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    • 1. 发明申请
    • 原料濃度検出機構を備えた原料気化供給装置
    • 配备材料浓度检测机构的材料蒸发装置
    • WO2013035232A1
    • 2013-03-14
    • PCT/JP2012/004559
    • 2012-07-17
    • 株式会社フジキン永瀬 正明平田 薫日高 敦志西野 功二池田 信一中村 剛
    • 永瀬 正明平田 薫日高 敦志西野 功二池田 信一中村 剛
    • H01L21/205C23C16/455
    • F17D3/00C23C16/4482C23C16/45561G05D11/135Y10T137/8158
    •  本発明は、キャリアガスと原料ガスとの混合ガス内の原料濃度を正確に調整しつつ、しかも高精度な流量制御の下でプロセスチャンバへ安定供給できるようにすると共に、混合ガス内の原料ガス蒸気濃度を高価な濃度計等を使用することなしに簡単に高精度で検出し、リアルタイムで表示できるようにする。 本発明は、マスフローコントローラ3を通してキャリアガスG K をソースタンク5内へ供給し、ソースタンク5内よりキャリアガスG K を放出すると共に、ソースタンク5を恒温部により一定温度に保持して発生せしめた原料4の飽和蒸気Gと前記キャリアガスG K との混合ガスG S をプロセスチャンバへ供給するようにした原料気化供給装置において、前記ソースタンク5からの混合ガスG S の流出通路に自動圧力調整装置8を設けると共にその下流側にマスフローメータ9を設け、前記自動圧力調整装置8のコントロールバルブ8aを開閉制御することによりソースタンク5の内部圧力Poを所定値に制御し、前記マスフローコントローラ3によるキャリアガスG K の流量Q 1 と前記タンク内圧Poと前記マスフローメータ9の混合ガスGsの流量Q S の各検出値を原料濃度演算部10へ入力し、当該原料濃度演算部10に於いて原料の流量Q 2 をQ 2 =Q S ×P MO /P O として演算し(但し、P MO はソースタンク内の温度t℃に於ける原料蒸気Gの飽和蒸気圧)、当該原料流量Q 2 を用いて前記プロセスチャンバへ供給する混合ガスG S の原料ガス蒸気濃度KをK=Q 2 /Q S として演算、表示する。
    • 本发明的目的是精确地调节载气和原料气体的气体混合物中的材料浓度,同时使得可以在高度精确的流量控制下将气体混合物稳定地供应到处理室,以简单且精确地检测材料气体 气体混合物中的蒸汽浓度,而不使用昂贵的浓度计等,并且实时显示浓度。 本发明提供一种材料蒸发供给装置,其中通过质量流量控制器(3)将载气(GK)供应到源罐(5),并且载气(GK)从源罐(5)排出,同时 通过用恒温部分和所述载气(GK)将源箱(5)保持在恒定温度而产生的材料(4)的饱和蒸气(G)的气体混合物(GS)被供应到处理室。 在从所述源罐(5)流动的气体混合物(GS)的流出通道处设置有自动压力控制装置(8),同时在所述自动压力控制装置的下游侧设置质量流量计(9) 8)。 控制所述自动压力控制装置(8)的控制阀(8a)的打开和关闭,以将源箱(5)中的内部压力(Po)保持在规定值。 检测值包括通过所述质量流量控制器(3)的载气(GK)的流量(Q1),所述罐内压(Po)和通过所述质量流的气体混合物(Gs)的流量(Qs) 仪表(9)被输入到材料浓度计算单元(10)中。 材料浓度计算单元(10)计算出Q2 = Qs×PMO / PO(其中PMO是原料罐温度t℃下的材料蒸气的饱和蒸汽压力(G))的材料流量(Q2)。 供给到处理室的气体混合物(Gs)中的原料气体蒸气浓度(K)使用材料流量(Q2)计算为K = Q2 / Qs并显示。
    • 2. 发明申请
    • 原料気化供給装置
    • 进料气化和供应装置
    • WO2013018265A1
    • 2013-02-07
    • PCT/JP2012/003783
    • 2012-06-11
    • 株式会社フジキン永瀬 正明日高 敦志平田 薫土肥 亮介西野 功二池田 信一
    • 永瀬 正明日高 敦志平田 薫土肥 亮介西野 功二池田 信一
    • H01L21/205C23C16/455
    • C23C16/4485
