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1. 发明申请

WO2009130148A1 METHOD FOR MANUFACTURING WORKPIECES WITH ION-ETCHED SURFACE 审中-公开
标题翻译：用离子蚀刻表面制造工件的方法
公开(公告)号：WO2009130148A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/EP2009/054463
申请日：2009-04-15
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , GSTOEHL, Oliver , ESSELBACH, Markus
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , GSTOEHL, Oliver , ESSELBACH, Markus
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/00
CPC分类号： H01J37/32 , H01J2237/334
摘要： Planetary carriers (22) for workpieces mounted on a carousel (19) are provided within a vacuum chamber. A source (24) for a cloud comprising ions (CL) is provided so that a central axis (ACL) of the cloud intercepts the rotary axis (A20) of the carousel (19). The cloud (CL) has an ion density profile at the moving path (T) of planetary axes (A22) which drops to 50 % of the maximum ion density at a distance from the addressed center axis (ACL) which is at most half the diameter of the planetary carriers (22). When workpieces upon the planetary carriers (22) are etched by the cloud comprising ions material which is etched off is substantially not redeposited on neighboring planetary carriers but rather ejected towards the wall of the vacuum chamber.
摘要翻译：安装在转盘（19）上的工件的行星架（22）设置在真空室内。提供了用于包含离子（CL）的云的源（24），使得云的中心轴（ACL）拦截转盘（19）的旋转轴线（A20）。云（CL）在行星轴（A22）的移动路径（T）处具有离离约定中心轴（ACL）一定距离处的最大离子密度的50％的离子密度分布，行星架（22）的直径。当行星齿轮架（22）上的工件被包含离子的云所蚀刻时，被蚀刻掉的物质基本上不会重新沉积在相邻的行星齿轮架上，而是朝向真空室的壁喷射。

2. 发明申请

WO2013037467A3 VERFAHREN ZUR TEMPERATURMESSUNG VON SUBSTRATEN IN EINER VAKUUMKAMMER 审中-公开
公开(公告)号：WO2013037467A3
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：PCT/EP2012/003759
申请日：2012-09-07
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , ESSELBACH, Markus
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , ESSELBACH, Markus
IPC分类号： G01J5/06 , G01J5/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein Temperaturmesssystem mit einem Temperatursensor und einem Referenzkörper bei dem Mittel zur Ermittlung von Temperaturänderungen des Referenzkörpers und/oder zur Regelung der Temperatur des Referenzkörpers vorgesehen sind, wobei der Referenzkörper, wenn das Temperaturmesssystem im Vakuum eingesetzt wird, zum Temperatursensor keine wesentlichen materiellen Thermobrücken bildet und der Referenzkörper den Temperatursensor derart gegen die Umgebung abschirmt, dass auf die Oberfläche des Temperatursensors lediglich Strahlung gelangt, welche von Oberflächen der Referenz kommt und welche von Oberflächen kommt, deren Temperatur ermittelt werden soll.

3. 发明申请

WO2013037467A2 METHOD FOR THE TEMPERATURE MEASUREMENT OF SUBSTRATES IN A VACUUM CHAMBER 审中-公开
标题翻译：真空室中基体温度测量方法
公开(公告)号：WO2013037467A2
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：PCT/EP2012003759
申请日：2012-09-07
申请人： OERLIKON TRADING AG , KRASSNITZER SIEGFRIED , ESSELBACH MARKUS
发明人： KRASSNITZER SIEGFRIED , ESSELBACH MARKUS
CPC分类号： G01K7/10 , G01J5/0003 , G01J5/0007 , G01J5/061 , G01J2005/0048 , G01J2005/065 , G01J2005/068 , G01K7/04
摘要： The invention relates to a temperature-measuring system, comprising a temperature sensor and a reference body, wherein means for determining temperature changes of the reference body and/or for control of the temperature of the reference body are provided. When the temperature measuring-system is used in a vacuum, the reference body forms no substantial material thermal bridges to the temperature sensor and the reference body shields the temperature sensor with respect to the environment in such a way that only radiation that comes from the surfaces of the reference and from surfaces of which the temperature is to be determined reaches the surface of the temperature sensor.
摘要翻译：本发明涉及一种温度测量系统，其包括温度传感器和设置装置，用于检测所述参考体和/或所述参考体控制的温度的温度变化的基准体，其中所述基准体时的温度测量系统在真空中使用的，没有实质性的物理热桥与温度传感器形式和基准体屏蔽来自环境温度传感器在到达温度传感器仅来自于参考表面和来自表面的其温度要被确定辐射的表面这样一种方式。

4. 发明申请

WO2010083856A1 VAKUUMKAMMER FÜR BESCHICHTUNGSANLAGEN UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER VAKUUMKAMMER FÜR BESCHICHTUNGSANLAGEN 审中-公开
标题翻译：涂料系统的真空室和一种用于生产真空室涂覆系统
公开(公告)号：WO2010083856A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：PCT/EP2009/007703
申请日：2009-10-28
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , ESSELBACH, Markus
发明人： ESSELBACH, Markus
IPC分类号： B01J3/03
CPC分类号： C23C16/44 , C23C14/56 , Y10T29/49826
摘要： Es wird eine Vakuumkammer (1) fϋr Beschichtungsanlagen vorgesehen, wobei die Vakuumkammer (1) eine Bodenplatte (6) und eine Deckelplatte (2) aufweist, welche durch im Wesentlichen senkrecht zu der Bodenplatte (6) und der Deckelplatte (2) verlaufende Streben (4) miteinander verbunden sind, wobei eine Vielzahl von Offnungen (9) durch die Bodenplatte (6), die Deckelplatte (2) und die Streben (4) definiert wird, und wobei zumindest ein Abschnitt einer Frontkante (15') der Bodenplatte (6) und ein Abschnitt einer Frontkante (15) der Deckelplatte (2) zusammen mit zwei Streben (4) eine um eine Offnung (9) der Vielzahl von Offnungen (9) umlaufende Abdichtflache fϋr eine in die Offnung (9) einsetzbare Einsatzplatte (8) bilden. Darϋber hinaus wird ein Verfahren zum Herstellen einer Vakuumkammer (1) fϋr Beschichtungsanlagen bereitgestellt, welches die folgenden Schritte umfasst: Zusammenstecken eines Rahmens, welcher eine Bodenplatte (6), eine Deckelplatte (2) und Streben (4) aufweist, welche die Bodenplatte (6) und die Deckelplatte (2) verbinden, und Verschweiβen der Bodenplatte (6) und der Deckelplatte (2) mit den Streben (4).
摘要翻译：它为f的真空室（1）·R涂装设备提供，其中，所述真空室（1）具有底板（6）和盖板（2），其通过基本垂直于所述底板（6）和所述盖板（2）延伸支柱（4）连接在一起，其中，多个开口部（9）的由底板（6）定义，盖板（2）和支柱（4），并且其中至少所述底部板的前边缘（15“）的一部分（6）和（9）的多个开口（9）在所述开口环绕Abdichtflache为（9），其可用于在盖板（2）的前边缘（15）的具有两个支柱（4）一起的开口的部插入板（8）的形式。？表示有关制造真空室（1）由于F R涂层设备，提供还包括以下步骤的方法：配合具有框架的底板（6），盖板（2）和支柱（4），其底板（6）和所述盖板（2）和所述基板（6）的焊接和盖板（2）连接至所述支柱（4）。

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