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1. 发明申请

WO2014207154A1 DEKORATIVE HIPIMS-HARTSTOFFSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：装饰HIPIMS HARTSTOFFTECHNIK LAYERS
公开(公告)号：WO2014207154A1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：PCT/EP2014/063611
申请日：2014-06-26
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34 , C23C14/06 , C23C14/00
CPC分类号： C23C14/0036 , C23C14/0042 , C23C14/0641 , C23C14/3414 , C23C14/3485 , C23C14/35 , H01J37/3429 , H01J37/3467
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Beschichten von Substraten mit einer dekorativen Hartstoffschicht, welches in einer Vakuumbeschichtungskammer durchgeführt wird, wobei die dekorative Hartstoffschicht mittels eines reaktiven HIPIMS-Prozesses abgeschieden wird, und wobei der Energieinhalt in den Leistungspulsen derart reguliert wird, dass die abgeschiedene Hartstoffschicht eine homogene Farbe, eine hohe Glattheit und eine hohe Härte aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于涂覆基材具有装饰层的硬质材料，其是在真空涂覆室，其中，所述硬质材料的装饰层是采用反应HIPIMS工艺沉积进行的，并且其中所述能量含量在功率脉冲控制使得所沉积的方法硬质材料层具有均匀的颜色，高的平滑度和高硬度。

2. 发明申请

WO2011036246A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON KUBISCHEN ZIRKONOXIDSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：用于生产立方氧化锆层
公开(公告)号：WO2011036246A2
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：PCT/EP2010/064136
申请日：2010-09-24
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
IPC分类号： C23C14/00
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/0021 , C23C14/0036 , C23C14/0042 , C23C14/0676 , C23C14/083 , C23C14/325 , C23C14/3485
摘要： Zur Herstellung von Zirkonoxid-basierten Schichten auf einem Ablege-Substrat bei welchem reaktives Funkenverdampfen mit gepulstem Funkenstrom und/oder Anlegen eines zum Funkentarget senkrechten Magnetfeldes eingesetzt wird, wird ein ein elementares Zirkon und mindestens einen Stabilisator umfassendes Mischtarget eingesetzt oder ein Zirkoniumtarget aus elementarem Zirkonium wobei dann nebst Sauerstoff, Stickstoff als reaktiv Gas eingesetzt wird. Alternativ kann, kombiniert mit dem Einsatz des Mischtargets, auch, nebst Sauerstoff, Stickstoff als Reaktivgas eingesetzt werden.
摘要翻译：用于在沉积基底上生产氧化锆类层，其中反应性电弧蒸镀脉冲正常的电弧电流和/或应用到无线电目标磁场，一个元素锆和至少一种稳定剂的综合混合靶使用或元素锆，其中的一个Zirkoniumtarget 然后用氧气，氮气作为反应性气体一起使用。可替代地，通过使用混合靶的组合，也可用于除氧气，氮气作为反应性气体。

3. 发明申请

WO2009130148A1 METHOD FOR MANUFACTURING WORKPIECES WITH ION-ETCHED SURFACE 审中-公开
标题翻译：用离子蚀刻表面制造工件的方法
公开(公告)号：WO2009130148A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/EP2009/054463
申请日：2009-04-15
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , GSTOEHL, Oliver , ESSELBACH, Markus
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , GSTOEHL, Oliver , ESSELBACH, Markus
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/00
CPC分类号： H01J37/32 , H01J2237/334
摘要： Planetary carriers (22) for workpieces mounted on a carousel (19) are provided within a vacuum chamber. A source (24) for a cloud comprising ions (CL) is provided so that a central axis (ACL) of the cloud intercepts the rotary axis (A20) of the carousel (19). The cloud (CL) has an ion density profile at the moving path (T) of planetary axes (A22) which drops to 50 % of the maximum ion density at a distance from the addressed center axis (ACL) which is at most half the diameter of the planetary carriers (22). When workpieces upon the planetary carriers (22) are etched by the cloud comprising ions material which is etched off is substantially not redeposited on neighboring planetary carriers but rather ejected towards the wall of the vacuum chamber.
摘要翻译：安装在转盘（19）上的工件的行星架（22）设置在真空室内。提供了用于包含离子（CL）的云的源（24），使得云的中心轴（ACL）拦截转盘（19）的旋转轴线（A20）。云（CL）在行星轴（A22）的移动路径（T）处具有离离约定中心轴（ACL）一定距离处的最大离子密度的50％的离子密度分布，行星架（22）的直径。当行星齿轮架（22）上的工件被包含离子的云所蚀刻时，被蚀刻掉的物质基本上不会重新沉积在相邻的行星齿轮架上，而是朝向真空室的壁喷射。