    •  本発明は、固体原料或いは液体原料を加熱して生成した原料蒸気を圧力式流量制御装置を用いて流量制御しつつプロセスチャンバへ安定して供給できるようにすることにより、原料の気化供給装置の小型化と、半導体製品の品質向上を図ると共に、原料の残量管理を容易に出来るようにする。 本発明の原料気化供給装置は、原料を貯留したソースタンクと,ソースタンクの内部空間部から原料蒸気をプロセスチャンバへ供給する原料蒸気供給路と,当該原料蒸気供給路に介設されプロセスチャンバへ供給する原料蒸気流量を制御する圧力式流量制御装置と,前記ソースタンクと供給路と圧力式流量制御装置とを設定温度に加熱する恒温加熱部とから成り、ソースタンクの内部空間部に生成した原料蒸気を圧力式流量制御装置により流量制御しつつプロセスチャンバへ供給する。
    • 本发明的目的是使用压力式流量控制装置来控制通过加热固体原料或液体原料而产生的原料蒸汽的流量,同时为处理室提供一致的供应,从而使原料 气化供应装置更紧凑,提高半导体产品的质量,便于残留原料的管理。 该原料气化和供应装置包括:用于储存原料的源罐; 原料蒸汽供应路径,用于将原料蒸气从源罐的内部空间供给到处理室; 介于所述原料蒸气供给路径中的压力型流量控制装置,用于控制供给到所述处理室的原料蒸汽的流量; 以及用于将源箱,供给路径和压力型流量控制装置加热至设定温度的恒温加热部。 在源罐的内部空间中产生的原料蒸气被供给到处理室,同时流量由压力型流量控制装置控制。
    • 3. 发明申请
    • 手動弁用開度検知装置
    • 手动阀开启程度检测装置
    • WO2012067055A1
    • 2012-05-24
    • PCT/JP2011/076143
    • 2011-11-14
    • 株式会社フジキン土肥 亮介富田 厚男西野 功二池田 信一宮川 英行
    • 土肥 亮介富田 厚男西野 功二池田 信一宮川 英行
    • F16K37/00F16K31/60
    • F16K37/0016F16K37/0041Y10T137/8275
    •  長期間にわたっての検知の信頼性が確保され、流体通路の開度の検知精度がよい手動弁用開度検知装置を提供する。 ハンドル13は、中空状とされている。変位センサ4は、ハンドル13の内面に固定されている。ターゲット5は、ハンドル13内の弁棒から所定距離離れた位置に配置されたターゲット本体22と、ターゲット本体22の変位センサ4に対向する面に形成された検知用傾斜面23と、ターゲット本体22から下方に突出する下方突出部25とを有している。ハンドル13の底壁14aに、ターゲット5の下方突出部25を上下移動可能に挿通させる貫通孔30が設けられている。ターゲット5は、その下方突出部25下面が弁本体11bで受けられることにより、ハンドル13とともに回転するが弁本体11bに対して上下移動しないようになされている。
    • 提供一种用于手动阀的开度检测装置,其能够长期执行可靠的检测并能够精确地检测流体流路的开度。 把手(13)是中空的。 位移传感器(4)固定在手柄(13)的内表面上。 目标(5)具有:目标体(22),其设置在与手柄(13)内的阀杆隔开预定距离的位置; 形成在与所述位移传感器(4)相对的所述目标体(22)的表面上的用于检测的倾斜面(23)。 以及从目标体(22)向下突出的向下突出部(25)。 在手柄(13)的底壁(14a)中形成有通过所述目标(5)的向下突出部(25)插入的通孔(30),使得向下突出部(25)能够垂直移动, )。 目标(5)的向下突出部分(25)的下表面被阀体(11b)接收,这使得靶(5)能够与手柄(13)一起旋转并且防止目标(5 )相对于阀体(11b)垂直移动。
    • 7. 发明申请
    • 流量モニタ付圧力式流量制御装置
    • 基于压力的流量控制装置与流量监视器
    • WO2012153455A1
    • 2012-11-15
    • PCT/JP2012/002395
    • 2012-04-05
    • 株式会社フジキン平田 薫土肥 亮介西野 功二池田 信一杉田 勝幸
    • 平田 薫土肥 亮介西野 功二池田 信一杉田 勝幸
    • G05D7/06
    • G05D7/0623F16K37/0083G01F1/36G01F1/363G01F1/50G01F1/6842G01F1/6965G01F5/00G01F15/005G01F25/0007G05D7/0617G05D7/0635Y10T137/0368Y10T137/7759Y10T137/7761
