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热词
    • 1. 发明申请
    • 固体撮像素子
    • 固态成像元件
    • WO2011004708A1
    • 2011-01-13
    • PCT/JP2010/060661
    • 2010-06-23
    • 株式会社島津製作所国立大学法人東北大学近藤 泰志冨永 秀樹田窪 健二廣瀬 竜太須川 成利武藤 秀樹
    • 近藤 泰志冨永 秀樹田窪 健二廣瀬 竜太須川 成利武藤 秀樹
    • H01L27/146
    • H01L27/14603H01L27/14607H01L27/14609H01L27/1461
    •  埋め込み型のフォトダイオードの受光面の端部に、転送ゲート電極(12)を挟んでフローティングディフュージョン領域(13)を形成する。略扇形状の受光面の中に、FD領域(13)を中心とした放射状の延出部を有する第1領域(111)とその外側の第2領域(112)とを設け、第1領域(111)に収集する信号電荷と同じ導電型の不純物を導入することにより、3次元電界効果によって、信号電荷を放射状の延出部から中心に向かわせる電界を形成することができる。その結果、電荷の転送時間が短縮される。また、FD領域(13)に隣接して次段の回路素子を配設できるので、FD領域(13)の寄生容量を小さくすることができ、高感度の素子を実現できる。これにより、100万フレーム/秒程度以上ものきわめて高速度の撮影に対応した固体撮像素子において、撮影の高速性を損なわずに検出感度やS/Nを向上させることが可能となる。
    • 在嵌入式光电二极管的光接收表面的边缘处形成浮动扩散(FD)区域(13),并且在其间具有传输栅电极(12)。 在大致扇形的光接收表面上形成有位于FD区域(13)中心的径向延伸部分的第一区域(111)和位于所述第一区域外部的第二区域(112)。 导入与在第一区域(111)中收集的信号电荷相同的导电性的杂质,根据三维电场效应形成电场,该电场将来自径向延伸部分的信号电荷引导到 中央。 结果,电荷转移时间减少。 此外,由于用于后级的电路元件可以被布置为与FD区域(13)相邻,所以可以减小FD区域的寄生电容并且可以获得高灵敏度的元件。 因此,可以提高固态成像元件的检测灵敏度和S / N,以非常快速地成像(每秒百万帧/秒以上),而不会降低成像速度。
    • 7. 发明申请
    • 等倍X線露光方法及び等倍X線露光装置
    • 一对一X射线曝光方法和一对一X射线曝光装置
    • WO2007029303A1
    • 2007-03-15
    • PCT/JP2005/016228
    • 2005-09-05
    • 大見 忠弘須川 成利柳田 公雄武久 究
    • 大見 忠弘須川 成利柳田 公雄武久 究
    • H01L21/027G03F7/20G03F1/16
    • G03F7/7035G03F7/70716
    •  複数の同じパターン11が上下一列に並ぶように形成されている等倍マスク12を用い、X線10を等倍マスクの一つのパターンに照射される。等倍マスク12のパターンを通過したX線が、ウエハステージ14に固定されているウエハ15に照射されて、パターン露光が行なわれる。等倍マスク12は、マスクステージ13に固定されており、マスクステージ13は、ウエハステージ14内で、左右に往復移動できるようになっている。また、ウエハステージ14は、垂直ステージ16内で上下に往復移動できるようになっている。ウエハ15の全面にパターン露光するには、X線10が等倍マスク12のパターン11における一番上を照射させながら、垂直ステージ16によって、等倍マスク12とウエハ15の両方を上方に移動させている。これによって、上下一列のパターン11の全部にX線10が照射することで、ウエハ15における上下一列分にパターン露光される。
    • 使用其上形成有垂直排列的多个相同图案(11)的一对一掩模(12),以一对一的方式将X射线(10)应用于一种图案 面具。 通过一对一掩模(12)上的图案的X射线被施加到固定到晶片台(14)的晶片(15)以执行图案曝光。 一对一掩模(12)固定到能够在垂直平台(16)内能够垂直往复运动的晶片台(14)内能够进行水平往复运动的掩模台(13)。 为了执行晶片(15)的整个表面的图案曝光,当在一对一掩模(12)上将X射线(10)施加到图案(11)的顶部时, 一对一掩模(12)和晶片(15)都通过垂直级(16)向上移动。 通过这种方式,将X射线(10)施加到所有垂直排列的图案(11),并且因此在晶片(15)中的一个垂直列上执行图案曝光。