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1. 发明申请

WO2011103955A1 SYNTHESIS OF METAL OXIDES BY REACTIVE CATHODIC ARC EVAPORATION 审中-公开
标题翻译：通过反应性阴极弧蒸发合成金属氧化物
公开(公告)号：WO2011103955A1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/EP2011/000383
申请日：2011-02-10
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Benno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Benno
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/08 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/0021 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/083
摘要： This application relates to the reactive cathodic arc evaporation of the composite Al-Cr targets and the nucleation and phase formation of the synthesized Al-Cr-O layers. The oxygen partial pressure and the pulsed operation of the arc current influence the formation of intermetallic phases and solid solutions at the target surface. The nucleation of the ternary oxides at the substrate site appears to be, to some extent, controllable by the intermetallics or solid solutions formed at the target surface. A specific nucleation process at substrate site can therefore be induced by the free choice of target composition in combination with the partial pressure of the oxygen reactive gas. It also allows the control over the oxide island growth at the target surface which occurs occasionally at higher oxygen partial pressure. This is supported by the X-ray diffraction analysis of the layers as well as of the target surface.
摘要翻译：本申请涉及复合Al-Cr靶的反应阴极电弧蒸发和合成的Al-Cr-O层的成核和相形成。氧分压和电弧电流的脉冲操作影响目标表面上金属间相和固溶体的形成。在基底部位的三元氧化物的成核似乎在某种程度上可以通过在靶表面形成的金属间化合物或固溶体来控制。因此，可以通过与氧反应气体的分压结合的目标组合物的自由选择来诱导底物位置处的特定成核过程。它还允许控制目标表面上的氧化物岛生长偶尔在更高的氧分压下发生。这通过层以及目标表面的X射线衍射分析来支持。

2. 发明申请

WO2009092816A3 PERMEATION BARRIER LAYER 审中-公开
公开(公告)号：WO2009092816A3
公开(公告)日：2009-07-30
申请号：PCT/EP2009/050820
申请日：2009-01-26
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen
发明人： RAMM, Jürgen
IPC分类号： C23C14/08
摘要： The method for manufacturing a hydrogen permeation barrier comprises the steps of a) depositing on a substrate (SUB) a layer system (LS) comprising at least one layer (L1,L2,L3); characterized in that step a) comprises the step of b) depositing at least one hydrogen barrier layer (HPBL) comprising an at least ternary oxide. The apparatus comprises a sealable volume and a wall forming at least a portion of a boundary limiting said volume, wherein said wall comprises a hydrogen permeation barrier comprising a layer system (LS) comprising at least one layer, wherein said layer system comprises at least one hydrogen barrier layer (HPBL) comprising an at least ternary oxide. Preferably, said at least ternary oxide is substantially composed of Al, Cr and 0, and said depositing said at least one hydrogen barrier layer (HPBL) is carried out using a physical vapor deposition method, in particular a cathodic arc evaporation method. Preferably, step a) comprises depositing on said substrate at least one of : an adhesion layer (AdhL), a hydrogen storage layer (HStL), a protective layer (ProtL), in particular a thermal barrier layer (ThBL), a diffusion barrier layer (DBL), an oxidation barrier layer (OxBL), a chemical barrier layer (ChBL), a wear resistance layer (WRL). Excellent hydrogen permeation barrier properties can be achieved, and the layer system can be tailored as required by an envisaged application.

3. 发明申请

WO2009059807A1 VERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN ELEKTRISCH ISOLIERENDER SCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：方法分离电气绝缘层
公开(公告)号：WO2009059807A1
公开(公告)日：2009-05-14
申请号：PCT/EP2008/052521
申请日：2008-02-29
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WOHLRAB, Christian
发明人： RAMM, Jürgen , WOHLRAB, Christian
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/0021 , C23C14/08 , C23C14/081 , H01J37/32055 , H01J37/32064
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben einer Arcquelle, wobei eine elektrische Funkenentladung auf einer Oberfläche eines Targets (5) gezündet bzw. betrieben wird, und die Funkenentladung gleichzeitig mit einem Gleichstrom, dem eine Gleichspannung DV zugeordnet ist, als auch mit einem durch ein periodisch angelegtes Spannungs Signal erzeugten Pulsstrom gespeist wird. Dabei wird die Spannung an der Arcquelle über mehrere MikroSekunden erhöht bzw. die Signalform des Spannungsignals im Wesentlichen frei einstellbar.
摘要翻译：本发明涉及一种用于操作电弧源，其中的电火花放电点燃一个目标（5）的表面上并操作，并在同一时间带的直流电流的火花放电时，DC电压DV相关联，并与一个周期性地通过一个产生的电流所施加的电压脉冲信号被馈送。在电弧源极的电压在几个微秒增加或电压信号的波形基本上是可以自由调节。