    •  流体の入口側通路(8)と、入口側通路(8)の下流側に接続した圧力式流量制御部(1a)を構成するコントロール弁(3)と、コントロール弁(3)の下流側に接続した熱式流量センサ(2)と、熱式流量センサ(2)の下流側に連通する流体通路(10)に介設したオリフィス(6)と、コントロール弁(3)とオリフィス(6)の間の流体通路(10)の近傍に設けた温度センサ(4)と、コントロール弁(3)とオリフィス(6)の間の流体通路(10)に設けた圧力センサ(5)と、オリフィス(6)に連通する出口側通路(9)と、圧力センサ(5)からの圧力信号及び温度センサ(4)からの温度信号が入力され、オリフィス(6)を流通する流体の流量値Qを演算すると共に演算した流量値と設定流量値との差が減少する方向にコントロール弁(3)を開閉作動させる制御信号Pdを弁駆動部(3a)へ出力する圧力式流量演算制御部(7a)及び熱式流量センサ(2)からの流量信号(2c)が入力され当該流量信号(2c)からオリフィス(6)を流通する流体流量を演算表示する流量センサ制御部(7b)とからなる制御部(7)と、から構成した流量モニタ付圧力式流量制御装置。
    • 一种具有流量监测器的基于压力的流量控制装置,所述装置包括:流体输入通道(8); 构成基于压力的流量控制单元(1a)并连接到流体输入通道(8)的下游端的控制阀(3); 连接到所述控制阀(3)的下游端的热基流量传感器(2); 设置有与热基流量传感器(2)的下游端连接的流体通道(10)的孔口(6) 设置在所述控制阀(3)和所述孔(6)之间的所述流体通道(10)附近的温度传感器(4); 设置在控制阀(3)和孔(6)之间的流体通道(10)上的压力传感器(5); 连接到孔口(6)的输出通道(9); 以及控制单元(7),其包括基于压力的流量计算控制单元(7a),来自压力传感器(5)的压力信号和来自温度传感器(4)的温度信号被输入到该压力基流量计算控制单元 传感器控制单元(7b),从热基流量传感器(2)输入流量信号(2c)。 基于压力的流量计算控制单元(7a)计算流过孔口(6)的流体的流量(Q),并向阀驱动单元(3a)输出调节程度的控制信号(Pd) 控制阀(3)打开,以便减小所计算的流量与设定流量之间的差。 流量传感器控制单元(7b)使用上述流量信号(2c)来计算并显示流过孔口(6)的流体的流量。
    • 8. 发明申请
    • 原料の気化供給装置
    • 材料蒸发供应装置
    • WO2012147251A1
    • 2012-11-01
    • PCT/JP2012/001117
    • 2012-02-20
    • 株式会社フジキン日高 敦志平田 薫永瀬 正明土肥 亮介西野 功二池田 信一
    • 日高 敦志平田 薫永瀬 正明土肥 亮介西野 功二池田 信一
    • H01L21/205C23C16/448
    • C23C16/45512C23C16/4481C23C16/45557C23C16/52Y10T137/7837
    • 本願発明は、固体原料であっても液体原料であっても、キャリアガスを原料ガスとの混合ガス内の原料濃度を正確に調整しつつ、しかも高精度な流量制御下にプロセスチャンバへ安定して供給できるようにすると共に、原料の残量管理を容易に出来るようにする気化供給装置であって、キャリアガス供給源からのキャリアガスをソースタンクの内部上方空間部へ供給する流路L1と、当該流路L1に介設され、ソースタンクの内部上方空間部の圧力を設定圧力に制御する自動圧力調整装置と、前記空間部で生成した原料蒸気とキャリアガスとの混合ガスをプロセスチャンバへ供給する流路L2と、当該流路L2に介設され、混合ガスの流量を設定流量に自動調整する流量制御装置と、ソースタンクと流路L1及び流路L2とを設定温度に加熱する恒温加熱部とから成り、前記空間部の内圧を所望の圧力に制御しつつプロセスチャンバへ混合ガスを供給する構成とする。
    • 本发明涉及一种汽化供应装置,其中载气和材料气体的混合气体中的材料浓度与固体或液体材料无关地精确调节,载气可以在精确流动下稳定地供应到处理室 材料的控制和残渣可以轻松管理。 本发明包括:流路(L1),其将载气从载气供应源供应到源罐的上内部空间; 设置在所述流路(L1)处的流路(L2),以将所述源罐的上部内部空间中的混合气体供给到所述处理室; 流量控制单元,设置在所述流路(L2)处,以自动调节所述混合气体到预定流量的流量; 以及将源罐,流路(L1)和流路(L2)加热到规定温度的恒温加热单元。 将空气的内部压力控制在保持在期望范围内,同时将混合气体供应到处理室。