4. 发明申请

WO2009127714A2 PHOTOVOLTAIC DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING A PHOTOVOLTAIC DEVICE 审中-公开
标题翻译：光伏器件及制造光伏器件的方法
公开(公告)号：WO2009127714A2
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/EP2009/054577
申请日：2009-04-17
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , MEIER, Johannes , KROLL, Ulrich , BAILAT, Julien
发明人： MEIER, Johannes , KROLL, Ulrich , BAILAT, Julien
IPC分类号： H01L31/075 , H01L31/0368
CPC分类号： H01L31/076 , Y02E10/548
摘要： The photovoltaic device comprises a substrate, deposited on said substrate, a first contact layer; a second contact layer; between said first and second contact layers: a first layer stack comprising a first p-doped layer, a first at least substantially intrinsic layer of amorphous hydrogenated silicon and a first n-doped layer; a second layer stack comprising a second p-doped layer, a second at least substantially intrinsic layer of microcrystalline hydrogenated silicon and a second n- doped layer. The thickness of the first at least substantially intrinsic layer is between 160 nm and 400 nm, and the thickness of the second at least substantially intrinsic layer is between 1 μm and 2 μm.
摘要翻译：光伏器件包括沉积在所述衬底上的衬底，第一接触层; 第二接触层; 在第一和第二接触层之间：第一层堆叠，包括第一p掺杂层，第一至少基本上本征的非晶氢化硅层和第一n掺杂层; 第二层堆叠，包括第二p掺杂层，第二至少基本上本征的微晶氢化硅层和第二n-掺杂层。第一至少基本上本征层的厚度在160nm和400nm之间，并且第二至少基本上本征层的厚度在1μm和2μm之间。

5. 发明申请

WO2008037556A2 WORKPIECE WITH HARD COATING 审中-公开
标题翻译：具有硬涂层的工作
公开(公告)号：WO2008037556A2
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：PCT/EP2007/059070
申请日：2007-08-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , FONTAINE, Frédéric , LECHTHALER, Markus , KALSS, Wolfgang
发明人： FONTAINE, Frédéric , LECHTHALER, Markus , KALSS, Wolfgang
IPC分类号： C23C30/00 , C23C28/00 , C08J7/00
CPC分类号： C23C14/0641 , C08J7/047 , C08J7/123 , C23C14/325 , C23C28/044 , C23C28/42 , C23C30/005 , Y10T83/04
摘要： A workpiece has a body (3) and a wear-resistant hard coating system (HL o ), which system comprises a layer of the following composition: (Al 1-a-b-c Cr a B b Z c )X where X is at least one of : N, C, CN, NO, CO, CNO; Z is at least one of : W, Mo, Ta, Cb (Nb). For a, b and c specific ranges of values are valid.
摘要翻译：工件具有主体（3）和耐磨硬涂层系统（HL＆lt; o＆gt;），该系统包括以下组成的层：（Al 1-abc）其中X是N，C，CN，NO，CO，CNO中的至少一种;其中X是至少一个：N，C，CN，NO，CO，CNO; Z是W，Mo，Ta，Cb（Nb）中的至少一种。对于a，b和c的具体值范围是有效的。

6. 发明申请

WO2010003902A1 COATING SYSTEM, COATED WORKPIECE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME 审中-公开
标题翻译：涂料体系，包衣制品及其制造方法
公开(公告)号：WO2010003902A1
公开(公告)日：2010-01-14
申请号：PCT/EP2009/058423
申请日：2009-07-03
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , LECHTHALER, Markus
发明人： LECHTHALER, Markus
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/06 , C23C28/04
CPC分类号： C23C14/0036 , C23C14/0641 , C23C14/0647 , C23C14/0658 , C23C14/0664 , C23C14/067 , C23C14/0676 , C23C14/0688 , C23C28/042 , C23C28/044 , Y10T428/2495 , Y10T428/24975 , Y10T428/265
摘要： The coating system comprises: at least one layer of type A, a layer of type A substantially consisting of (Al y Cr 1-y ) X, wherein X depicts one of the group consisting of N, CN, BN, NO, CNO, CBN, BNO and CNBO, y describing the stoichiometric composition of the metallic phase fraction; and at least one layer of type B, a layer of type B substantially consisting of (AluCr 1-u-v-w Si v Me w ) X, wherein X depicts one of the group consisting of N, CN, BN, NO, CNO, CBN, BNO or CNBO, and wherein Me depicts one of the group consisting of W, Nb, Mo and Ta or a mixture of two or more of the constituents of that group, u, v and w describing the stoichiometric composition of the metallic phase fraction. A thickness ratio of said layer of type A to said layer of type B is higher than 1. The workpiece comprises such a coating system. Through this, an excellent wear-protection is provided, and the coating system and workpieces can be used for a broad range of different applications. The coating system can be deposited very efficiently in a PVD process using two types of targets, wherein targets of one type are active during depositing a layer of type A and during depositing a layer of type B.
摘要翻译：涂层体系包括：至少一层A型，基本上由（AlyCr1-y）X组成的A型层，其中X描述由N，CN，BN，NO，CNO，CBN，BNO 和CNBO，y描述了金属相分数的化学计量组成; 和至少一层B型，基本上由（AluCr1-uv-wSivMew）X组成的B型层，其中X描述由N，CN，BN，NO，CNO，CBN，BNO或CNBO组成的组之一并且其中Me描述了由W，Nb，Mo和Ta组成的组之一，或者描述该组的组分u，v和w的两种或更多种的混合物，其描述了金属相级分的化学计量组成。所述A型层与所述B型层的厚度比高于1.工件包括这种涂层体系。通过这一点，提供了优异的耐磨损保护，并且涂层系统和工件可以用于广泛的不同应用。可以使用两种类型的靶在PVD工艺中非常有效地沉积涂层系统，其中一种类型的靶在沉积A型层期间和在沉积B型层期间是有活性的。

