成铂涂层催化剂层。该方法允许形成阻挡涂层，其具有均匀的厚度和对基材的高粘附性，并且对反应炉的反应空间的内壁表面上的铂涂膜显示出高保护功能，用于产生水煤气，成本低廉。

4. 发明申请

WO2007023597A1 ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置审中-公开
标题翻译：垫片型式和压力型流量控制器使用相同
公开(公告)号：WO2007023597A1
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：PCT/JP2006/309368
申请日：2006-05-10
申请人：株式会社フジキン , 国立大学法人東北大学 , 大見忠弘 , 西野功二 , 土肥亮介 , 池田信一 , 永瀬正明 , 平田薫 , 杉田勝幸 , 篠原努 , 廣瀬隆 , 今井智一 , 吉田俊英 , 田中久士
发明人：大見忠弘 , 西野功二 , 土肥亮介 , 池田信一 , 永瀬正明 , 平田薫 , 杉田勝幸 , 篠原努 , 廣瀬隆 , 今井智一 , 吉田俊英 , 田中久士
IPC分类号： G05D7/06 , F16K27/00 , F16L55/00 , G01F1/42
CPC分类号： F16K27/003 , F16L55/02718 , G01F1/36 , G01F15/001 , G01F15/005 , G05D7/0635
摘要：　本発明は、圧力式流量制御装置を分解、組立することなしに、そのオリフィスを簡単に取り換えできるようにすることにより、制御流量の切換を容易に行えるようにする。　本発明のオリフィス交換型圧力式流量制御装置は、流体供給用配管の接続部を備えた入口側取付用ブロック（３９）と流体取出用配管の接続部を備えた出口側取付用ブロック（４３）との間に圧力式流量制御装置（Ａ）のコントロール弁（２）のバルブボディ（２３）を配設し、当該バルブボディ（２３）の流体入口側と前記入口側取付用ブロック（３９）とを、並びに前記バルブボディ（２３）の流体出口側と前記出口側取付用ブロック（４３）とを、夫々解離可能に気密状に連結することにより、前記コントロール弁（２）を通して気体が流通する流路を形成すると共に、前記バルブボディ（２３）の出口側に設けたガスケット型オリフィス挿入孔（４２ｃ）と出口側取付用ブロック（４３）のガスケット型オリフィス挿入孔（４３ｂ）との間に、圧力式流量制御装置（Ａ）のガスケット型オリフィス（３８）を着脱自在に挿着する構成とする。
摘要翻译：一种孔口可变压力型流量控制器，其能够通过在不拆卸和组装流量控制器的情况下容易地改变孔口而容易地改变控制流程。在流量控制器（A）中，控制阀（2）的阀体（23）设置在具有用于流体供给管的连接部分的入口侧安装块（39）和出口侧安装块（43）之间，具有用于流体取出管的连接部分，并且阀体（23）的流体入口侧可气密地连接到入口侧安装块（39），并且阀体（23）的流体出口侧可释放地连接气密到出口侧安装块（43）以形成允许气体通过控制阀（2）流过其中的流动通道。流量控制器（A）的垫圈型孔口（38）可拆卸地插入形成在阀体（23）的出口侧上的垫圈型孔插入孔（42c）和垫圈型孔插入孔（43b）之间出口侧安装块（43）。