4. 发明申请

WO2012167886A1 ENTSCHICHTUNGSVERFAHREN FÜR HARTE KOHLENSTOFFSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：去层用于硬质涂层
公开(公告)号：WO2012167886A1
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：PCT/EP2012/002305
申请日：2012-05-31
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
IPC分类号： C23G5/00
CPC分类号： C23G5/00
摘要： Verfahren zum Entschichten von Kohlenstoffschichten, insbesondere von ta-C Schichten von Substratoberflächen von Werkzeugen und Bauteilen. Das zu entschichtende Substrat wird demgemäß auf einen Substrathalter in einer Vakuumkammer angeordnet, die Vakuumkammer wird mit mindestens einem den Abtransport von Kohlenstoff in Gasform unterstützendem Reaktivgas beschickt und eine Niederspannungsplasmaentladung wird in der Vakuumkammer zur Anregung des Reaktivgases und somit zur Unterstützung der erforderlichen chemischen Reaktion bzw. Reaktionen zum Entschichten der beschichteten Substrat erzeugt. Dabei ist die Niederspannungsplasmaentladung eine Gleichstrom-Niedervoltbogenentladung, die zu entschichtenden Substratoberflächen im Wesentlichen werden ausschließlich mit Elektronen beschossen und als Reaktivgas werden Sauerstoff, Stickstoff und Wasserstoff verwendet.
摘要翻译：一种用于汽提的碳层，特别是工具和组件基板表面的TA-C层的方法。的被剥离基板被相应配置的基板支架上在真空室中，真空室中的至少一种加入气态形式支持反应气体中去除碳和低电压等离子放电在所述真空室的反应气体的激发，并因此支持所需的化学反应或创建用于经涂覆的基材的剥离反应。低压等离子体放电为直流低电压电弧放电，与电子轰击被剥离仅基底表面并基本上作为反应气体，氧，氮和氢被使用。

5. 发明申请

WO2012139707A1 KOHLENSTOFFFUNKENVERDAMPFUNG 审中-公开
标题翻译：碳无线电扩展
公开(公告)号：WO2012139707A1
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：PCT/EP2012/001322
申请日：2012-03-26
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Bruno , RUHM, Kurt
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Bruno , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32064 , H05B7/148 , H05B7/20 , H05H2001/4682
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Betreiben einer gepulsten diskontinuierlichen Funkenentladung. Der Funken wird über einen Kondensator gespiesen. Es gibt zwischen den Pulsen abgeschaltete Zeitintervalle, während denen kein Funkenstrom fliesst. Innerhalb der Pulse, also während der zugeschalteten Zeitintervalle wird die Ladungszufuhr bei erreichen einer Stromschwelle abgestellt und erneut angestellt, so dass es zu Subpulsen innerhalb der Pulse kommt. Die Zeitintervalle und Subpulse sind erfindungsgemäss so gewählt, dass bei erneutem Zuschalten des Kondensators die Funkenentladung ohne weiteres erneut zündet.
摘要翻译：本发明涉及一种操作脉冲间歇火花放电的方法。火花通过电容器供给。有在这期间流过无火花电流脉冲的时间间隔之间关闭。内的脉冲，在期间被激活的时间间隔即在电荷供给将实现电流阈值断开并再次接通，从而将有脉冲内的子脉冲。的时间间隔和子脉冲被创造性地选择，使得当所述电容器的一个新的连接时，火花放电再次容易点燃。

6. 发明申请

WO2008009619A9 VERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN ELEKTRISCH ISOLIERENDER SCHICHTEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2008009619A9
公开(公告)日：2008-01-24
申请号：PCT/EP2007/057179
申请日：2007-07-12
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , WOHLRAB, Christian
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , WOHLRAB, Christian
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/08
摘要： Verfahren zur Herstellung schlecht leitender, insbesondere isolierender Schichten auf zumindest einem Werkstück mittels Vakuumbeschichtung, wobei eine elektrische Bogenentladung zwischen mindestens einer Anode und einer Kathode einer Arcquelle, in reaktivgashaltiger Atmosphäre betrieben wird und an der Oberfläche eines mit der Kathode elektrisch verbundenen Targets kein oder nur ein kleines, im Wesentlichen zur Targetoberfläche senkrechtes, äusseres Magnetfeld zur Unterstützung des Verdampfungsprozesses erzeugt wird, wobei der Wiederbeschichtungsgrad der Oberfläche durch andere Beschichtungsquellen kleiner 10 % ist, bzw. das Magnetfeld mit einem Magnetsystem, das zumindest eine axial gepolten Spule mit einer dem Targetumfang ähnlichen Geometrie umfasst, erzeugt wird.