7. 发明申请

WO2009152854A1 METHOD FOR LARGE-SCALE MANUFACTURING OF PHOTOVOLTAIC CELLS FOR A CONVERTER PANEL AND PHOTOVOLTAIC CONVERTER PANEL 审中-公开
标题翻译：用于转换器面板和光电转换器面板的光电池的大规模制造方法
公开(公告)号：WO2009152854A1
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：PCT/EP2008/057716
申请日：2008-06-18
申请人： OERLIKON TRADING AG TRUEBBACH , LEPORI, Daniel , ROSCHEK, Tobias , KROLL, Ulrich
发明人： LEPORI, Daniel , ROSCHEK, Tobias , KROLL, Ulrich
IPC分类号： H01L31/072 , H01L31/075
CPC分类号： H01L31/076 , H01L31/075 , H01L31/1816 , H01L31/202 , Y02E10/548 , Y02P70/521
摘要： So as to improve large-scale industrial manufacturing of photovoltaic cells and of the respective converter panels at a photovoltaic cell with a microcrystalline layer of intrinsic silicon compound (2) at least one of the adjacent layers (3, 1) of doped silicon material is conceived as a an amorphous layer.
摘要翻译：为了改善在本征硅化合物（2）的微晶层的光伏电池的各个转换器面板的大规模工业制造，掺杂硅材料的至少一个相邻层（3,1）的至少一个是构想为非晶层。

8. 发明申请

WO2009133193A1 PLASMA TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA-ASSISTED TREATMENT OF SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：等离子体处理设备等离子体辅助处理基板的方法
公开(公告)号：WO2009133193A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/055307
申请日：2009-04-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , KROLL, Ulrich , LEGRADIC, Boris
发明人： KROLL, Ulrich , LEGRADIC, Boris
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32357 , H01J37/32091 , H01J37/32541 , H01J2237/0206
摘要： A remote plasma source comprises a first plate-like electrode (7 S ) and a second plate-like electrode (7 b ) which are arranged in parallelism and mutually electrically DC isolated. The two electrodes (7 S , 7 b ) are operationally connected to an Rf generator (11). The first electrode (7 S ) has a surface which is freely exposed to a substrate holder (3) and has a pattern of through-openings (19) distributed along its surface extent.
摘要翻译：远程等离子体源包括平行布置且相互电隔离的第一板状电极（7S）和第二板状电极（7b）。两个电极（7S，7b）可操作地连接到Rf发生器（11）。第一电极（7S）具有自由地暴露于衬底保持器（3）的表面，并且具有沿其表面范围分布的通孔（19）的图案。

9. 发明申请

WO2009133189A1 PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR THE PLASMA PROCESSING OF SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：等离子体处理装置和等离子体处理基板的方法
公开(公告)号：WO2009133189A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/055302
申请日：2009-04-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , KROLL, Ulrich , LEGRADIC, Boris
发明人： KROLL, Ulrich , LEGRADIC, Boris
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32357 , H01J37/32091 , H01J37/32541 , H01J2237/0206
摘要： A plasma processing apparatus (30, 50) comprises a process chamber with chamber walls (35), gas inlet means and gas distribution means, exhaust means and a substrate mount (34) for a substrate (33). A conductive plate (51) is arranged within said chamber, electrically connectable with an RF power source (39) facing said conductive plate (51), exhibitting a pattern of openings and arranged at a distance to a backside wall (53) of said chamber so that a process gas delivered to a gap (55) between the conductive plate (51) and said backside wall (53) does not ignite a plasma in the gap (55) during operation. In a second embodiment a first and second electrode (31, 32) are arranged within said chamber adjacent each other with a gap (38) in-between. The first electrode (31) is connectable to a RF power source (39) and the second electrode (32) is connected to ground. The second electrode exhibits a pattern of openings (36) and is arranged at a distance such that a process gas delivered to said gap does not ignite a plasma.
摘要翻译：等离子体处理装置（30,50）包括具有室壁（35），气体入口装置和气体分配装置，排气装置和用于基板（33）的基板安装件（34）的处理室。导电板（51）布置在所述腔室内，可与面向所述导电板（51）的RF电源（39）电连接，具有开口图案，并布置成与所述腔室的后侧壁（53）一定距离使得输送到导电板（51）和所述背侧壁（53）之间的间隙（55）的工艺气体在操作期间不会在间隙（55）中点燃等离子体。在第二实施例中，第一和第二电极（31,32）布置在所述腔室内，彼此相邻，间隙为间隙（38）。第一电极（31）可连接到RF电源（39），第二电极（32）连接到地。第二电极具有开口（36）的图案，并且布置成使得输送到所述间隙的处理气体不会点燃等离子体的距离。

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