5. 发明申请

WO2007001041A1 流量レンジ可変型流量制御装置审中-公开
标题翻译：可变流量范围流量控制装置
公开(公告)号：WO2007001041A1
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：PCT/JP2006/312952
申请日：2006-06-22
申请人：株式会社フジキン , 国立大学法人東北大学 , 東京エレクトロン株式会社 , 大見忠弘 , 斎藤雅仁 , 日野昭一 , 嶋津強 , 三浦和幸 , 西野功二 , 永瀬正明 , 杉田勝幸 , 平田薫 , 土肥亮介 , 広瀬隆 , 篠原努 , 池田信一 , 今井智一 , 吉田俊英 , 田中久士
发明人：大見忠弘 , 斎藤雅仁 , 日野昭一 , 嶋津強 , 三浦和幸 , 西野功二 , 永瀬正明 , 杉田勝幸 , 平田薫 , 土肥亮介 , 広瀬隆 , 篠原努 , 池田信一 , 今井智一 , 吉田俊英 , 田中久士
IPC分类号： G05D7/00 , G01F1/00 , G01F1/42 , G01F7/00
CPC分类号： G05D7/0641 , G01F1/363 , G01F1/6842 , G01F1/6847 , G01F5/005 , G01F7/005 , G05D7/0635 , G05D7/0647 , G05D23/1927 , Y10T137/0379 , Y10T137/7759 , Y10T137/776 , Y10T137/8593 , Y10T137/86734 , Y10T137/86815 , Y10T137/87265 , Y10T137/87314 , Y10T137/8741 , Y10T137/87499 , Y10T137/87684
摘要：　１基の流量制御装置によって、より広い流量域の流体の高精度な流量制御を可能とすることにより、流量制御装置の小型化と設備費の削減を図るようにしたものである。　具体的には、オリフィス上流側圧力Ｐ 1 及び又はオリフィス下流側圧力Ｐ 2 を用いて、オリフィス８を流通する流体の流量をＱｃ＝ＫＰ 1 （Ｋは比例定数）又はＱｃ＝ＫＰ 2 m （Ｐ 1 −Ｐ 2 ） n （Ｋは比例定数、ｍとｎは定数）として演算するようにした圧力式流量制御装置において、当該圧力式流量制御装置のコントロール弁の下流側と流体供給用管路との間の流体通路少なくとも二つ以上の並列状の流体通路とすると共に、前記各並列状の流体通路へ流体流量特性の異なるオリフィスを夫々介在させ、小流量域の流体の流量制御には一方のオリフィスへ前記小流量域の流体を流通させ、また大流量域の流体の流量制御には他方のオリフィスへ前記大流量域の流体を切換え流通させる。
摘要翻译：一种压力式流量控制装置，通过精确地控制在大流量范围内的流体的流动，能够减小尺寸和安装成本。具体地说，在孔口（8）中流动的流体的流量被计算为Qc = KP 1（K是比例因子）或Qc = KP <

6. 发明申请

WO2003078883A1 流体継手审中-公开
标题翻译：流体联轴器
公开(公告)号：WO2003078883A1
公开(公告)日：2003-09-25
申请号：PCT/JP2002/002533
申请日：2002-03-18
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 山路道雄 , 野島新也 , 勝見雪人 , 篠原努
发明人：大見忠弘 , 山路道雄 , 野島新也 , 勝見雪人 , 篠原努
IPC分类号： F16L19/00
CPC分类号： F16J15/02 , F16J15/062 , F16J15/104 , F16L19/00 , F16L19/0212 , F16L19/0218 , F16L25/0018 , F16L27/082 , F16L27/0828 , Y10S277/925 , Y10S285/917
摘要：各継手部材1,2の突き合わせ端面に、流体通路1a,2aを囲みかつ環状突起5,6を底面に有する環状凹所3,4が設けられている。ガスケット10は、環状凹所3,4の径より小さい外径を有しかつ両継手部材1,2の突起5,6間に位置させられているシール部11と、環状凹所3,4に嵌め合わせ可能な外径を有しかつシール部11の外側に位置させられているガイド部12とよりなる。適正締付け時に両継手部材1,2の突き合わせ端面同士が当接するようになされている。シール部11の外周に環状溝14が設けられており、シール部11とガイド部12とが、この環状溝14に嵌め合わせられたスナップリング13によって連結されている。
摘要翻译：在联接构件（1,2）的邻接端面处，在围绕流体通道（1a，2a）的同时设置有在底面上具有环形突出部（5,6）的环形凹部（3,4）。垫圈（10）包括密封部分（11），该密封部分（11）插入在联接构件（1,2）的突出部（5,6）之间，同时具有小于环形凹部（3,4）的直径的外径，以及设置在所述密封部分（11）的外侧，同时具有外径装配在所述环形凹部（3,4）中的引导部分（12）。当联接构件（1,2）被适当地紧固时，其端面彼此邻接。在密封部分（11）的外周形成环形槽（14），并且装配在环形槽（14）中的卡环（13）将密封部分（11）和引导部分（12）联接在一起。

