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    • 4. 发明申请
    • 磁気メモリセル及び磁気ランダムアクセスメモリ
    • 磁记忆体和磁性随机存取存储器
    • WO2008108109A1
    • 2008-09-12
    • PCT/JP2008/050535
    • 2008-01-17
    • 日本電気株式会社志村 健一沼田 秀昭深見 俊輔
    • 志村 健一沼田 秀昭深見 俊輔
    • H01L21/8246G11C11/15H01L27/105H01L43/08
    • H01L27/228B82Y10/00G11C11/161G11C11/1659G11C11/1675H01L43/08
    •  磁気メモリセルは、固定層4と記録層2と非磁性体層3と電極部21と電極部22とを具備する。固定層4は、磁化方向が固定された強磁性体を含む。記録層2は、固定層4の磁化方向と自身の磁化方向との相対的関係により情報を記憶する強磁性体を含む。非磁性体層3は、記録層2と固定層4との間に設けられている。電極部21は、記録層2の一方の端部に電気的に接続されている。電極部22は、記録層2の他方の端部に電気的に接続されている。書き込み電流が第1電極部21及び電極部22のいずれか一方から他方へ記録層2を介して供給されたとき、一方の端部及び他方の端部に、記録層2の磁化の方向に対して反平行の成分を含む端部磁化が生じ、記録層2の磁化は、端部磁化の方向へ向く。
    • 磁存储单元设置有固定层(4),记录层(2),非磁性层(3),电极部分(21)和电极部分(22)。 固定层(4)包括其磁化方向固定的铁磁体。 记录层(2)包括铁磁体,用于通过固定层(4)的磁化方向和记录层本身的磁化方向之间的相对关系来存储信息。 非磁性层(3)布置在记录层(2)和固定层(4)之间。 电极部(21)电连接到记录层(2)的一个端部。 电极部(22)电连接到记录层(2)的另一端部。 当通过记录层(2)将写入电流从第一电极部分(21)和电极部分(22)之一提供到另一个时,端部磁化包括不与记录层的磁化方向平行的分量 (2)在一个端部和另一个端部处产生,并且记录层(2)的磁化指向端部部分磁化的方向。
    • 5. 发明申请
    • 磁気メモリ、及びその動作方法
    • 磁记忆及其操作方法
    • WO2003092076A1
    • 2003-11-06
    • PCT/JP2003/005030
    • 2003-04-21
    • 日本電気株式会社三浦 貞彦杉林 直彦沼田 秀昭辻 清孝
    • 三浦 貞彦杉林 直彦沼田 秀昭辻 清孝
    • H01L27/105
    • H01L27/228B82Y10/00G11C11/16
    •  本発明は、磁気トンネル接合のトンネル絶縁膜の欠陥を可能な限り排除し、磁気トンネル接合をメモリセルに使用するMRAMの不良ビットの発生を抑制するための技術を提供する。 本発明による磁気メモリは、基板と、基板の上面側を被覆する層間絶縁膜と、メモリセルと、層間絶縁膜を貫通するプラグとを備えている。メモリセルは、層間絶縁膜の上面側に形成された第1磁性体層と、第1磁性体層の上に形成されたトンネル絶縁層と、トンネル絶縁層の上に形成された第2磁性体層とを含む。プラグは、第1磁性体層に、電気的に接続されている。トンネル絶縁層のうち第1磁性体層と第2磁性体層との間に位置するトンネル電流通過部分のうちの少なくとも一部は、基板の表面に垂直な垂直方向においてプラグにオーバーラップしないように配置されている。
    • 尽可能地消除磁隧道结的隧道绝缘膜中的缺陷并利用存储器中的磁性隧道结抑制MRAM中的有缺陷位的产生的技术。 磁存储器包括基板,覆盖基板的上表面侧的层间绝缘膜,存储单元和穿透层间绝缘膜的插塞。 存储单元包括形成在层间绝缘膜的上表面侧上的第一磁性层,形成在第一磁性层上的隧道绝缘层和形成在隧道绝缘层上的第二磁性层。 插头与第一磁性层电连接。 位于第一和第二磁性层之间的隧道绝缘层的隧道电流通过部分被布置成至少部分地不与垂直于衬底的表面的方向上的插塞重叠。