7. 发明申请

WO2003031680A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON BAUELEMENTEN UND ULTRAHOCHVAKUUM-CVD-REAKTOR 审中-公开
标题翻译：用于生产组件和超高真空CVD反应器
公开(公告)号：WO2003031680A1
公开(公告)日：2003-04-17
申请号：PCT/CH2002/000467
申请日：2002-08-28
申请人： UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT , BUSCHBECK, Hans, Martin , BARTHOLET, Philipp , WILTSCHE, Siegfried , RAMM, Jürgen
发明人： BUSCHBECK, Hans, Martin , BARTHOLET, Philipp , WILTSCHE, Siegfried , RAMM, Jürgen
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/54 , C30B25/08
摘要： Um Bauteile kommerziell CVD zu behandeln, unter Einhalt von Ultrahochvakuum-Restgasbedingungen, werden die Bauteile einem CVD-Reaktor (1), welcher den erwähnten Bedingungen genügt, als Batch aus einer Vakuumtransport-kammer (13) zugeführt, welche den erwähnten UHV-CVD-Reaktor (1) mit einer vorgelagerten Behandlungskammer (17) verbindet. Bei der Behandlungskammer (17) kann es sich um eine Schleusenkammer, eine weitere Vakuumtransportkammer, eine Beschichtungskammer, eine Reinigungskammer, eine Ätzkammer, eine Heizkammer, eine Zwischenspeicherkammer oder eine Implantationskammer handeln.
摘要翻译：治疗部件市售CVD，下的超高真空中的残留气体条件停止，如从一个真空输送室（13），（1）满足上述条件，供给CVD反应器的组件的批次其中前述UHV-CVD 反应器（1）与上游处理室（17）相连。在处理室（17）可以是锁定室，进一步真空输送腔室，一个涂覆室，清洁室，蚀刻腔室，加热室，缓冲室或注入室。

8. 发明申请

WO2011036246A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON KUBISCHEN ZIRKONOXIDSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：用于生产立方氧化锆层
公开(公告)号：WO2011036246A2
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：PCT/EP2010/064136
申请日：2010-09-24
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
IPC分类号： C23C14/00
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/0021 , C23C14/0036 , C23C14/0042 , C23C14/0676 , C23C14/083 , C23C14/325 , C23C14/3485
摘要： Zur Herstellung von Zirkonoxid-basierten Schichten auf einem Ablege-Substrat bei welchem reaktives Funkenverdampfen mit gepulstem Funkenstrom und/oder Anlegen eines zum Funkentarget senkrechten Magnetfeldes eingesetzt wird, wird ein ein elementares Zirkon und mindestens einen Stabilisator umfassendes Mischtarget eingesetzt oder ein Zirkoniumtarget aus elementarem Zirkonium wobei dann nebst Sauerstoff, Stickstoff als reaktiv Gas eingesetzt wird. Alternativ kann, kombiniert mit dem Einsatz des Mischtargets, auch, nebst Sauerstoff, Stickstoff als Reaktivgas eingesetzt werden.
摘要翻译：用于在沉积基底上生产氧化锆类层，其中反应性电弧蒸镀脉冲正常的电弧电流和/或应用到无线电目标磁场，一个元素锆和至少一种稳定剂的综合混合靶使用或元素锆，其中的一个Zirkoniumtarget 然后用氧气，氮气作为反应性气体一起使用。可替代地，通过使用混合靶的组合，也可用于除氧气，氮气作为反应性气体。

9. 发明申请

WO2011009573A1 METHOD FOR PRODUCING COATINGS WITH A SINGLE COMPOSITE TARGET 审中-公开
标题翻译：用单一复合材料制造涂料的方法
公开(公告)号：WO2011009573A1
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：PCT/EP2010/004365
申请日：2010-07-16
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , RUDIGIER, Helmut
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , RUDIGIER, Helmut
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/0084 , C23C14/06
摘要： The invention pertains to a method for the production of coatings by physical vapor deposition (PVD), wherein a binary target or a target with more than two constituents is evaporated in a curvilinear cathodic arc discharge, causing the ions with different masses (elements) to be splitted and the ion splitting results in variations for the ratio of the different masses (elements) at different positions in the deposition chamber.
摘要翻译：本发明涉及通过物理气相沉积（PVD）制备涂层的方法，其中在曲线阴极电弧放电中蒸发具有多于两种成分的二元靶或靶，导致具有不同质量（元素）的离子被分裂并且离子分裂导致沉积室中不同位置处的不同质量（元素）的比率的变化。

10. 发明申请

WO2009129880A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON METALLOXIDSCHICHTEN VORBESTIMMTER STRUKTUR DURCH FUNKENVERDAMPFUNG 审中-公开
标题翻译：方法制备金属氧化物预定结构TO无线电扩展的
公开(公告)号：WO2009129880A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/EP2009/000852
申请日：2009-02-06
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen
发明人： RAMM, Jürgen
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/34 , C23C14/08
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/00 , C22C1/0416 , C23C14/0036 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/325 , Y10T428/12028 , B22F3/15
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Schichten bestehend aus ternären und höheren Oxiden metallischer und halbmetallischer Komponenten, wobei die Bildungstemperatur dieser Oxide im Wesentlichen über die Zusammensetzung der binären (oder höheren) Legierungstargets (basierend auf dem Phasendiagramm) festgelegt wird.
摘要翻译：本发明涉及用于生产包括金属和半金属成分的三元和更高的氧化物的层的过程中，这些氧化物的形成温度基本上确定的二进制（或更高）合金靶的组成（基于在相图上）。

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