7. 发明申请

WO2004074722A1 真空排気系用のダイヤフラム弁审中-公开
标题翻译：真空灭火系统用隔膜阀
公开(公告)号：WO2004074722A1
公开(公告)日：2004-09-02
申请号：PCT/JP2004/001346
申请日：2004-02-09
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 池田信一 , 山路道雄 , 北野真史 , 森本明弘
发明人：大見忠弘 , 池田信一 , 山路道雄 , 北野真史 , 森本明弘
IPC分类号： F16K7/12
CPC分类号： F16K7/16 , F16K51/02
摘要：　半導体製造装置に適用される真空排気系用のダイヤフラム弁に於いて、ガスの熱分解に依り生じた生成物の堆積付着に依る部材の腐食や生成物に依る詰まりやシートリークの発生を防止し、延いては、真空排気系の設備の小型化とこれに依るコスト低減、更には真空排気時間の短縮の為の真空排気系の配管の小口径化に対応できる様にする。　具体的には、流入路６と流出路７とこれらの間に形成された弁座８とを備えたボディ２と、ボディ２に設けられて弁座８に当離座可能なダイヤフラム３と、ボディ２に設けられてダイヤフラム３を弁座８に当離座させる駆動手段４とを備えたダイヤフラム弁１に於いて、前記ボディ２とダイヤフラム３の流体接触部分２５に所定厚さの合成樹脂被膜５をコーティングする。
摘要翻译：一种适用于半导体制造系统的真空排气系统的隔膜阀。防止由于气体的热分解产生的产品的沉积/粘附引起的部件的腐蚀，产品堵塞和阀座泄漏。为了减少真空排气时间，该隔膜阀导致真空抽空系统设备的规模减小，成本降低，真空排气系统的管道直径减小。具体地说，隔膜阀（1）包括具有入口通道（6），出口通道（7）和设置在通道之间的阀座（8）的主体（2），隔膜（3）设置成主体（2）并且可以与阀座（8）分离并与其接触;以及驱动装置（4），其设置在主体（2）上并且适于将隔膜（3）与阀座（8）并使隔膜（3）与其接触。主体（2）的部分（25）和隔膜（3）的与流体接触的部分（25）都涂覆有预定厚度的合成树脂涂层（5）。

8. 发明申请

WO2004072519A1 真空排気系用バルブ审中-公开
标题翻译：真空排气系统阀
公开(公告)号：WO2004072519A1
公开(公告)日：2004-08-26
申请号：PCT/JP2004/001352
申请日：2004-02-09
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 池田信一 , 山路道雄 , 北野真史 , 森本明弘
发明人：大見忠弘 , 池田信一 , 山路道雄 , 北野真史 , 森本明弘
IPC分类号： F16K7/12
CPC分类号： F16K7/14 , F16K27/003 , F16K51/02
摘要：　真空排気系の設備の小型化とこれによるコスト低減並びに真空排気時間の短縮のための真空排気系の配管の小口径化に対応し、ガスの分解に起因する解離生成物の堆積による内部の腐食や詰まり、シートリーク等を防止できるようにしたバルブを提供するものである。　具体的には、アルミ不働態を真空排気系に使用されるバルブ等の配管部品に使用して、ベーキングの際の温度上昇によるガスの分解を抑制することにより、真空排気系の小口径化に適した部品、特にガスの分解により生ずる生成物の堆積により腐食や詰まり、シートリーク等が生じないようにする。
摘要翻译：根据真空排放系统中的管道直径的减小的阀，减小了实现真空排放系统的装置的小型化并且导致降低的成本并缩短了真空排放的时间。在阀中，可以防止由气体分解产生的解离产物的积聚导致内部腐蚀，堵塞，阀座泄漏等。具体来说，被动铝被用于管道部件，例如适用于真空排放系统的阀门，以便控制在烘烤过程中温度升高引起的气体分解，使得适合减小真空放电中直径尺寸的部件系统。防止由气体分解引起的腐蚀，堵塞，阀座泄漏等。