    • 6. 发明申请
    • 磁気ランダムアクセスメモリ
    • 磁性随机存取存储器
    • WO2008108108A1
    • 2008-09-12
    • PCT/JP2008/050344
    • 2008-01-15
    • 日本電気株式会社鈴木 哲広大嶋 則和沼田 秀昭
    • 鈴木 哲広大嶋 則和沼田 秀昭
    • H01L21/8246G11C11/15H01L27/105H01L29/82H01L43/08
    • H01L27/228G11C11/161G11C11/1659G11C11/1675G11C19/0808H01L43/08
    •  MRAMの磁気記録層10は、第1磁化固定領域11、第2磁化固定領域12及び磁化反転領域13を有する。磁化反転領域13は反転可能な磁化を有し、ピン層とオーバーラップする。第1磁化固定領域11は、磁化反転領域13の第1境界B1に接続され、磁化の向きが第1方向に固定される。第2磁化固定領域12は、磁化反転領域13の第2境界B2に接続され、磁化の向きが第2方向に固定される。第1方向及び第2方向は共に、磁化反転領域13へ向かう方向、又は、磁化反転領域13から離れる方向である。磁化固定領域11、12の少なくとも一部分R1,R2における制動係数αは、磁化反転領域13における制動係数αよりも大きい。
    • MRAM的磁记录层(10)具有第一固定磁化区域(11),第二固定磁化区域(12)和反向磁化区域(13)。 反向磁化区域(13)具有可逆磁化并且与引脚层重叠。 第一固定磁化区域(11)连接到反向磁化区域(13)的第一边界(B1),并且磁化方向固定在第一方向上。 第二固定磁化区域(12)连接到反向磁化区域(13)的第二边界(B2),并且磁化方向被固定到第二方向。 第一和第二方向是朝向反向磁化区域(13)或远离反向磁化区域(13)的方向。 固定磁化区域(11,12)的至少部分(R1,R2)的阻尼系数α大于反向磁化区域(13)的阻尼系数a。
    • 9. 发明申请
    • 磁気抵抗素子及び磁気記憶装置
    • 磁电元件和磁存储器件
    • WO2008090696A1
    • 2008-07-31
    • PCT/JP2007/074426
    • 2007-12-19
    • 日本電気株式会社加藤 有光沼田 秀昭
    • 加藤 有光沼田 秀昭
    • H01L21/8246G11C11/15H01L27/105H01L43/08
    • H01L43/08B82Y10/00G11C11/161G11C11/1657G11C11/1659G11C11/1675H01L27/228
    •  磁気抵抗素子は、第1磁性体4と、第2磁性体5と、第1磁性体4と第2磁性体5との間に挟まれた非磁性体6と、第2磁性体5における非磁性体6とは反対の側に接して設けられた反強磁性体7とを具備する。第1磁性体4は、データによって磁化方向が変化する第1領域8と、磁化方向が第1領域8と異なり、データに依らず磁化方向が概ね変わらず、第1領域8の一方の端部に結合した第2領域9とを有する。第2磁性体5及び反強磁性体7とは、いずれも第1領域8及び第2領域9に設けられている。第2磁性体5の磁化方向は、第1磁性体4の第1領域8の磁化方向とは異なる。
    • 磁阻元件设置有第一磁体(4); 第二磁体(5); 布置在第一磁性体(4)和第二磁性体(5)之间的非磁性体(6); 和与第二磁性体(5)上的非磁性体(6)相对的一侧接触的反铁磁体(7)。 第一磁性体(4)具有磁化方向随数据而变化的第一区域(8),具有与第一区域(8)的磁化方向不同的磁化方向的第二区域(9)具有 所述磁化方向根据数据基本上不变,并且连接到所述第一区域(8)的一个端部。 第二磁体(5)和反铁磁体(7)均布置在第一区域(8)和第二区域(9)中。 第二磁性体(5)的磁化方向与第一磁性体(4)的第一区域(8)的磁化方向不同。