    • 10. 发明申请
    • ノーマルオープン型の圧電素子駆動式金属ダイヤフラム型制御弁
    • 由压电元件驱动的正常开启的金属膜片控制阀
    • WO2007083439A1
    • 2007-07-26
    • PCT/JP2006/323050
    • 2006-11-13
    • 株式会社フジキン松本 篤諮平田 薫土肥 亮介池田 信一西野 功二
    • 松本 篤諮平田 薫土肥 亮介池田 信一西野 功二
    • F16K31/02F16K7/14
    • F16K24/04F16K7/14F16K31/004F16K31/007F16K51/02
    • A normal-open metal diaphragm control valve driven by a piezoelectric element, capable of accurate and stable flow rate control even under high temperature environments and enabling adjustment of a compressive force applied to the piezoelectric element to be made without disassembling the control valve. Specifically, the control valve has a body (7) in which a valve chamber (7a') and a valve seat (7c) are formed, a metal diaphragm (8) disposed in the valve chamber (7a') and abutted to and separated from the valve seat (7c), an actuator box (10) secured to the body (7), the piezoelectric element (13) disposed in the actuator box (10) and extended downward by application of a voltage thereto to press the metal diaphragm (8) through a metal diaphragm retainer (12), a disc spring mechanism (14) for absorbing the extension of the piezoelectric element (13) when the metal diaphragm (8) abuts to the valve seat (7c) and applying a predetermined pressure to the valve seat (7c), and a preload mechanism (21) always applying an upward compressive force to the piezoelectric element (13) and capable of adjusting the compressive force applied to the piezoelectric element (13) from the outside.
    • 一种由压电元件驱动的常开金属隔膜控制阀,即使在高温环境下也能够精确稳定的流量控制,并且能够调节施加到压电元件上的压缩力而不拆卸控制阀。 具体而言,控制阀具有形成有阀室(7a')和阀座(7c)的主体(7),配置在阀室(7a')内的金属隔膜(8) 从所述阀座(7c),固定到所述主体(7)的致动器箱(10),设置在所述致动器箱(10)中的所述压电元件(13)并且通过施加电压向下延伸以将所述金属隔膜 (8)通过金属隔膜保持器(12),盘弹簧机构(14),用于当金属隔膜(8)抵靠阀座(7c)并且施加预定压力时吸收压电元件(13)的延伸 到阀座(7c),并且预压机构(21)总是向压电元件(13)施加向上的压缩力,并且能够调节从外部施加到压电元件(13)的压缩力。