9. 发明申请

WO2009125497A1 均熱装置および有機膜成膜装置审中-公开
标题翻译：热平衡器和有机膜成型设备
公开(公告)号：WO2009125497A1
公开(公告)日：2009-10-15
申请号：PCT/JP2008/057205
申请日：2008-04-11
申请人：国立大学法人東北大学 , 東芝三菱電機産業システム株式会社 , 大見忠弘 , 北野真史 , 山蔭久明 , 山田義人
发明人：大見忠弘 , 北野真史 , 山蔭久明 , 山田義人
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/12
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/12 , C23C14/228
摘要：　この均熱装置は、内部に作動流体が充填され、被加熱材料を加熱して気化させる加熱ブロック（１）を有する容器構造体と、容器構造体の底部に配置されている加熱手段（６）と、容器構造体の外側と内側とを連通する材料供給管（１１）とを備える。加熱ブロック（１）には、被加熱材料が流動する流路としての、材料供給管（１１）に接続され水平方向に延びる主ヘッダ管（１２）と、主ヘッダ管（１２）から分岐し上下方向へ延びる立上り管（１４）とが形成されており、また、作動流体が冷却されて凝縮する凝縮路としての、立上り管（１４）の両側に形成され水平方向に延びる凝縮孔（１０）と、立上り管（１４）の下側に形成された凝縮穴（１６）とが形成されている。凝縮孔（１０）と凝縮穴（１６）との間に主ヘッダ管（１２）が配置されている。
摘要翻译：一种热均衡器，其包括具有加热块（1）的容器结构，所述加热块能够加热待加热的材料并使其蒸发，加工工作流体; 设置在容器结构的底部上的加热装置（6）以及实现容器结构的外部和内部之间的连通的材料供给管（11）。加热块（1）设置有主集管（12），作为用于流动的流动通道，该流动通道连接到材料供应管（11）并且在水平方向上延伸并且具有提升管（14），其从所述主集管（12）分支并在垂直方向上延伸。此外，加热块设置有作为冷凝通道的冷凝孔（10），用于冷却和冷凝位于提升管（14）两侧的工作流体，并在水平方向上延伸并具有冷凝槽（ 16）位于提升管（14）的下侧。主集管（12）设置在冷凝孔（10）和冷凝槽（16）之间。

10. 发明申请

WO2009110409A1 太陽電池审中-公开
标题翻译：太阳能电池
公开(公告)号：WO2009110409A1
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：PCT/JP2009/053823
申请日：2009-03-02
申请人：国立大学法人東北大学 , 東京エレクトロン株式会社 , シャープ株式会社 , 三洋電機株式会社 , 大見忠弘 , 後藤哲也 , 田中宏治 , 佐野雄一 , 井上広匡
发明人：大見忠弘 , 後藤哲也 , 田中宏治 , 佐野雄一 , 井上広匡
IPC分类号： H01L31/04
CPC分类号： H01L31/022425 , Y02E10/50
摘要：　発電層と電極との間に、仕事関数の低い下地金属層を設けて、発電層と電極との間のコンタクト抵抗を低減することによって、太陽電池又は光電変換素子の変換効率を改善することができた。
摘要翻译：通过在发电层和电极之间设置功函数低的贱金属层，可以改善太阳能电池或光电转换器的转换效率，从而降低发电层与电极之间的接触电阻。

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